【課題】所定長さに切断するだけで、各々の吸収軸が直交するように光学表示ユニットに貼り合わせることができ光学表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】偏光板を第１ロールＲ１から長尺シート状で引き出して、光学表示ユニットＷの長辺に対応する長さに切断した後に、前記光学表示ユニットＷの一方表面に第１光学フィルムＦ１１を貼り合せる第１切断貼合装置Ｍ２，Ｍ３と、他方の偏光板を第２ロールＲ２から長尺シート状に引き出して、前記光学表示ユニットＷの短辺に対応する長さに切断した後に、前記光学表示ユニットＷの他方表面に第２光学フィルムＦ２１を貼り合せる第２切断貼合装置Ｍ５，Ｍ６と、前記第１切断貼合装置又は前記第２切断貼合装置のいずれか一方の切断貼合装置で貼り合せた後の光学表示ユニットＷを、他方の切断貼合装置での貼り合せ方向に旋回させる旋回装置２０とを含む光学表示装置の製造システム。 （もっと読む）

【課題】真空注入方式の液晶装置の製造方法において、液晶パネルに傷をつけたり、液晶パネルの強度を低下させることなく、封止材のはみ出し部分を除去することが可能な液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】一対の基板間に液晶層５０を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、一対の基板のうちの一方の基板１０の周縁部に液晶層５０を構成する液晶５０ａの注入口５４を有する平面視枠状のシール材５１を形成する工程と、一対の基板をシール材５１を介して対向させて貼り合わせる工程と、シール材５１に囲まれた内部に注入口５４から液晶５０ａを注入し、注入口５４を樹脂からなる封止材５５により封止する工程と、液晶５０ａの封止された一対の基板を洗浄する工程と、を備え、液晶５０ａの封止された一対の基板を洗浄する工程において、水系界面活性剤または準水系界面活性剤を洗浄液に用いて、処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 シート基板が部分的に伸縮している場合でも高精度に表示素子を製造するため、高精度に位置検出できる表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】 製造装置（１００）は、所定幅の可撓性の長尺基板（ＦＢ）に表示素子（５１）を製造する製造装置である。この製造装置（１００）は、長尺基板（ＦＢ）を送り方向（Ｘ方向）に送り出す基板送り出し部（ＦＲ）と、長尺基板の幅方向の第１領域に対して加工する第１加工部（ＥＸ１）と、長尺基板の幅方向で第１領域と異なる第２領域に対して加工する第２加工部（ＥＸ３）と、長尺基板の幅方向に互いに離間して形成された第１マーク（ＡＭ１）、第２マーク（ＡＭ２）及び第３マーク（ＡＭ３）を検出するマーク検出部と、を備える。そして第１マークと第２マークとに基づいて第１加工部の位置調整を行い、第２マークと第３マークとに基づいて第２加工部の位置調整を行う。 （もっと読む）

【課題】表示パネルモジュール組立装置において、各処理作業装置を必要最小幅での連結を可能し、表示パネルモジュール組立装置の装置全長を短くする。さらに、小型から大型基板まで幅広いサイズの基板を高精度かつ高速に処理可能な表示パネルモジュール組立装置を提供する。
【解決手段】一定方向、特に基板搬送方向に細長い基板保持部材と基板搬送部材を複数並置することで、基板保持手段と基板搬送手段を一体化し、小型から大型基板まで搬送可能な基板保持・搬送手段を実現する。また、各処理作業位置の表示パネル基板を同一タイミングで一括搬送することで、各処理作業装置を必要最小幅での連結を可能とした。
さらに、搬送動作後の基板搬送手段を基板処理作業時間内に搬送上流側に移動させることで、高精度かつ高速な基板搬送および処理動作を実現した。 （もっと読む）

【課題】 高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置（１００）を提供する。
【解決手段】 表示素子の製造装置は、表示素子（５０）を可撓性の基板（ＦＢ）に形成する。この製造装置は可撓性の基板（ＦＢ）を第１方向に搬送する搬送部（４５、４６）と、第１方向と交差する第２方向に回転して可撓性の基板（ＦＢ）に表示素子（５０）用の隔壁を形成する第１の隔壁形成ローラ部（１０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ基板上の着色画素パターンの角度をもった位置ズレに起因する色抜けＮ２、色重なりＫ２を検出するカラーフィルタの検査方法を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ基板１０の一方の端部ｃの画素領域の情報と、他方の端部ｄの画素領域の情報を撮像装置１２にて各々検出し、各情報の比較を行い色抜け及び色重なり欠陥を検出する。検出する情報は、撮像領域の各画素から得られる彩度平均値とする。一方の端部の情報から、他方の端部の情報を引き算し、予め設定した数値から外れていた場合に欠陥として検出する。 （もっと読む）

【課題】フィルム表面形状を定量的に測定する場合に、フィルムの固定方法などによる測定データへの影響を最小限に抑制することのできるフィルム表面形状測定用固定治具とその測定方法を提供すること。
【解決手段】フィルム表面の形状又はフィルム表面に形成された構造物の形状を測定する際に使用するフィルム固定治具であって、フィルム表面の測定領域の周囲部をフィルムの上下両側方向から挟持する機構、及びフィルムのＸＹ平面の両外側方向に引張る機構を有し、好ましくはフィルムの上下両側方向から挟持する機構が、平行平板の固定冶具でフィルムの上下両側から挟持するものであるフィルム表面形状測定用固定冶具。 （もっと読む）

【課題】より簡単な構造でワークを吸着保持して、ワーク貼合面への空気のかみ込みを解消でき、貼合製品の歩留まりを向上できるワーク貼合装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー２の内部に固定貼合台４とダイヤフラム膜６を備えた可動貼合台５とを対向配置し、固定貼合台４およびダイヤフラム膜６に第１ワークＷ１と第２ワークＷ２を装着する。ダイヤフラム膜６は、一群の通気口１８が形成されたゴム板で形成し、可動貼合台５に設けた空圧凹部１４の開口面の全体を覆う状態で固定する。ダイヤフラム膜６で吸着保持した第２ワークＷ２を第１ワークＷ１と正対させ、真空チャンバー２内に真空圧を作用させる。この状態で、第２ワークＷ２の吸着状態を解除し、同時に加圧空気を空圧凹部１４に作用させて、ダイヤフラム膜６を膨張させ、第２ワークＷ２を中央部から周縁部へと押圧して第１ワークＷ１に貼合する。 （もっと読む）

【課題】処理対象とする基板のサイズが大きく変化しても、長辺側，短辺側のいずれを処理する際にも、何等の変更を加えることなく、基板を円滑に搬送、位置決め可能とする。
【解決手段】基板処理装置のステージ１０〜１３間にパネル基板１を搬送する基板搬送手段１４は、基板ピッチ送り駆動部３０と、基板支持部３１と、基板フローティング部３２とから構成される。基板ピッチ送り駆動部３０は、可動ビーム４０と、この可動ビーム４０を昇降及び前後動させる駆動部材４１とからなり、基板支持部３１は全てのステージに対して設けられている固定部材であり、可動ビーム４０及び基板支持部３１はパネル基板１を真空吸着するものであり、基板フローティング部３２はパネル基板１の裏面との間に空気層を形成して、パネル基板１を浮上させることによりパネル基板１が他の部材と摺接することはない。 （もっと読む）

実質的に鉛直平面で設置された実質的に平面のガラスシート（３０）を処理する装置（１０）である。一態様において、このガラスシートはＬＣＤディスプレイ用のものである。ガラス処理装置は、洗浄区域（２００）、すすぎ区域（３００）、乾燥区域（４００）、およびガラスシートを搬送路（１００）に沿ってその中で移動させるための下部ローラ（５１０）を含む。洗浄区域は、ガラスシートを損傷させずに支持および駆動するよう構成された駆動ローラ（５３０、５４０）を含む。すすぎ区域は、ガラスシートを過剰に振動させずにすすぐよう配置されたノズル（３１０、３２０）および液体軸受（３３０、３４０）を含む。さらに、乾燥区域は、ガラスシートを過剰に振動させずに乾燥するよう配置されたエアナイフ（４１０、４２０）および流体軸受（４４０、４５０）を含む。
（もっと読む）

【課題】
本発明は、トランジスタが表面に形成されている基板を静電吸着によって真空容器内で保持する際に、当該基板の表面に形成されているトランジスタに損傷が生じるおそれを低減することが可能な静電吸着用電圧印加方法を提案することを目的としている。
【解決手段】
カラーフィルタ基板が搬送手段により搬送され第二の基板保持部に前記カラーフィルタ基板が真空吸着により載置される第一の工程、第一の基板保持部及び前記第二の基板保持部を移動させて封止空間が形成される工程、その後に前記封止空間が真空排気される工程、前記封止空間の圧力が所定の圧力に達した後に前記カラーフィルタ基板が静電吸着される工程、トランジスタが形成されている基板が静電吸着される工程を有する液晶ディスプレイの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の浮遊処理液の影響を低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】振り切り乾燥処理が終了すると、スピンチャック１０および雰囲気遮断板５０の回転が停止させられて、基板Ｗの回転が停止する。続いて、スピンチャック１０と雰囲気遮断板５０とが近接する状態から、スピンチャック１０および雰囲気遮断板５０との間の距離Ｄが２ｍｍ以上１０ｍｍ以下となるよう、雰囲気遮断板５０が上昇させられる。そして、スピンチャック１０から搬送ロボットの搬送アーム８ａに基板Ｗが受け渡される。これにより、チャンバ内の浮遊薬液を完全にチャンバ外に排気することができない場合であっても、搬送時または搬送待ちの基板Ｗに浮遊薬液が付着することを防止できる。 （もっと読む）

【課題】 カバー内で上基板を反転するに際し、カバー内の空気及び異物の舞い上がりを防止し、上下の基板を貼り合わせて作成される製品の品質を向上させること。
【解決手段】 貼り合わせ面を上向きにしてカバー１２内に搬入される上基板１と下基板２のうち上基板１を反転させ、上下の基板１、２を貼り合わせ面が上下に対向する水平姿勢に位置付ける基板反転方法において、上基板１を貼り合わせ面が上向きの初期水平姿勢から上昇させながら垂直姿勢まで概ね90度回転させ、その後貼り合わせ面が下向きの反転水平姿勢まで更に概ね90度回転させるもの。 （もっと読む）

【課題】平板ディスプレイ装置及び平板ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のディスプレイ素子を備え、四つの側面を備える平板パネルと、平板パネルの四つの側面のうち一つ以上の側面に形成され、複数のディスプレイ素子のうち少なくとも一つのディスプレイ素子に電気的に連結される複数の第１パッド電極と、複数の第１パッド電極からそれぞれ拡張され、電気的に互いに絶縁された複数の第１導電線と、複数の第１導電線のうち互いに隣接した二つの第１導電線間に形成され、隣接した第１導電線と電気的に絶縁された少なくとも一つの中間電極と、を備える平板ディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を損傷させずに確実に洗浄処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板が供給される処理槽１と、処理槽の基板の被処理面に、マイナスの電荷が帯電しそのマイナスの電荷にプラスの電荷が静電結合したナノバブルを含む処理液を供給する処理液供給ノズル１６と、処理液供給ノズルから基板に供給された処理液に向かって供給され、その処理液に含まれるナノバブルのマイナスの電荷に静電結合したプラスの電荷を除去しナノバブルの静電気による平衡状態を消失させてナノバブルを破裂させる作動液を供給する作動液供給ノズル２２ａ，２２ｂを具備する。 （もっと読む）

【課題】 良好な品質で基板を貼り合わせる。
【解決手段】 （ａ）第１及び第２の基板の一方の表面に、第１のシール剤を第１の高さに塗布するとともに、第１のシール剤の塗布された箇所を囲むように、第１の高さよりも高い第２の高さに第２のシール剤を塗布する。（ｂ）第１の基板を下側に保持し、第２の基板を上側に静電吸着により保持することで、第１の基板と第２の基板とを、第１及び第２のシール剤が塗布された面が、第１及び第２のシール剤の塗布されていない基板と対向するように配置する。（ｃ）第１の基板と第２の基板との間のクリアランスが、第２の高さよりも小さくなるように、第１の基板と第２の基板とを近づける。（ｄ）第２の基板の静電吸着を解除し、第１の基板と第２の基板とを圧着する。 （もっと読む）

【課題】規格外の検査項目を、外部検査機を使用して検査する場合に検査の信頼度を確保することができる表示パネル検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】表示パネル１に駆動電圧を印加して表示パネル１の点灯状態の良否を判断する表示パネル検査装置２１であって、自身で測定不可能な規格外の検査項目を検査する外部検査機３０を、通信手段３２を介して接続し、接続した外部検査機３０で適正な検査が行なわれたか否かを判定する適正検査判定手段を備えている。 （もっと読む）

【課題】液晶が紫外線を吸収して高温に発熱するのを抑えて液晶分子の配向の安定化を図ると共に、液晶表示装置の製造効率の向上を図る。
【解決手段】ＴＦＴ基板と対向電極基板との間に複数の画素をマトリクス状に形成し、液晶を封止した液晶表示用基板の前記各画素に電界を印加した状態で前記液晶表示用基板に紫外線を照射して、前記液晶の分子を所定方向に配向させる液晶表示装置の製造方法であって、前記液晶表示用基板の一面を冷却媒体に接触させる第１ステップと、前記各画素に所定量の電界を印加した状態で前記液晶表示用基板に所定光量の紫外線を照射する第２ステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】カッティングホイールの長寿命化を図ることができるガラス基板の切断方法を提供すること。
【解決手段】表示パネル用の基板１（ガラス基板）の表面に形成される配線パターン１０３１（金属薄膜のパターン）にレーザを照射して配線パターン１０３１を線状に除去する段階と、レーザＬを照射して配線パターン１０３１を除去した位置に沿ってカッティングホイール８によりスクライブラインを形成して切断する段階と、を備える、表面に配線パターンが形成される表示パネル用の基板の切断方法。 （もっと読む）

【課題】一の基板上の各部において、処理条件を変えることができる処理装置を提供する。また、一の基板上の各部において、処理条件を変えることができる処理方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る処理装置は、天井部(105a)と、側壁部(105b)と、前記天井部と側壁とで構成される処理空間を複数の処理室に分割する仕切り壁(105c)と、前記複数の処理室にそれぞれ接続された複数のガスライン(107)と、を有するカバー(105)で、基板(100)の処理領域(E)を覆い、前記基板上に吐出された複数の吐出液(d)を前記処理室毎に処理する。かかる構成(方法）によれば、複数の処理室毎に処理条件を変化させることができ、成膜条件の最適化を容易に行うことができる。また、各処理室において、処理条件を変化させることで異なる膜を形成することができる。よって、半導体装置などの製造工程において、工程の簡略化を図ることができる。 （もっと読む）