【課題】透明導電膜とその下層の絶縁膜との界面からの水分等の異物質の侵入を防止し、信号線の接続領域での信頼性と表示装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】信号線は、第１の信号線と、第１の絶縁膜を介して前記第１の信号線の上層に形成される第２の信号線と、第２の絶縁膜を介して第２の信号線の上層に形成される透明導電膜ＣＨＬとからなり、透明導電膜ＣＨＬは、第１の絶縁膜と第２の絶縁膜とを貫通して第１の絶縁膜に至る第１の接続孔ＴＨ１と、第２の絶縁膜を貫通して第２の信号線に至る第２の接続孔ＴＨ２とを覆うようにして形成され、第１の接続孔ＴＨ１又は第２の接続孔ＴＨ２の内で、基板の辺縁部に近い側の接続孔と前記基板の辺縁部との間に配置され、第１の絶縁膜又は／及び第２の絶縁膜に形成される溝部ＤＣＨを備え、透明導電膜ＣＨＬの辺縁部が、溝部ＤＣＨの底部まで伸延してなる表示装置である。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 第１方向に沿って延出したゲート配線と、第１方向に直交する第２方向に沿ってそれぞれ延出した第１ソース配線及び第２ソース配線と、前記第１ソース配線と前記第２ソース配線との略中間に位置し第２方向に沿って延出した帯状の第１主電極を含む画素電極と、を備えた第１基板と、前記第１ソース配線及び前記第２ソース配線の直上に配置され第２方向に沿って延出した帯状の第２主電極を含む対向電極を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間のセルギャップに保持された液晶分子を含む液晶層と、を備え、前記第１主電極極と前記第２主電極との第１方向に沿った電極間距離をＬとし、前記セルギャップをＧＰとしたとき、ｔａｎΘ＝ＧＰ／Ｌの関係で表されるなす角度Θは、前記液晶分子のプレチルト角αよりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、曲面を有する基材に被剥離層を貼りつけた半導体装置およびその作製
方法を提供することを課題とする。特に、曲面を有するディスプレイ、具体的には曲面を
有する基材に貼りつけられたＯＬＥＤを有する発光装置、曲面を有する基材に貼りつけら
れた液晶表示装置の提供を課題とする。
【解決手段】本発明は、基板上に素子を含む被剥離層を形成する際、素子のチャネルとし
て機能する領域のチャネル長方向を全て同一方向に配置し、該チャネル長方向と同一方向
に走査するレーザー光の照射を行い、素子を完成させた後、さらに、前記チャネル長方向
と異なっている方向、即ちチャネル幅方向に湾曲した曲面を有する基材に貼り付けて曲面
を有するディスプレイを実現するものである。 （もっと読む）

【課題】量産性に優れると共に、十分な光学的距離を確保することができ、かつ応答速度を向上することができる多重構造液晶光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多重構造液晶光学素子は、内側面上にセグメント電極が形成された基板と内側面上にコモン電極が形成された基板との間に液晶が封入された液晶素子が複数個互いに積層されて構成されており、セグメント電極が形成された基板とコモン電極が形成された基板とは、液晶が封入された状態で所定厚さに薄く加工されている。 （もっと読む）

【課題】タイリングを行う単位表示パネルの数に制限がなくなり、より大型の表示装置を簡単に製造することが可能なトランジスタアレイを提供する。
【解決手段】本発明は、矩形状の主面を有する基材１０と、前記基材１０の前記主面に対する積層方向に配設されるデータライン引き回し電極１００及びスキャンライン引き回し電極２００と、前記データライン引き回し電極１００と電気接続されるデータライン導通部と、前記スキャンライン引き回し電極２００と電気接続されるスキャンライン導通部と、前記データライン導通部と前記スキャンライン導通部からの信号で駆動されるトランジスタを含む回路により所定電圧が保持される画素電極３３０を複数含む表示エリア３００と、を有するトランジスタアレイ１であって、前記積層方向からみて、少なくとも前記データライン引き回し電極１００又は前記スキャンライン引き回し電極２００のいずれか一方が、前記表示エリア３００と重畳することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特性劣化に関係するデータ線Ｄｉ+及びＤｉ-の寄生容量が一番大きいのがウェルであることに着目し、ウェル電圧が揺すれないようにすることで、表示画面の横帯の発生や、フリッカ、焼きつきの発生を防止する。
【解決手段】ソースフォロワ用ＰＭＯＳトランジスタＴｒ３及びＴｒ４の定電流負荷として機能するＰＭＯＳトランジスタＴｒ１０は、電流供給端子Ｘに印加される電源電圧ＶＤ２と、ＰＭＯＳトランジスタＴｒ１０及び画素１０内の他のＰＭＯＳトランジスタの各バックゲートであるＮウェル端子に印加される電源電圧ＶＤＤとが、互いに異なる電源から印加され、かつ、同一電圧である。これにより、ソースフォロワ・バッファに電流を流す場合において電圧降下が見られる端子は電流供給端子Ｘのみとなり、ＰＭＯＳトランジスタのＮウェル端子に電圧降下の影響を及ぼすことがなくＮウェル電圧を固定できる。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板等の可撓性を有する基板を用いて、柔軟性を有する半導体装置を作製す
るための技術を提供する。
【解決手段】分離層を有する固定基板上に樹脂基板を形成する工程と、前記樹脂基板上に
少なくともＴＦＴ素子を形成する工程と、前記分離層にレーザー光を照射することにより
、前記分離層の層内または界面において前記固定基板から前記樹脂基板を剥離する工程と
を行い、前記樹脂基板を用いた柔軟性を有する表示装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、曲面を有する基材に被剥離層を貼りつけた半導体装置およびその作製方法を提供することを課題とする。特に、曲面を有するディスプレイ、具体的には曲面を有する基材に貼りつけられたＯＬＥＤを有する発光装置、曲面を有する基材に貼りつけられた液晶表示装置の提供を課題とする。
【解決手段】本発明は、基板上に素子を含む被剥離層を形成する際、素子のチャネルとして機能する領域のチャネル長方向を全て同一方向に配置し、該チャネル長方向と同一方向に走査するレーザー光の照射を行い、素子を完成させた後、さらに、前記チャネル長方向と異なっている方向、即ちチャネル幅方向に湾曲した曲面を有する基材に貼り付けて曲面を有するディスプレイを実現するものである。 （もっと読む）

【課題】薄くて軽いフレキシブル性を有するものであって、表示装置の薄厚化および狭額縁化などによる小型化や軽量化、さらには高牢性（高信頼性）を実現することのできる薄膜トランジスタ形成用基板、半導体装置、電気装置を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜トランジスタ形成用基板は、フレキシブル性又は伸縮性を有する基板と、基板内に埋め込まれた少なくとも１つの電子部品と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多層基板内にＴＦＴ素子の構成要素のうちの少なくとも１つを内蔵させることによって薄膜トランジスタの高精細化を実現できる薄膜トランジスタ形成用基板、半導体装置、電気装置を提供する。
【解決手段】本発明の第１基板３０（素子基板３００）は、表面に制御トランジスタの構成要素の少なくとも一部を備え、内部には制御トランジスタの構成要素に接続される走査線６６、データ線６８、保持容量線、保持容量が埋め込まれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄くて軽く、薄厚化および狭額縁化などによる小型化や軽量化、さらには高堅牢性（高信頼性）を実現することのできる半導体装置および電気装置を提供する。
半導体装置および電気装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置１００は、フレキシブル性を有する第１基板３０と、第１基板３０上に形成される複数の画素電極３５と、第１基板３０内に埋め込まれた少なくとも１つのドライバＩＣ８９と、ドライバＩＣ８９と画素電極３５とが接続配線２２を介して接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被剥離層に損傷を与えない剥離方法を提供し、小さな面積を有する被剥離層の剥離だけでなく、大きな面積を有する被剥離層を全面に渡って剥離することを可能とする。
【解決手段】基板上に金属層を形成する工程と、前記金属層上に酸化物層を形成する工程と、前記酸化物層上に絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層上に薄膜トランジスタを形成する工程と、前記薄膜トランジスタ上に発光素子を形成する工程と、人間の手又は前記薄膜トランジスタを引き剥がす装置を用いることにより、前記酸化物層の層内または界面において前記基板から前記薄膜トランジスタを剥離する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置、半導体装置の製造方法、電気装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、一面に、ソース電極４１ｃおよびドレイン電極４１ｄを有する第１基板３４と、一面に、ゲート電極４１ｅ、ゲート絶縁膜４１ｂおよび半導体層４１ａを有する第２基板３９と、第１基板３４および第２基板３９が互いの一面側を対向させて貼り合わされることによりこれら第１基板３４と第２基板３９との間に構成される薄膜トランジスタＴＲと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 水分に対する高いガスバリア性を有するにもかかわらず、プラスチックフィルムが吸湿した含有水分の除去が容易であり、表示素子の表示性能の低下などの問題が生じにくい、表示素子などへの用途に適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 基材プラスチックフィルムの一方の面にガスバリア機能層を有し、他方の面に透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記ガスバリア機能層の水蒸気透過度を０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下とし、前記透明導電層の水蒸気透過度を１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上としたことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】トランジスタ特性が優れ、しかも大面積化が容易なボトムゲート・ボトムコンタクト構造の有機薄膜トランジスタ、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】第１導電層及び第２導電層からなるソース・ドレイン電極を有するボトムゲート・ボトムコンタクト構造の有機薄膜トランジスタであって、該第１導電層は、塗布法を用いて形成されたものであり、該第１導電層の端部は該第２導電層の端部と比較して電極ブロックの内側に位置している有機薄膜トランジスタ。 （もっと読む）

【課題】製造コストの増大を抑制することが可能な非平面形状ディスプレイ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 非ガラス素材によって形成された非平面形状の絶縁基板、前記絶縁基板に接着された下地絶縁層、前記下地絶縁層上に形成されたスイッチング素子、及び、前記スイッチング素子に接続された画素電極を備えたアレイ基板と、非ガラス素材によって形成され、前記アレイ基板に貼り合わせられた対向基板と、を備えたことを特徴とする非平面形状ディスプレイ及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】２層構造の反射型カラー液晶表示素子の表示の明るさの改善。
【解決手段】第１液晶領域36および第２液晶領域37が交互に配置された第１液晶層と、第１液晶層に積層され、第３液晶領域38および第４液晶領域39が交互に配置された第２液晶層と、を備え、１画素あたりの面積が、第１液晶領域が第２液晶領域よりも大きく、且つ、第３液晶領域が第４の液晶領域よりも大きく、第１液晶領域は、第３液晶領域の一部および第４液晶領域に重なり、第１液晶領域36は、印加電圧に応じて第１波長帯域の光の反射率が変化し、第２液晶領域37は、印加電圧に応じて第２波長帯域の光の反射率が変化し、第３液晶領域38は、印加電圧に応じて第３波長帯域の光の反射率が変化し、第４液晶領域39は、印加電圧に応じて第４波長帯域の光の反射率が変化し、第１から第４波長帯域は、いずれも、その帯域が他と異なる反射型カラー液晶表示素子。 （もっと読む）

【課題】矩形のコーナー部がカットされた異形６角形である表示領域において、輝度むらや色むらを防止する。
【解決手段】走査線２０と映像信号線３０に囲まれた領域にサブ画素１１が形成され、前記サブ画素１１が３個組になって画素１０が形成されている。表示領域６０は、矩形のコーナー部がカットされた形状である表示領域傾斜部６１を含む異形６角形である。表示領域傾斜部６１において、走査線２０が延在する方向におけるサブ画素１１の数は、走査線２０をまたぐ毎に表示領域６０の片側で、３サブ画素あるいはその倍数で、均一に変化する。サブ画素１１の数を均一に変化させることによって、ソースドライバ８０における映像信号の大きさの調整を容易に行うことが出来る。 （もっと読む）

【課題】サイズを縮小することができ簡便な構造で、かつ、曲げ等に対する強度も有する液晶層に電圧を印加する。
【解決手段】液晶表示装置１では、電極２ａ，３ａは、互いに重なる領域を備え、接続部２ｂ，３ｂが基板２，３の一辺部にそれぞれ位置して、基板２，３の一辺部に接続基板５を挟持させて、端子５ａ，５ｂを接続部２ｂ，３ｂに接続させている。これにより、接続箇所が共通となって液晶表示装置１のサイズを縮小させることができると共に簡便な構成により電極２ａ，３ａに電圧を印加することができ、かつ、接続基板５が基板２及び３と挟まれた状態で接続されるため、曲げ等に対する強度も有することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、衝撃や振動に強く、信頼性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表示装置は、第１基板（アレイ基板）１と、第１基板１より、接触強度が弱い第２基板（カラーフィルタ基板）２と、第１基板１と第２基板２に挟持された表示素子（液晶）４とを具備する表示パネル（液晶パネル）１００を備える。第２基板２は、第１基板１より、平面視上、内側になるように配設されている。例えば、第１基板と第２基板はガラス基板であり、第２基板の厚みは、第１基板より薄い。 （もっと読む）