【課題】連続した大面積のプラスチック基板上に、剥離不良を生じることなく凹凸形状を均一に形成する表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板（１）に前処理を施す工程、前記プラスチック基板（１）の表面に、支持フィルム（２）、表面に多数の微細な凹凸を有する下塗り層（３）及び反射下地層（４）が順次積層されてなる転写フィルム（８）をラミネートする工程、上記転写フィルム（８）側から活性エネルギー線（７）を照射する工程、上記支持フィルム（２）と共に上記下塗り層（３）を剥離する工程、上記プラスチック基板（１）上の上記反射下地層（４）を加熱する工程を含む、表示素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 透過部および反射部を有する画素が複数形成された液晶ディスプレイ用基板において、透過部と反射部とで色調整を容易に行なう。
【解決手段】 液晶ディスプレイ用基板は、絶縁性基板１０と、絶縁性基板１０上に形成された層間絶縁膜と、透過部Ｔにおける層間絶縁膜１１ａ上に形成された透明電極と、反射部Ｒにおける層間絶縁膜１１ｂ上に形成された反射電極と、両電極上に形成されたカラーフィルタとを有する。反射部Ｒにおける層間絶縁膜１１ｂは、凹部と凸部から構成された凹凸面を有する。透過部Ｔにおける層間絶縁膜１１ａの高さｈ１が、凸部の高さｈ２以下である。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルディスプレー用プラスチック基板等として有用なポリイミド、その前駆体、それらの製造方法及び当該ポリイミドの製造原料として有用なテトラカルボン酸化合物の提供。
【解決手段】一般式（１）


（一般式（１）中、Ｐは水素原子等を表し、ｎは１〜３の整数を表し、Ａは二価の芳香族基等を表す。）で表される反復単位を有するポリイミド、その前駆体、それらの製造方法及び当該ポリイミドの製造原料として有用なテトラカルボン酸化合物。
【効果】高透明性、十分な膜靭性、高ガラス転移温度を併せ持つ、各種電子デバイスにおけるフレキシブルディスプレー用プラスチック基板等として有益なポリイミド、その前駆体、それらの製造方法及び当該ポリイミドの製造原料として有用なテトラカルボン酸化合物が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数の液晶パネルを同時に製造する大型基板の外表面に防塵用ガラス基板を貼り合わせるに際し、両基板間の貼り合わせに要する時間を短縮して、生産効率の向上を図る。
【解決手段】一対の基板１０，２０間に液晶５０を挟持してなる液晶パネル１を有し、ＴＦＴ基板１０が複数の液晶パネル１を同時に製造可能な大型基板１１０で形成されており、この大型基板１１０の外表面に大型防塵用ガラス基板３００を接着剤４１を介して貼り合わせるに際し、大型防塵用ガラス基板３００の盤面全体に接着剤４１を、予め設定されている描画パターンに従い塗布し、その後、設定圧力に減圧された雰囲気中で大型防塵用ガラス基板３００の接着剤４１が塗布されている盤面に、大型基板１１０を対設させて、両大型基板３００，１１０を貼り合わせる。 （もっと読む）

【課題】大画面でも液晶ディスプレイの輝度ムラを抑えることが可能な液晶ディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板面と直交する光により測定したレタデーションをΔ（ｎｍ）、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθ（°）とした際、｛ｓｉｎ（２θ）｝²×｛ｓｉｎ（１８０°・Δ／５５０）｝²で求められる最大値が３．５×１０^-5以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い光利用効率を実現するとともに、光リークに起因する不具合が防止された、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】一対の基板１０，２０間に電気光学層５０を保持し、複数の画素領域を備えてなる電気光学装置である。一対の基板１０，２０の、光入射側基板１０における光入射面の反対側に溝状に設けられ、入射光を画素領域内に反射させる集光部４５を有し、集光部４５を構成する溝４４内に、少なくともスイッチング素子３０の半導体層１が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジストに添加して用いることが可能で、かつパターン周辺部のギザつきや現像残渣が生じるといった現像性の低下を抑制することが可能な遮光性液晶配向制御用突起形成用顔料分散組成物を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）および（Ｂ）で表される構成単位を有し、末端は、下記Ｘで表される基であり、末端または側鎖には、高分子分散剤と、顔料と、溶剤とを含有することを特徴とする。


（構成単位（Ａ）および（Ｂ）中、ａ，ｂはそれぞれ構成単位の結合数を表し、ａ＋ｂ＝４〜４０、ａは２〜２０，ｂは２〜２０であり、Ｘは、水素原子または内部にイミノ基，カルボニル基、及びエステル基を有する特定の基。） （もっと読む）

【課題】機械研磨又は化学研磨により表面粗さが増大したガラス基板の光透過率を回復し、且つ、厚さが薄くなったガラス基板を補強し、軽量化及び薄型化が可能な液晶表示セルを提供する。
【解決手段】下偏光板１１８と金属酸化物ガラス膜１１２を有する第１のガラス基板１１１、液晶層１１７、金属酸化物ガラス膜１１５が形成された第２のガラス基板１１４及び上偏光板１１９を積層した液晶表示セル１１０と、導光板１２１、拡散板１２２及び光源１２３からなるバックライトユニット１２０とから構成された液晶表示装置であって、第１のガラス基板１１１及び第２のガラス基板１１４の外側面は機械研磨又は化学研磨により粗化され、金属酸化物ガラス膜１１２，１１５は、金属アルコキシド組成物の加水分解反応によるゾルゲル反応により三次元架橋が形成された光透過性の有機／無機ハイブリッド材料である。 （もっと読む）

【課題】 寸法変化や厚みムラが小さく、透明性や光学特性に優れているうえ、さらなる低コスト化が実現可能な透明複合体、及び該透明複合体を用いて形成された表示素子用樹脂基板を提供する。
【解決手段】 ビスフェノール骨格をもつアクリレートを含み、２５℃における粘度が１００,０００cps以下、硬化収縮率が１０％以下である活性エネルギー線硬化性組成物８と、無機質材９とからなる透明複合体１とし、この透明複合体１を用いて表示素子用樹脂基板とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用ガラス基板の薄板化を目的とした化学研磨工程において、ガラス表面の傷などが拡大され、平坦性が劣化する課題があった。
【解決手段】フッ酸３〜９％、硫酸５０〜７０％、溶媒に水を用いた化学研磨液によりガラス基板表面を研磨することにより傷の拡大を抑制し、表面品位が優れた液晶表示素子を効率よく、低コストに製造する。 （もっと読む）

【課題】 不具合が存在する被処理基板を紫外線照射処理前に選別でき、高性能で歩
留まりを向上させた液晶パネルを製造可能な液晶パネル製造装置及びこれを用いた液晶パ
ネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 光反応性物質１８を含有する液晶体１７を内部に封入した被処理基板１０
の性能を検査する検査部４と、光反応性物質１８及び液晶体１７の特性を低下させる波長
領域の紫外線の照射を制御しながら検査後の被処理基板１０の光反応性物質１８を反応さ
せ、被処理基板１０の内部に配向部２１，２２を形成させる紫外線照射部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＬバックライト素子から照射された光が液晶表示素子の各絵素領域へ入射する際に発生する混色を良好に抑制する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、複数の絵素領域が設けられた液晶表示素子と、液晶表示素子の複数の絵素領域に、それぞれ対応する色の光を照射するＥＬバックライト素子と、ＥＬバックライト素子から照射された光を対応する絵素領域に集光する集光素子と、を備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ用光学フィルターに最適である、光学特性、酸化亜鉛膜と透明基板の密着性に優れた酸化亜鉛系透明導電基板を提供する。
【解決手段】アクリル系樹脂（ａ）５０〜９９．９質量％、およびポリ乳酸系樹脂（ｂ）５０〜０．１質量％からなる樹脂組成物のフィルムもしくはシートの透明基板上に、直接酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電基板及び酸化亜鉛系透明導電基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高透明性、十分な膜靭性、及び、高ガラス転移温度を併せ持つポリイミドを提供する。
【解決手段】ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物の、アンモニウム塩、アミン塩、アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩のうち、少なくとも一方の塩を水素化、酸析及び無水化することで、低金属含有で単一異性体のビシクロ［２．２．２］オクタン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物を得ることができ、該二無水物を用いてポリイミド前駆体、ひいてはポリイミドを得る。 （もっと読む）

【課題】小型で製造容易であり、しかも経済的な３Ｄ映像表示用ないし２画面映像表示用
液晶表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】複数のアレイ基板領域２１_１１が形成されたアレイ基板と、複数のカラーフ
ィルタ基板領域３１_１１が形成されたカラーフィルタ基板とを、それぞれの領域の周縁部
がシール材２３で囲まれた状態となるようシール材２３でシールし、カラーフィルタ基板
の表面を予め定めた所定厚さになるまで薄くし、この薄くされた第２の基板の表面に配向
膜を有する駆動用電極を設け、駆動用電極の周縁にシール材２３'を塗布した後、複数の
対向基板領域４１_１１が形成された対向基板を載置して前記シール材２３'を硬化し、前
記アレイ基板、カラーフィルタ基板及び対向基板を所定位置で分断し、それぞれの分断さ
れたアレイ基板とカラーフィルタ基板の間及びカラーフィルタ基板と対向基板の間に液晶
を封入することからなる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置用基板の生産工程における工数を削減し、生産効率を向上させることができ、電気光学装置を薄型化し、かつ画素領域を透過した光の視野角を広くすることができる電気光学装置用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１基板３ａの表面に複数の微小凹部を機械的手段によって形成する工程と、前記第１基板３ａの表面をエッチングして、前記第１基板３ａを薄肉化するとともに、前記微小凹部を等方的に侵食してマイクロレンズＬを形成する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性・耐熱性が良好で、低複屈折性を有している光学フィルムを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるスピロ構造を有するポリスルホン樹脂を含む光学フィルム。


（式中、環αは多環式の環を表し、２つの環αはそれぞれ同じであっても異なっていてもよく、２つの環はスピロ結合によって結合されている。環αは置換基を有していてもよい。） （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐薬品性に優れ、平均線膨張係数が低く、かつ、透明性が高く、薄膜デバイス形成工程で反りや変形、配線の亀裂が生じにくいことを特徴とする表示素子用プラスチック基板を提供する。
【解決手段】一般式（３）


（式中、Ａ³は明細書中の記載と同じ意味を表す。）で表される基を繰り返し単位として有する化合物を含むアリルエステル熱硬化性樹脂を用いた透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】 連続した大面積のプラスチック基板上に、剥離不良を生じることなく凹凸形状を均一に形成する表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ｉ）プラスチック基板（１）に前処理を施す工程、（ＩＩ）上記プラスチック基板（１）の表面に、支持フィルム（２）、表面に多数の微細な凹凸を有する下塗り層（３）及び反射下地層（４）が順次積層されてなる転写フィルム（８）をラミネートする工程、（ＩＩＩ）上記転写フィルム（８）側から活性エネルギー線（７）を照射する工程、（ＩＶ）上記支持フィルム（２）と共に上記下塗り層（３）を剥離する工程、（Ｖ）上記プラスチック基板（１）上の上記反射下地層（４）を加熱する工程を含むことを特徴とする表示素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スペーサー部が、表示品質を損なわない領域に高精度で形成され、表示品質に優れスペーサーフィルターを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は本発明は、基材と、上記基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記基材の上記遮光部により区画された開口部を覆うように形成された着色層と、上記遮光部および上記着色層を覆うように形成された透明電極層と、上記透明電極層上であり、かつ、上記遮光部が形成された範囲内に形成された枠状の隔壁部と、上記隔壁部の内側に形成され、ビーズおよび樹脂を含有するスペーサー部と、を有することを特徴とするカラーフィルターを提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）