【課題】活性層として用いた酸化物薄膜の安定化と高品質化を実現した薄膜トランジスタをプラスチック基板上に搭載した薄膜トランジスタ搭載基板の製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板１０の上又はその上方に活性層となるアモルファス酸化物薄膜１３を形成する工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をパターニングする工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をジュール加熱する工程とをその順で少なくとも有する。ジュール加熱工程は、プラスチック基板１０にプラスチック基板１０のガラス転移温度以上の温度を一定時間与えず、且つアモルファス酸化物薄膜１３をアモルファス相のままで所定の抵抗率に制御する工程である。 （もっと読む）

【課題】活性層として用いた酸化物薄膜の安定化と高品質化を実現した薄膜トランジスタをプラスチック基板上に搭載した薄膜トランジスタ搭載基板の製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板１０の上又はその上方に活性層となるアモルファス酸化物薄膜１３を形成する工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３を電磁誘導加熱する工程とを少なくとも有する。電磁誘導加熱工程は、プラスチック基板１０にプラスチック基板１０のガラス転移温度以上の温度を一定時間与えず、且つアモルファス酸化物薄膜１３をアモルファス相のままでその抵抗率を上昇させ且つ安定化させる工程である。 （もっと読む）

【課題】基板表面に残留している金属不純物を適切に除去する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法における洗浄工程は、基板表面にオゾン水を供給するオゾン水処理工程と、オゾン水処理工程の後に基板表面に純水を供給する第１リンス処理工程と、第１リンス処理工程の後に基板表面に希フッ酸を供給する第１希フッ酸処理工程と、第１希フッ酸処理工程の後に基板表面に純水を供給する第２リンス処理工程と、第２リンス処理工程の後に基板表面に、洗浄液及び気体が混合されてなる混合流体を供給する第１混合流体処理工程と、第１混合流体処理工程の後に基板表面に純水を供給する第３リンス処理工程と、第３リンス処理工程の後に基板表面に希フッ酸を供給する第２希フッ酸処理工程と、第２希フッ酸処理工程の後に基板表面に純水を供給する第４リンス処理工程と、第４リンス処理工程の後に基板を乾燥させる乾燥工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法を使用することなく、ガラス基板に導電膜を設ける表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置用のガラス基板の表面にエッチング液を接触させて、ガラス表面の算術平均粗さＲａを０．７ｎｍ〜７０ｎｍに設定する化学研磨工程と、化学研磨工程後のガラス表面に導電性ポリマーを塗布して、４００〜１２００Ω／ｓｑの導電膜を形成する成膜工程と、を有し、成膜工程後のガラス基板の全光線透過率を、板厚０．５ｍｍのガラス基板において８７％以上とする。 （もっと読む）

【課題】プラスチック支持体を用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】プラスチック支持体上に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に形成された接着層と、前記接着層上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上に形成された発光素子とを有する。または、プラスチック支持体と、前記プラスチック支持体に対向する対向基板と、前記プラスチック支持体と前記対向基板との間に保持された液晶とを有し、前記プラスチック支持体上に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に形成された接着層と、前記接着層上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された薄膜トランジスタとを有する。 （もっと読む）

【課題】表示品質を向上させることができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】マザー基板１２’上のＸ方向（第１方向）に向かってアルミニウムを含む金属膜からなる端子２３が複数配列する接続端子部２３’を形成する工程と、マザー基板１２’におけるＸ方向と交差するＹ方向（第２方向）に形成された表示領域１９に無機配向膜を形成する工程と、マザー基板１２’をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を用いて洗浄する工程と、端子２３の配列方向が略鉛直方向となるようにマザー基板１２’を配置して乾燥させる工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置用基板の接続端子と外部接続部品とを熱圧着して接続する際の無機絶縁膜の破損による歩留まり低下を抑制する。
【解決手段】電気光学装置用基板（１０）は、無機絶縁膜と、外部接続部品に接続される接続端子（１４）とを備える。接続端子（１４）は、無機絶縁膜が設けられていない領域に設けられているので、外部接続部品を接続端子（１４）に熱圧着したとしても、無機絶縁膜の破損に起因する製品の歩留まり低下を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】水分や酸素の透過による劣化を抑えることが可能な半導体装置、例えば、プラスチック基板上に形成されたＯＬＥＤを有する発光装置、プラスチック
基板を用いた液晶表示装置の提供を課題とする。
【解決手段】本発明は、基板上に素子を含む被剥離層を形成した後、支持体に被剥離層を接着して基板から引き剥がして被剥離層を剥離した後、被剥離層に接する薄膜を成膜した後、転写体２２と貼り合わせる。こうすることによって、剥離の際に生じるクラックを修復し、被剥離層に接する薄膜として熱伝導性を有する膜２０、具体的にはアルミニウムの窒化物またはアルミニウムの窒化酸化物を用いることによって、素子の発熱を拡散させ、転写体２２、具体的にはプラスチック基板の変形や変質を保護する効果を有する。 （もっと読む）

【課題】静電気により電荷を受けた瞬間にも電界が発生せず、瞬時にその電荷を逃がすことができるので、表示誤動作を確実に回避できる表示装置を提供する。
【解決手段】液晶パネル２において、その駆動のための配線３４を配置する面以外の５面を透明導電膜４で覆う。透明導電膜４は表面側と裏面側とが連結しているので、静電気による電荷は瞬時に移動して液晶には電界が生じず、表示誤動作が発生しない。さらに、板部３０から突出して液晶パネル２を保持するための押え部３１は導電性を有し、その付け根部分には接地部３３が形成されているので、透明導電膜４の電荷を瞬時に接地部３３に逃がすことができる。 （もっと読む）

【課題】十分なコントラストが得られる表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る表示装置によれば、間隙Ｄにおいて、容量線７７と走査線１１とが重ねて構成されているため、２本の配線の重なり分、反射電極９間における配線が占める割合を小さくすることができる。詳しくは、Ｘ軸方向における間隙Ｄに露出する配線を容量線７７のみとすることができる。よって、間隙Ｄにおいて配線によって反射される光量が減るため、表示コントラストを高めることが可能となり、所期の表示コントラストを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、例えば各画素における光透過率を高め、明るく高品位な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、素子基板（１０）と、素子基板に設けられた画素電極（９）と、素子基板の少なくとも一部に形成された半導体素子（３０）と、前記素子基板の少なくとも一部に形成された溝（２１０ｖ）からなる光反射部（２１０）とを備え、半導体素子は、素子基板上で平面的に見て、光反射部と互いに重なるように配置されると共に、少なくとも溝の開口部を覆うように設けられた平坦化膜（２１１）上に配置される。 （もっと読む）

液晶層を通過する光の伝播を制御する可変液晶装置は、周波数依存性材料を利用して前記装置内に有効な電極構造を動的に再構築させる。前記装置内で電場を発生させる駆動信号の周波数は可変であり、周波数依存性材料は周波数毎に異なる電荷移動度を有する。周波数依存性材料は、電荷移動度が低いと、現行の電極構造にはほとんど影響を及ぼさないが、電荷移動度が高いと、固定電極を拡張させると考えられる。これを利用すれば、有効な電極構造や、ひいては電場の空間プロファイルを変更することも可能である。更にはこれにより液晶の光学特性が変化して、光学装置の周波数制御が可能となる。 （もっと読む）

【課題】被剥離層に損傷を与えない剥離方法を提供し、小さな面積を有する被剥離層の剥離だけでなく、大きな面積を有する被剥離層を全面に渡って歩留まりよく剥離することを可能とすることを目的する。また、様々な基材に被剥離層を貼りつけ、軽量された半導体装置およびその作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板上に金属層１１を設け、さらに前記金属層１１に接して酸化物層１２を設け、さらに被剥離層１３を形成し、前記金属層１１をレーザー光で照射することで酸化を行い、金属酸化物層１６を形成させれば、物理的手段で金属酸化物層１２の層内または金属酸化物層１６と酸化物層１２との界面において、きれいに分離することができる。 （もっと読む）

【課題】１画素毎にパターニングした反射層を素子基板に設けなくても反射方式でカラー
画像表示を行なうことができる液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００においては、画素電極９ａおよび素子基板１０は透光性を備
え、対向基板２０は反射面２０ａを備えている。このため、素子基板１０側から入射した
光を対向基板２０で反射して素子基板１０から出射することができる。素子基板１０にお
いて画素トランジスター３０と画素電極９ａとの間にカラー表示用の着色層１１を備えて
いる。素子基板１０側から入射した光のうち、画素トランジスター３０の能動層に向かう
光は遮光層７ａで遮られる。 （もっと読む）

【課題】画像表示素子の配線接続部における温度上昇とそれに伴う接続抵抗の上昇を抑え，安定した配線接続によって配線接続部の信頼性を向上させる画像表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】裏面基板２は隣り合う複数の画素列の間で電極に繋がる電極端子４が露出するように分割されると共に，この分割部分に前面基板１との対向面の裏側（裏面側）にある上部が底部より幅広の形状を有するように二つの加工面２ｂ，２ｃにより構成される溝部３が形成され，信号用金属配線５ａが溝部３の一方の加工面２ｂに沿って溝部３に露出した電極端子４に接続されるように形成されると共に，信号用金属配線５ａが防湿性コート剤７によって覆われた画像表示素子において，裏面基板２の前面基板１との対向面の裏側（裏面側）に放熱用部材５ｂを設けた。 （もっと読む）

【課題】ＩｎＭＺｎＯ系半導体膜を有する薄膜トランジスタ基板のドレイン電流のＯＮ／ＯＦＦ比を大きくすることができる薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に、ゲート電極１３、ゲート絶縁膜１４、ＩｎＭＺｎＯ（ＭはＧａ，Ａｌ，Ｆｅのうち少なくとも１種）系半導体膜１５、ソース電極１６ｓ及びドレイン電極１６ｄが形成された薄膜トランジスタ基板１の製造方法であって、所定パターンのＩｎＭＺｎＯ系半導体膜１５を形成する工程と、ＩｎＭＺｎＯ系半導体膜１５を覆う少なくとも１種の金属元素を含む金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物及び金属酸窒化物のいずれかからなる保護膜１７を設ける工程と、保護膜１７を覆うアルミニウム、チタン及びモリブデンのいずれかからなる金属膜１８を設ける工程と、金属膜１８を設けた後に熱処理する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 樹脂製の基板を用いた画像表示装置において、一方の基板上に設けられた電極接続部を傷つけずに外部電極を接続することを目的とする。
【解決手段】 平板状の転写元基板３０の一主面上の端部に外部から駆動信号を供給するための外部電極２２を接続するための電極接続部２１を設ける工程と、前記転写元基板３０と平板状の対向基板１１とをシール材１３で貼り合わせる工程と、前記電極接続部２１を残して前記転写元基板３０を除去する工程と、前記電極接続部２１に前記外部電極２２を接続する工程と、次いで、樹脂製の転写先基板３０を前記電極接続部２１を介して前記対向基板１１と対向させる工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】駆動素子の破損が生じにくい表示装置用パネル、およびこれを用いた表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる表示装置用パネル１００は、平面視において、表示領域１２と、該表示領域１２の外側に並設された制御領域１４とを有する基板１０と、平面視において、基板１０の制御領域１４内に固定された半導体素子２０と、を含み、基板１０の厚みは、半導体素子２０の厚み以上であり、半導体素子２０の表面の少なくとも一部は、算術平均高さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の輪郭曲線を有する。 （もっと読む）

【課題】電極を精度良く形成できると共に、設計マージンを低減することが可能な構造の半導体装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタのゲート電極２２と、このゲート電極２２を覆って形成されたゲート絶縁膜２３と、このゲート絶縁膜２３上に形成され、薄膜トランジスタのソース領域、チャネル領域、ドレイン領域を構成する有機半導体層２４と、この有機半導体層２４上に形成された構造体３１と、ゲート絶縁膜２３上から構造体３１よりも外側の有機半導体層２４上にわたって形成された、薄膜トランジスタのソースドレイン電極２５，２６と、このソースドレイン電極２５，２６と同じ材料により、構造体３１の上に形成された、電極材料層３２とを含む半導体装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりＴＦＴ回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にＴＦＴ回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記ＴＦＴ回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で形成し、
前記ＴＦＴ回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で形成する。 （もっと読む）