【課題】さらなる低温プロセス（３５０℃以下、好ましくは３００℃以下）を実現し、安価な半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明は、結晶構造を有する半導体層１０３を形成した後、イオンドーピング法を用いて結晶質を有する半導体層１０３の一部にｐ型不純物元素及び水素元素を同時に添加して不純物領域１０７（非晶質構造を有する領域）を形成した後、１００〜３００℃の加熱処理を行うことにより、低抵抗、且つ非晶質な不純物領域１０８を形成し、非晶質な領域のままでＴＦＴのソース領域またはドレイン領域とする。 （もっと読む）

【課題】横電界方式の液晶表示装置において、高い透過率・コントラストを実現する透明基板およびカラーフィルタを提供するものである。
【解決手段】横電界方式の液晶表示装置に用いられ、液晶を挟持し、液晶に接する側の裏面に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）による透明導電膜が設けられた透明基板において、透明基板と、透明導電膜の間に透明樹脂からなる層を具備し、透明基板の屈折率をｎ_０、透明導電膜の屈折率をｎ_１、透明樹脂の屈折率をｎ_２としたときに、ｎ_０、ｎ_１、ｎ_２が以下の（式１）を満たすことを特徴とする液晶表示装置用透明基板である。
０．８５×ｎ_０×ｎ_１≦ｎ_２^２≦１．１７×ｎ_０×ｎ_１ （式１） （もっと読む）

【課題】量産性に優れると共に、液晶光学素子の接続の信頼性を確保することができ、かつ液晶光学素子の小型化、低コスト化を図ることができる液晶光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コモン電極が形成された第１の基板と複数のセグメント電極が形成された第２の基板との間に液晶を封入してなる液晶光学素子であって、この液晶光学素子の側面の複数の角部に、外部に露出して形成された複数の電極端子が設けられており、複数の電極端子は液晶光学素子の厚さ方向に伸長して形成されている。 （もっと読む）

【課題】必要十分なキャパシティをもつ保持容量を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】金属表面を有する基板１１と、前記金属表面を有する基板上に形成された絶縁膜１２と、前記絶縁膜上に形成された画素部とを有する半導体装置において、前記画素部は、ＴＦＴと、該ＴＦＴと接続する配線２１とを有しており、保持容量は、前記金属表面を有する基板、前記絶縁膜および前記配線により構成されている。前記絶縁膜の膜厚が薄いほど、また、前記絶縁膜と前記配線の接する領域の面積が大きいほど、大きなキャパシティを得られるので有利である。 （もっと読む）

【課題】端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域に感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造された電気光学装置を提供すること。
【課題手段】液晶装置において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の所定領域に感光性樹脂層８０を形成する際、遮光膜形成工程において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の端縁に形成された第１傾斜端面１０ｉに遮光膜８５を形成しておく。そして、感光性樹脂層形成工程において電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側にポジタイプの感光性樹脂層８０を塗布し、その後、露光現像工程において感光性樹脂層８０を露光、現像する。露光を行った際、第１傾斜端面１０ｉに向かう光は、遮光膜８５で遮られるので、第１傾斜端面１０ｉから電気光学装置用基板１０ｓの内部に入射することがない。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル配線基板の破断を抑制し、信頼性の向上した表示装置を提供する。
【解決手段】下部基板１１の配線領域１３にはフレキシブル配線基板１７が配設され、このフレキシブル配線基板１７と電極１４とがＡＣＦ１９を介して電気的に接続されている。フレキシブル配線基板１７の表面にフレキシブル配線基板１７を間にしてＡＣＦ１９を覆うように補強材１５が設けられている。これによりフレキシブル配線基板１７の曲げを小さくし、破断を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】薄く、軽量であり且つ破壊が生じにくい液晶表示装置を、作製工程を大幅に削減して低コストで作製する方法を提供する。
【解決手段】剥離層を介して基板上に素子領域を形成する際に、半導体層のエッチングと、画素電極とドレイン電極を接続するためのコンタクトホールの形成を、同一のフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程で行う。更に素子領域を基板から剥離してじん性の高い第１の支持体に移し替え、第１の支持体及びじん性の高い第２の支持体で液晶素子を挟持することで、薄く、軽量であり且つ破壊が生じにくい液晶表示装置を、作製工程を大幅に削減して低コストで作製できる。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルの表示領域内と表示領域外との境界近傍で発生する表示ムラの発生を低減することができるマザー基板および、該マザー基板を用いて製造される液晶パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】遮光膜ＢＭおよび着色膜ＣＦの面上に保護膜ＯＣが形成されたカラーフィルタ基板と、薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板とを貼り合せて構成される液晶パネルのカラーフィルタ基板が１または複数形成されたマザー基板ＭＣＢにおいて、液晶パネルの表示領域外ＡＲ２，ＡＲ３に前記遮光膜ＢＭのベタパターンと前記着色膜ＣＦのベタパターンとを積層したベタパターン積層部１００を有する。 （もっと読む）

【課題】外部からの歪に耐性を有するディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】本発明のディスプレイ装置は、第１の方向の辺と、第１の方向の辺より長い第２の方向の辺からなる平面を有する基材と、基材上の表示部と、基材上の表示部を駆動するディスプレイドライバ回路であって、薄膜トランジスタを用いて構成したゲートドライバ回路と、半導体基板に形成した集積回路で構成したデータドライバ回路と、を有するディスプレイドライバ回路と、を有する。データドライバ回路は、基材の第１の方向の辺に沿って配置され、且つ、ゲートドライバ回路は、基材の第２の方向の辺に沿って配置されている。 （もっと読む）

【課題】信頼性に優れた液晶表示素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】前、後ガラス基板を接合する矩形枠状シール材３の奥側枠辺３０１にノズル部３０３が凸設され、このノズル部３０３に隣接させてトランスファ電極１４が設置され、且つ、ノズル部３０３を封止する封止材１５がノズル部３０３に充填されると共に隣設されたトランスファ電極１４を被着している。 （もっと読む）

【課題】透明導電性が高く、透過光の色調がニュートラルであり、かつ耐屈曲性に優れたＣＮＴを導電膜とする透明導電積層体を提供する。
【解決手段】透明導電積層体１０３は、厚み２０〜１８８μｍの透明基材１０１の少なくとも片面上にカーボンナノチューブ導電膜１０２と透明保護膜とが透明基材側からこの順に設けられた透明導電積層体であって、前記透明保護膜の厚みが１０〜１２０ｎｍの範囲にあり、前記透明保護膜側の反射率曲線の極小値が２８０〜７００ｎｍの波長範囲にあり、かつ波長３８０〜７８０ｎｍにおける透明保護膜側の平均反射率が２．５％以下のものである。 （もっと読む）

【課題】
絶縁基板に所定パターンの半導体膜を形成した際でも、絶縁基板の反りなど変形を抑制した表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】
半導体膜が成膜される絶縁基板を用いた表示装置の製造方法において、前記絶縁基板に半導体膜を成膜する前に、前記半導体膜を形成する領域を取り囲み、前記絶縁基板の平面に沿って凹凸形状を有し、かつ前記半導体膜の膜厚より高い壁構造を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】静電気が印加された場合でも表示の乱れを低減することができるタッチ検出機能付き表示装置を得る。
【解決手段】表示動作を行う液晶表示素子と、一方向に延在するように並設され、外部近接物体に応じた静電容量の変化に基づく検出信号をそれぞれ出力する複数のタッチ検出電極ＴＤＬと、タッチ検出電極と絶縁または高抵抗で接続され、これらを覆うように配置された導電膜（導電層５２）と、検出信号をサンプリングすることにより外部近接物体を検出するタッチ検出部とを備える。上記導電膜のシート抵抗は所定の値以下であり、かつその導電膜の時定数は、タッチ検出部のサンプリングタイミングにより定まる所定の最小時定数より大きいものである。 （もっと読む）

【課題】機種を容易に判別することが可能な電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】機種情報を読み出す識別端子５３ｂ，５３ｃと、識別端子５３ｂ，５３ｃと離間して並設されると共に定電位と接続された定電位端子５３ａと、識別端子５３ｂ，５３ｃと定電位端子５３ａとを電気的に接続状態、又は非接続状態とすることにより機種情報を判別する端子間接続部５９ａ，５９ｂと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】大型の露光装置用マスクステージ装置を軽量化、小型化すること。
【解決手段】 マスクステージＭＳＴでは、マスクＭを保持するステージ本体６０がＹ軸（クロススキャン）方向に移動する際には、一対のＸビーム７０及び一対のＸテーブル９０と一体的にＹ軸方向に移動する。これに対し、ステージ本体６０がＸ軸（スキャン）方向に移動する際は、一対のＸテーブル９０がステージ本体６０と共に静止したＸビーム７０上をＸ軸方向に移動する。従って、マスクＭをスキャン方向に移動させるためのリニアモータの推力が小さくて良く、駆動反力の影響も低減できる。また、マスクステージＭＳＴがＹ軸方向に移動するとき、一対のステージガイド５０も同時にＹ軸方向に移動するので、ステージガイド５０のＹ軸方向幅を小さくすることができ、装置が軽量化できる。 （もっと読む）

【課題】有機絶縁層を有する電子素子の配線短絡を簡素な工程により絶縁することが可能な電子素子の製造方法および電子素子を提供する。
【解決手段】配線層２１，２２の上に有機絶縁層１２を形成したのち、配線層２１，２２の短絡部２３に、有機絶縁層１２に対して透過性を持つ波長のレーザ光ＬＢを有機絶縁層１２を介して照射、または基板１１に対して透過性を持つ波長のレーザ光ＬＢを基板１１を介して照射する。レーザ照射領域２４では短絡部２３が消失して、配線層２１と配線層２２との間の絶縁が回復する。短絡部２３の上下に接する有機絶縁層１２または基板１１は残されている一方、レーザ照射領域２４（短絡部２３が消失した部分）には空洞２５が生じる。 （もっと読む）

【課題】300℃以上の高温での熱処理することなく、再現性が高く、大面積デバイス、特にフレキシブルデバイス作製に適したIGZO系酸化物薄膜を製造する。
【解決手段】In,Ga,Zn,Oを主たる構成元素とし、組成比が11/20≦Ga/(In+Ga+Zn)≦9/10、且つ3/4≦Ga/(In+Ga)≦9/10、且つZn/(In+Ga+Zn)≦1/3を満たす酸化物半導体薄膜をスパッタリング法により、アルアゴンガス雰囲気下で酸素ガスを導入することなく成膜し、成膜された酸化物半導体薄膜に対して、酸化性雰囲気中で100℃以上、300℃未満の熱処理を施す。 （もっと読む）

【課題】ドレイン線と画素電極との層間ずれに伴う寄生容量の変動を抑制し、画素間のＬＣＤ特性を安定させた表示装置を提供することである。
【解決手段】
第１の方向に延在し第２の方向に並設されるドレイン線と、前記第２の方向に延在しＸ前記第１の方向に並設されるゲート線と、前記ドレイン線と前記ゲート線とで囲まれる領域に形成される画素電極とを備える表示装置であって、前記ドレイン線と前記画素電極との間に形成され、前記ドレイン線の延在方向に伸延し、前記ドレイン線に近接する側が当該ドレイン線と所定距離離間して形成される第１の電極を有し、前記第１の電極は、前記ドレイン線と同層に形成され、前記画素電極側の辺縁部が当該画素電極に電気的に接続される表示装置である。 （もっと読む）

【課題】生産性、組成均一性を向上させることができ、かつ低温アニール時に低抵抗化が起こらず、再現性が高く、大面積デバイス、特にフレキシブルデバイス作製に適した酸化物半導体薄膜を得る。
【解決手段】In、GaおよびOを主たる構成元素とする酸化物半導体薄膜であって、In,Gaの組成比が3/4≦Ga/(In+Ga)≦9/10であり、かつ、抵抗率が1Ωcm以上、1×10⁶Ωcm以下を満たすものとする。 （もっと読む）

【課題】複数の駆動電極を用いつつ、回路規模や配線数を抑え、かつ、表示品位の劣化を抑えることができるタッチ検出機能付き表示装置を提供する。
【解決手段】第１の方向（例えば水平方向）に延在すると共に第２の方向（例えば垂直方向）に並列配置され、それぞれに駆動信号が印加される複数の駆動電極３３を備える。第２の方向において、駆動電極３３の幅Ｗ１は、２つ以上の画素電極に対応する大きさを有する。複数の駆動電極３３はそれぞれが、第１の方向に設けられた電極内スリット３３Ａを有する。隣接する２つの駆動電極３３の間には、電極内スリット３３Ａに対応する電極間スリット３３Ｂを形成する。 （もっと読む）