【課題】液晶セルに反りや曲がり等が生じて変形していたとしても、極めて正確にＩＣ基板をＴＡＢ搭載できるようにする。
【解決手段】セル矯正手段４０を構成する上下一対の矯正パッド４１ａ，４１ｂは昇降用シリンダ４６ａ，４６ｂにより昇降駆動されて、相互に近接・離間する方向に変位可能となっており、矯正パッド４１ａ，４１ｂを矯正作動状態としたときには、液晶セル１が変形した状態になっていても、ＩＣ基板１０が搭載される位置では、ほぼ水平となるように矯正され、この状態でアライメントマーク６，１５を基準として位置ずれの有無を検出して、ＩＣ基板と液晶セルとの間をアライメントする。 （もっと読む）

【課題】製造工程の増加を抑制して、製造工程において、プラスチック基板の変形及び支持基板からの剥離を抑制すると共に、プラスチック基板と支持基板との間への処理液の侵入を抑制する。
【解決手段】支持基板１に支持させたプラスチック基板１１を処理室に搬入した後にその処理室の内部を真空引きする真空引き処理よりも前にプラスチック基板１１に貫通孔１１ａを形成した後に、真空引き処理を行ったときにプラスチック基板１１と支持基板１との間に介在する気体を貫通孔１１ａを介して外部に排出させるように構成された蓋部材３によって貫通孔３を覆うようにした。 （もっと読む）

【課題】積層体中の被剥離体に損傷を与えず、短時間で被剥離体を転写体への転写する方法の提供を課題とする。また、基板上に作製した半導体素子を、転写体、代表的にはプラスチック基板に転写する半導体装置の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層と被剥離体を形成し、両面テープを介して被剥離体と支持体を接着し、剥離層と被剥離体を物理的手段によって剥離した後被剥離体を転写体に接着し、被剥離体から支持体と両面テープを剥離することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】
制御装置は、第１サンプリング窓および第２サンプリング窓の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１）。制御装置は、選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されるか否かを監視している（ステップＳ２）。選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御装置は薬液キャビネット内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ４）、警報器から所定の警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ５）。 （もっと読む）

【課題】廃液処理の問題がなく設備費などを抑えながら、清浄効率や効果に優れた表面清浄化方法及び装置を提供する。
【解決手段】水中燃焼による表面清浄化方法であり、被洗浄物を保持しかつ被洗浄物表面を冠水ないしは水中に浸すとともに、燃焼炎を被洗浄物表面に該表面上の水を排除しながら照射し、該燃焼炎及び該燃焼炎にて発生する活性種に被洗浄物表面を曝すことにより該被洗浄物表面の汚染物を除去するようにした。また、前記燃焼炎は、保炎器を介して前記被洗浄物側へ照射されるとともに、前記被洗浄物が所定温度となるよう制御されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 １つの領域を複数の露光領域に分割して露光するステップを複数回行って製造したＴＦＴ基板を有する液晶表示装置における画質むらの発生を抑制する。
【解決手段】 絶縁基板の表面のうちのあらかじめ定められた１つの領域に対して、成膜された感光性材料の膜を露光するステップおよび露光した前記感光性材料の膜を現像するステップを有する露光／現像工程を複数回行う表示装置の製造方法であって、それぞれの前記露光するステップは、前記１つの領域を、互いに重畳する部分がなく、かつ、他の前記露光するステップのうちの少なくとも１回の前記露光するステップにおける前記露光領域の境界線と一致しない境界線により複数の露光領域に分割し、それぞれの露光領域を個別に露光することで前記１つの領域全体を露光する表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の被洗浄表面を基板の一度の相対移動工程中に確実に洗浄することができる基板洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板１の被洗浄表面を洗浄する複数の洗浄手段４、５、６が並列して配設されるとともに基板１の被洗浄表面を複数の洗浄手段４、５、６に対して相対移動させる移動手段３を備え、複数の洗浄手段４、５、６を構成する第１の洗浄手段は、大気圧プラズマを吹き出すプラズマ洗浄手段６であり、プラズマ洗浄手段６は、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマ３６を吹き出す誘導結合型プラズマ発生部３３と、第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域４０に一次プラズマ３６を衝突させてプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマ４１を発生するプラズマ展開部３７とを有している。 （もっと読む）

【課題】大型のガラス基板を一度に大量に処理できる縦型の高圧アニール水蒸気処理装置を提供する。
【解決手段】圧力容器２２が横臥状態に配置された円筒形状の中間胴部２２Ａと該中間胴部の一方の端部に配置された蓋部材２２Ｂと該中間胴部の他方の端部に配置された密閉部材２２Ｃとを有し、反応容器２４が一端部が閉じられ他端部が開放された容器本体２４Ａと該容器胴部の開放他端部を閉鎖する閉鎖部材２４Ｂとを有し、反応容器の容器本体２４Ａが圧力容器の中間胴部２２Ａの胴部保持手段６０及び反応容器位置決め構造体により浮上支持され、反応容器の閉鎖部材２４Ｂが圧力容器の密閉部材２２Ｃの係止手段、把持手段及び連結手段により浮上支持され、反応容器２４内にカセットユニット保持台４０が設けてあり、反応容器２４と圧力容器２２との間に反応容器支承手段が設けてある高圧アニール水蒸気処理装置。 （もっと読む）

【課題】処理チェンバーにワークを搬入・搬出する操作を効率化し、ワークの処理効率を向上させる処理装置および処理方法を提供する。
【解決手段】第１の給排口と第２の給排口とが設けられた処理チェンバー１０を備える処理装置であって、前記第１の給排口を介してワーク３０を給排する操作を行う第１の搬送機構と、前記第２の給排口を介してワーク３０を給排する操作を行う第２の搬送機構と、前記第１の搬送機構により搬入されて処理されたワーク３０ａを前記第２の搬送機構に受け渡し、前記第２の搬送機構により搬入されて処理されたワーク３２ａを第１の搬送機構に受け渡す交換手段と、前記第１の搬送機構と第２の搬送機構を駆動し、前記第１の給排口と前記第２の給排口から交互に未処理のワークを前記処理チェンバーに供給して処理する制御部２２とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理槽に温度制御部を必要としない薬液処理槽及びそれを用いた薬液処理装置を提供することにある。
【解決手段】断熱材１２で覆われた処理槽１０の内部において、被処理物１９を単品又はバッチで処理を行う処理部６０と、所定の温度に設定された液３３を貯える貯液部１４−１とを有し、処理槽１０の内部及び被処理物１９を、貯液部１４−１に蓄えられた液の熱伝導又は熱放射により加熱又は冷却して、所定の温度に維持する。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用ガラス基板等を載置して繰り返し熱処理を行うことにより変形が生じた結晶化ガラス製セッターを廃棄することなく、再びディスプレイ用ガラス基板の熱処理用セッターとして使用できる方法を提供することである。
【解決手段】本発明の結晶化ガラス製セッターの再利用方法は、ディスプレイ用ガラス基板を載置した状態で加熱炉内に送給される結晶化ガラス製熱処理用セッターの再利用方法であって、繰り返し熱処理を行うことで発生する反りを有する結晶化ガラス製熱処理用セッター表面を研磨し、ディスプレイ用ガラス基板の熱処理用セッターとして再び利用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ精度の経時的な変化を排除し、安定した位置合わせ精度が得られる部品実装方法を提供する。
【解決手段】表示パネルを支持する支持ステージと、部品を保持する移載ヘッドとを備えた部品実装装置において、表示パネルに対し部品を実装する実装方法であって、表示パネルおよび部品には、それぞれ位置決めの基準となるマークが定められており、表示パネルのマークと部品のマークとを認識し（Ｓ６１、Ｓ７１）、認識の結果から、表示パネルの回転方向と部品の回転方向とが揃っているか否かを判定し（Ｓ７３）、肯定判定されるまで部品の回転方向補正を行い（Ｓ７４〜Ｓ７６）、その後、部品のＸ、Ｙ位置補正量を算出し（Ｓ７７）、算出されたＸ、Ｙ位置補正量に従ってＸＹ平面移動による位置合わせを行い（Ｓ４１、Ｓ４２）、表示パネルに部品を実装する（Ｓ４３）。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ精度の経時的な変化を排除し、安定した位置合わせ精度が得られる部品実装方法を提供する。
【解決手段】表示パネルを支持する支持ステージと、部品を保持する移載ヘッドとを備えた部品実装装置において、表示パネルに対し部品を実装する実装方法であって、表示パネルおよび部品には、それぞれ位置決めの基準となるマークが定められており、表示パネルのマークと部品のマークとを認識し（Ｓ６１、Ｓ７１）、認識の結果から、表示パネルの回転方向と部品の回転方向とが揃っているか否かを判定し（Ｓ７３）、肯定判定されるまで部品の回転方向補正を行い（Ｓ７４〜Ｓ７６）、その後、部品のＸ、Ｙ位置補正量を算出し（Ｓ７７）、算出されたＸ、Ｙ位置補正量に従ってＸＹ平面移動による位置合わせを行い（Ｓ４１、Ｓ４２）、表示パネルに部品を実装する（Ｓ４３）。 （もっと読む）

【課題】ドラムを用いた場合の品種の切り替えを容易かつ低コスト化を実現し、表示用パネルへ光学フィルムを貼付する際に発生する気泡や異物巻き込みなどといった貼付不良が生じないようにする。
【解決手段】ドラム手段の外周面に設けられた粘着性のゴム部材を用いて、光学フィルムを密着保持して、光学フィルムを表示用パネルに貼り付ける。さらに、粘着性のゴム部材を備えた第１及び第２のドラム手段を用いて第１及び第２の光学フィルムを密着保持し、表示用パネルの左右両側からほぼ同時に貼り付けるようにした。 （もっと読む）

【課題】ドラムに光学フィルムを保持して、表示パネル基板の両面にほぼ同時に光学フィルムを貼り付ける際に光学フィルムを表示パネルに均一に押し付けて高品質の貼り付け処理を行なえるようにする。
【解決手段】表示用パネルに光学フィルムを貼り付ける際に、両者を垂直方向に対して所定角度傾斜した状態に傾斜起立させて、この傾斜起立した状態で偏光板を傾斜したドラムに保持して、このドラムを回転制御することによって表示用パネルの両面（第１主表面（ＣＦ面）及び第２主表面（ＴＦＴ面））にほぼ同時に光学フィルムを貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】多数の吸着孔を備えた吸着ドラムを用いた場合の品種の切り替えを容易かつ低コストに実現する。
【解決手段】吸着ドラムを円筒形状のドラム（薄板状のパネルを円筒状に巻き回したドラム）で構成し、この肉厚部分に回転軸と略平行な直線状の空洞部を光学フィルムの先端部及び後端部にそれぞれ対応した位置に設け、この空洞部に沿ったドラムの外周面に吸着孔を設けることによって、光学フィルムの先端部及び後端部を吸着保持して、光学フィルムを貼り付けるようにしたものである。このように空洞部及び吸着孔を品種の異なる光学フィルムの先端部及び後端部に予め対応付けて設けることによって、品種の切り替えを容易にでき、低コストを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】電子工業用で使用可能な純度の高価な剥離液の補充を少なくし、剥離液廃液から従来より高い回収率で精製剥離液を再生することのできる新規な剥離液の高収率再生方法および装置の提供。
【解決手段】液晶ディスプレイパネルの製造工程から排出されるレジストを含有する剥離液廃液からレジストを分離除去し、剥離液を再生する方法において、剥離液廃液中のレジスト重量に対し０．０１〜０．２倍重量のアルカリを添加することを特徴とする剥離液の再生方法および装置。 （もっと読む）

【課題】基板搬送に要する時間を短くすることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＦＯＵＰ搬送ロボット２０は、複数枚の基板が収納されたＦＯＵＰ８０をロードポート１０とＦＯＵＰ載置台３０との間で搬送する。インデクサロボット４０は、ＦＯＵＰ載置台３０に載置されたＦＯＵＰ８０に収納された基板Ｗ（未処理基板）を基板受渡部５０を介して洗浄処理部６０に渡すとともに、洗浄処理部６０でスクラブ洗浄処理された基板Ｗ（処理済み基板）を基板受渡部５０を介して受け取ってＦＯＵＰ８０に収納する。ＦＯＵＰ載置台３０は、インデクサロボット４０の周囲に複数個設けられる。したがって、インデクサロボット４０は基板Ｗを搬送するにあたって水平方向に沿って移動する必要がない。これによって基板搬送に要する時間を短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】目標量の液晶を安定的に吐出すること。
【解決手段】電源回路１１から圧電素子１０に駆動電圧が印加されたときにはプッシャ３６が下降した後に上昇する。このプッシャ３６の下降時にはダイヤフラム１６が押圧されることに基づいて圧力室１３内の液晶が吐出口１４から吐出され、プッシャ３６の上昇時にはダイヤフラム１６が弾性復帰することに基づいて液晶室２３内の液晶が圧力室１３内に補充される。この圧力室１３内に液晶が補充されたときには電圧検出器３８から出力される電圧信号が標準値と比較され、プッシャ３６を下降させるための吐出電圧が両者の比較結果に応じて補正される。このため、プッシャ３６から圧力室１３内の液晶に加わる圧力が液晶の現在の充填量に応じてコントロールされるので、圧力室１３の吐出口１４から目標量の液晶を安定的に吐出することができる。 （もっと読む）

【課題】電極パターンを形成するためのフォトマスクを大型化することなく、大型の表示パネルにおける電極パターンを良好に形成できるようにする。
【解決手段】表示パネルの基板上に形成される電極パターンを該電極パターンが延びる方向に沿って複数の分割パターンに分割し、該分割パターンの露光時だけ露光される露光パターンが形成された非重ね露光部と、隣接する分割パターンの一部と重ね合わされる露光パターンが形成された重ね露光部とを有し、重ね露光部における露光パターンが非重ね露光部における露光パターンよりも低い透過率のフォトマスクを用いて多重露光することで、形成される電極パターンにおける線幅の変動を抑制し、良好な電極パターンを形成できるようにする。 （もっと読む）