【課題】ガラス基板をリフトアップした直後の狭い間隙に軟Ｘ線を正確に照射する。
【解決手段】軟Ｘ線除電装置１４からの軟Ｘ線を間隔ｄに導入し、軟Ｘ線光軸モニタ１６で検出し、その検出出力で取り付け位置調整手段１５を調整して、光軸合わせを行う。次に、データベース１９の情報に基づいて、制御装置１７が間隔調整手段１３を制御しながら、除電を行う。また、電位計１８によって計測された帯電電位を制御装置１７で許容値以内であるか、除電状況を判断しながら、間隔調整手段１３で間隔ｄを制御して除電することもできる。 （もっと読む）

【課題】可撓性給気管から発塵したとしても除塵ヘッドから噴射する前にその塵埃を捕集することで基板の汚染を防止し、除塵能力を高めた可動式除塵装置を提供する。
【解決手段】可撓性を有する第１弾性材製給気ホース１５・第２弾性材製給気ホース１９の下流であって除塵ヘッド１２の上流の流路に配置される第１フィルタ１３・第２フィルタ１７が第１弾性材製給気ホース１５・第２弾性材製給気ホース１９の屈曲時に管内に発生した異物を捕集して清浄エアを除塵ヘッド１２へ給気することで、除塵能力を高めた可動式除塵装置１０とした。 （もっと読む）

【課題】製造工程を効率化しつつ基板に帯電した静電気を好適に除去することができる静電気除去装置及び静電気除去方法を提供する。
【解決手段】処理装置は、基板が載置されるステージ１２と、ステージ１２に挿通されステージ１２から先端部を出没させて基板を昇降させるリフトピン１６とを備える。リフトピン１６には、イオナイザから供給されたイオン化ガスを基板の裏面に吹き付ける流路（２１ａ，２２ａ，２３ａ）が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 単結晶ケイ素およびウェファーの製造工程でＳｉ基材を洗浄及び／又はエッチングするときに、基材の損傷を最小化しつつ高平滑度に仕上げる改良された表面処理用の組成物を提供する。
【解決手段】 組成物は、硝酸塩とフッ化水素酸より腐蝕性の低いフッ化物とを有効成分として含んで成る。硝酸塩のフッ化物に対する重量比を１：９〜９：１の範囲、より好ましくは、硝酸塩のフッ化物に対する重量比を３：７〜７：３の範囲とする。反応促進剤及び／又は界面活性剤を添加することができ、反応促進剤を添加する場合の濃度は、３０〜９０重量％の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液としてのＳＰＭを供給するためのＳＰＭノズル１２と、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面に有機溶剤と窒素ガスとを混合して得られる混合流体を供給するための二流体ノズル１３とが備えられている。二流体ノズル１３からウエハＷの表面に混合流体が供給されることにより、レジストの表面の硬化層が破壊された後、ＳＰＭノズル１２からウエハＷの表面に高温のＳＰＭが供給されて、ウエハＷの表面からレジストが剥離される。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストストリッパを用いることなくフォトレジストを除去することによって、低コストでパターンを形成し且つ液晶表示素子を製造できるパターン形成方法及びそれを用いた液晶表示素子製造方法を提供する。
【解決手段】パターン形成方法は、基板１００上にパターン物質層２００ａ、変形物質層２５０ａ及びフォトレジスト層３００ａを順次形成する工程と、マスクを用いた露光及び現像工程でフォトレジスト層３００ａをパターニングする工程と、パターニングされたフォトレジスト層３００ａをマスクとして変形物質層２５０ａ及びパターン物質層２００ａを選択的にエッチングする工程と、光を照射してリフトオフ法で変形物質層を除去すると同時に、パターニングされたフォトレジスト層を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】この発明は超音波振動が与えられる処理液の温度上昇を防止することで、基板にダメージを与えずに洗浄処理できるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】超音波振動を与えた処理液によって基板を処理する基板の処理装置であって、直方体状であって、長手方向の一端部の下面に開口するとともに長手方向の他端部に向かって傾斜して形成された処理液の供給路３５を有する発振体３２と、発振体の上面に設けられ発振体を超音波振動させる振動子３４と、供給路に供給される処理液を冷却する熱交換器とを具備する。 （もっと読む）

【課題】放電ランプによる紫外光の照射エネルギを最大限に活用して、基板に対する親水化処理を効率的に行う。
【解決手段】搬送手段２により基板１を概略水平搬送する間に、処理チャンバ４内に設けた放電ランプ３により、その被処理面１Ａに対して３ｍｍ以下の距離から１７２ｎｍを主波長とする紫外光が照射され、かつ処理チャンバ４では供給配管５からガス貯留室７に５５％〜８０％の水蒸気を含む湿潤不活性ガスが供給されており、処理チャンバ４内に層流状態のダウンフローが形成され、被処理面１Ａに付着している有機物質が分解されて低分子化し、雰囲気中における水蒸気が分解されて、酸化性のラジカルと還元性のラジカルと分解物と反応して空気中に放出され、基板１の被処理面１Ａの親水化処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】熟練を必要とせず、短時間で行うことができ、処理基板の品質の低下を規制して接着剤残渣を除去する表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置の製造方法は、接着剤残渣１２が残った液晶表示パネル１０を準備する準備ステップと、準備ステップで準備した液晶表示パネル１０の接着剤残渣１２を覆うように転移用接着剤１３を供給する転移用接着剤供給ステップと、転移用接着剤供給ステップで供給した転移用接着剤１３を転移用被着体１４を用いて液晶表示パネル１０側に押圧し溶融温度以上に加熱する押圧・加熱ステップと、押圧・加熱ステップで固着した転移用接着剤１３及び接着剤残渣１２を転移用被着体１４と共に液晶表示パネル１０から加熱しながら剥離する加熱・剥離ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ワークに付着したゴミを確実に除去でき、設置場所を選ばないコンパクトな清掃装置を提供する。
【解決手段】対向的に配置される清掃ローラ４ａ〜４ｃを有する清掃ユニット３をベース２に回動自在に取り付け、ワークＷを垂直方向に搬送して、ワークＷに付着したゴミを除去する。 （もっと読む）

【課題】現像により樹脂層が除去されて形成された光反射膜の露出領域において、光反射率を測定することにより、現像液の交換時期を適切に判断して、樹脂層の現像不良の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法、電気光学装置の検査方法を提供する。
【解決手段】基板上に樹脂膜を備えた電気光学装置の製造方法において、基板上に光反射膜を形成するための光反射膜形成工程と、光反射膜上に重なるように感光性樹脂材料を塗布して樹脂層を形成する塗布工程と、樹脂層に対して、パターン露光をする露光工程と、樹脂層に対して、現像液を適用して所定形状の樹脂膜を形成し、少なくとも光反射膜の一部を露出させる現像工程と、を含み、更に、光反射膜が露出した領域における光反射率を測定するための光反射率測定工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の熱処理時間を短くすることでガラス収納枚数を低減し、外形の小型化を実現することができるガラス基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板処理装置１は、加熱室２を備え、加熱室２は、公知の断熱材で作られた断熱壁３で６面が覆われている。加熱室２には、排気ダクト２１が取り付けられている。排気ダクト２１は、加熱室２の天井面に接続されている。加熱室２の内部には、基板載置部材３０と複数のハロゲンヒータ３１が設けられている。ガラス基板３２の加熱は、主としてハロゲンヒータ３１によって行われる。 （もっと読む）

【課題】強酸および強アルカリの溶媒を使用しないで、複数の煩雑な手順を踏むことなく、ガラス基板上に多層に形成された金属及び／又は樹脂系の材料からなる薄膜を短時間で効率よく除去し、再生可能なガラス基板にするための薄膜除去方法を提供する。
【解決方法】基板表面に積層して形成された複数層からなる薄膜を除去するに際し、この薄膜が形成された基板表面を研磨剤により物理的に研削し、該基板表面に形成された薄膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルのギャップ精度や液晶の温度特性に影響を与えることなく液晶パネルに貼付された偏光板をパネルから容易に剥離可能な偏光板剥離用治具、及びこれを用いた偏光板剥離装置並びに偏光板剥離方法を提供すること。
【解決手段】 偏光板２０２と液晶パネル２００との間にリン青銅からなり傾斜角度が１５゜〜６０゜の範囲であり、硬度１２０Ｈｖ以上、１９０Ｈｖ以下の金属素材からなる偏光板剥離用治具１０を挿入し、その冶具１０を長手方向に移動させながら偏光板２０２を液晶パネル２００から剥離する。 （もっと読む）

【課題】液晶型投射システム用のコントラスト強化を提供する。
【解決手段】暗状態におけるＬＣパネルの面内及び面外の位相差を補償する傾斜型補償器を記載する。これには、ＬＣパネルと光学投射システムにおけるその他の光学コンポーネント両方による望ましくない偏光効果を補償するのに有効な、単層傾斜型２軸位相差器もしくは二以上の２軸フィルムを含む複合型位相差器が含まれる。望ましくない反射光を投射システムの光路から逸れるように偏向させる傾斜型補償器についても記載する。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスをはじめとする基体から、ポリマー物質を除去するため
に有用な組成物および方法を提供する。該組成物および方法は、下地金属表面の腐蝕を低減し、電子デバイス基板からのポリマー残留物の除去に特に適する。
【解決手段】 基体からポリマー物質を除去するための組成物であって、他価アルコール、グリコールエーテル溶媒およびＮ−メチルピロリドンを含む組成物。 （もっと読む）

【課題】 配向膜の水分を効率的に除去することのできる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶装置の製造方法は、第１基板と第２基板の少なくとも一方に配向膜を形成する工程（工程Ｓ１）と、前記第１基板と前記第２基板とをシール材を介して貼り合わせる工程（工程Ｓ３）と、前記第１基板と前記第２基板との間に乾燥媒体を供給する工程（工程Ｓ４）と、前記乾燥媒体を排出し、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を供給する工程（工程Ｓ６）とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トレーの移動機構が必要でなく、装置全体の価格が安価となり、生産性が良くなり、長大寸法のガラス板の中央部分がたわむことがなくなる。
【解決手段】 積層部１６は導入部１４からの被加工物１２を１タクトタイム毎に受け入れるが、予備加圧加熱する部所１８の積層手段５０、加圧加熱脱泡処理を行なう部所２０の積層手段５２、５４、５６、及び減圧部２２の積層手段５８が０．５タクトタイムに対応して作動する。また、積層手段３２、５０、５２、５４、５６、５８の各々が、被加工物の進行方向に間隔を置いて配置されている複数のスタッカ手段と、被加工物を進行方向に搬送するローラ手段と、を有し、これらの各スタッカ手段には被加工物の進行方向に直交する方向に伸びる開口部が積層配置されている。 （もっと読む）

【課題】 粘着材上に付着した異物を容易にかつ確実に採取することのできる粘着材上の異物の採取方法を提供すること。
【解決手段】 採取する異物１４の近傍に、鋭角な先端を有する刃１５を配置し、刃１５の先端を前記異物１４の下方の粘着材１２に潜り込むよう前進させ、先細の針状部材１６により前記異物１４を前記刃１５上に押し上げる （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１基板の第１面に界面活性剤を付与する段階と、前記第１基板を処理する段階と、を含む。これにより、液晶表示装置の製造工程中の電荷を外部に円滑に放電させて、静電気不良を防止する。したがって、表示装置の表示状態を優れた状態に維持することができる。 （もっと読む）