【課題】現像ラチチュードに優れ、耐刷性の良好な平版印刷版を作製しうる平版印刷版原版、それにより得られた平版印刷版及びその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、水不溶且つアルカリ可溶性樹脂を含む下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性又はアルカリ分散性のポリウレタン及び下記一般式（１）で表される複素環化合物を含む上層と、を順次備えてなり、下層及び上層の少なくとも一方に赤外線吸収剤を含有する赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版である。一般式（１）中、ＡはＮ又はＣＲ^２を表し、ＢはＮ又はＣＲ^３を表す。Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はアリル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はアリル基を表す。
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【課題】フレキシブルプリント配線板に用いて所要の屈曲性を確保できるとともに、所要の領域において耐熱性の高い保護膜を形成できる保護膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フレキシブルプリント配線板１の保護膜を形成する保護膜形成用樹脂組成物であって、硬化条件又は硬化特性の異なる第１の硬化性樹脂成分５ａと第２の硬化性樹脂成分５ｂとを含んで構成されるとともに、主として上記第１の硬化性樹脂成分を硬化させることにより、所要の変形能を有する保護膜が形成されるとともに、上記第１の硬化性樹脂成分及び第２の硬化性樹脂成分を硬化させることにより所要の耐熱性を有する保護膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と半導体装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜２の上に下層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料を塗布し、周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 （もっと読む）

【課題】低温硬化が可能で、アルカリ水溶液現像が可能であり、十分に高い感度及び解像度で、密着性及び耐熱衝撃性に優れるレジストパターンを形成することができるポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、係る方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び半導体装置を備える電子デバイスの提供。
【解決手段】フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、光により酸を生成する化合物と、熱架橋剤と、炭素数４〜２０のアルキル（メタ）アクリレート単位、（メタ）アクリル酸単位及び側鎖に１級、２級、３級アミノ基を有する（メタ）アクリレート単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 高温高湿下で電圧を印加した際、電極を構成する成分が感光性樹脂組成物中に拡散し電極が溶解するのを低下させることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 画像表示装置において、画素を分離する隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、上記感光性樹脂組成物が、（Ａ）成分：分子内にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するバインダーポリマー、（Ｂ）成分：光重合性化合物、（Ｃ）成分：光重合開始剤、（Ｄ）成分：カルボン酸と反応する官能基を有する化合物、（Ｅ）成分：メルカプト基を含まない複素環状化合物、（Ｆ）成分：無機系黒色顔料を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリイミド樹脂及びポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂を含有する感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置、及び新規のフェノール樹脂を提供する。
【解決手段】半導体素子の表面保護膜又は層間絶縁膜を形成するための感光性樹脂組成物であって、フェノール性水酸基数が異なる２種類以上のフェノール化合物を含む重合成分の重合反応生成物であるフェノール樹脂（Ａ）：１００質量部；及び光酸発生剤（Ｂ）：０．１〜５０質量部；を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】適度なゴム弾性を有し、しかも耐溶剤性にも優れる上、長期間に亘って黄変しにくいフレキソ印刷版を形成しうる、新規な感光性樹脂組成物と、前記感光性樹脂組成物を用いて製造されるフレキソ印刷版を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、１，２−ポリブタジエン構造を有し、かつ末端にエチレン性二重結合を有するプレポリマ、エチレン性不飽和単量体、および光重合開始剤としてのベンゾインアルキルエーテルを含む感光性樹脂組成物中に不純物として含まれるベンゾインの割合を、前記感光性樹脂組成物の総量の５００ｐｐｍ以下に制限する。また熱重合禁止剤としてヒドロキノンまたはその誘導体をも含む場合は、その配合割合を、感光性樹脂組成物の総量の１０ｐｐｍ以上、４０ｐｐｍ以下に規定する。フレキソ印刷版は、前記感光性樹脂組成物を用いて製造される。 （もっと読む）

【課題】低温硬化されて色特性に優れたカラーフィルタ層を有するアレイ基板を提供し、これを用いてカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料からなる群より選ばれる少なくとも１種の着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、式（１）または式（２）の化合物とを含有する着色組成物を用い、スイッチング能動素子８の形成された基板４上にカラーフィルタ層１３を低温で形成しアレイ基板１を構成する。アレイ基板１から液晶表示素子を構成する。
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【課題】エッチングを行わずに残膜除去処理を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。
【解決手段】実施形態のパターン転写方法では、被加工基板上に光反応性樹脂を形成する。さらに、前記方法では、凹凸パターンを有する透明基板と、前記凹凸パターンの表面の一部に形成された遮光膜と、を備えるモールドを前記光反応性樹脂に押印する。さらに、前記方法では、前記モールドが前記光反応性樹脂に押印された状態で、前記モールドを介して前記光反応性樹脂に光を照射する。さらに、前記方法では、前記光反応性樹脂に光を照射した後に、前記モールドが前記光反応性樹脂に押印された状態で、前記光反応性樹脂を加熱する。さらに、前記方法では、前記光反応性樹脂の加熱後に、前記モールドを前記光反応性樹脂から離型する。さらに、前記方法では、前記モールドの離型後に、前記光反応性樹脂を洗浄液で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式（１）または下式（２）の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜とスペーサとを用いてカラーフィルタ１０を製造する。このカラーフィルタ１０を用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】低温硬化により製造でき、高信頼性を有するカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式１または下式２の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサとを用いてカラーフィルタを製造する。このカラーフィルタを用いて液晶表示素子を構成する。
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【課題】耐熱性及び高温熱履歴後の耐薬品性に優れ、現像時の膜減りが少なく、現像工程における現像マージンが大きいポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）で表わされる化合物と式（２）で表わされる化合物とを加水分解・縮合反応させて得られる構造からなるシラノール基含有ポリシロキサン化合物、（Ｂ）エポキシ含有有機基を少なくとも２つ有する化合物、（Ｃ）ジアゾナフトキノン類及び（Ｄ）有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。Ｒ¹はＣ１〜４アルキル基等、Ｒ²はＣ２〜１０の２価炭化水素基、Ｒ³はＣ２〜１０の２価飽和脂肪族炭化水素基、Ｘは特定の一般式で表される基をそれぞれ表す。
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【課題】ポリカーボネート樹脂及び光酸発生剤を用いて成膜（フォトレジスト層）し、所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後現像液として有機溶媒を含まない水溶液を用いて現像することにより、十分なフォトレジストを得ることのできる反応現像画像形成法を提供する。
【解決手段】所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をＭＯＨ（式中、Ｍはアルカリ金属を表す。）で表される無機アルカリ等を含む水溶液で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層がポリカーボネート樹脂及びキノンジアジド構造を有する有機基と水酸基の両方を有する化合物（光酸発生剤）とから成ることを特徴とする反応現像画像形成法。 （もっと読む）

【課題】Ｔ−ゲート構造物の改良された形成法の提供。
【解決手段】ａ）基板を提供する工程、ｂ）基板上に平坦化層を配置する工程、ｃ）ＵＶ感受性第一フォトレジストの層を配置する工程、ｄ）マスクを通してＵＶ放射線に露光し、現像することによって、第一フォトレジストをパターン化して、Ｔ−ゲートの底部用の第一開口を規定する工程、ｅ）パターンを平坦化層に転写する工程、ｆ）このパターンをＵＶ放射線に対して非感受性にする工程、ｇ）ＵＶ感受性第二フォトレジストの層を配置する工程、ｈ）第二フォトレジストをマスクを通してＵＶ放射線に露光し、現像することによって、第二フォトレジストをパターン化して、第一開口の上のＴ−ゲートのキャップ用の第二開口を規定する工程、ｉ）第一開口および第二開口内に導電性材料を堆積してＴ−ゲートを形成する工程、を含む方法。 （もっと読む）

【課題】高感度で低温硬化が可能でかつ、十分な耐熱性をもち、強靭な膜質を持つ材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸でアルカリ可溶性が増大する化合物、（Ｂ）活性光線および／または放射線照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤を含み、前記（Ｃ）架橋剤が下記式（Ｉ）で表され、数平均分子量が６００〜２０００である、化学増幅型ポジ感光性組成物。式（Ｉ）


（式（Ｉ）中、Ａは、−Ｏ−および２価の有機基から構成され、かつ、少なくとも、下記式（Ｉ−２）で表される部分構造を含む。）式（Ｉ−２）


（Ｘは２価の有機基を示す。） （もっと読む）

【課題】 印刷法での回路パターンの高精細化の限界、フォトリソグラフィー法での高コストおよび加熱処理工程の長さ、さらに高温焼成タイプの導電ペーストで用いる基板の制約を解決する金属微粒子含有光硬化性樹脂組成物を提供し、それを用いた電気配線回路の形成方法、およびその方法によって製造されるタッチパネル用基材、表示装置用基材、情報処理端末装置用基材等の電気配線回路形成板法の製造を容易にすることを目的とする。
【解決手段】 本発明によれば、平均粒径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満の導電性を有する金属微粒子（ａ−１）を含む金属フィラー（Ａ）と、活性エネルギー線照射で硬化する光硬化性樹脂組成物（Ｂ）とを含有組成物中の金属フィラー（Ａ）：光硬化性樹脂組成物（Ｂ）の重量比が８０：２０以上９８：２未満の範囲であることを特徴とする金属微粒子含有光硬化性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】密着性に優れ、電気的信頼性の高いシリカ系被膜の硬化物が得られるシリカ系被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜の形成方法は、下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、オニウム塩と、を含有する感光性樹脂組成物を基板上に塗布して被膜を得る工程と、パターンマスクを介して被膜を露光する工程と、露光する工程の後に被膜を加熱する工程と、加熱する工程の後に被膜の未露光部を現像によって除去する工程と、除去する工程の後に残存する被膜に紫外線を照射して、パターンを有するシリカ系被膜を得る工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、画像記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記画像記録層が、ポリ（ビニルアセタール）と、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤と、赤外線吸収剤とを含有する平版印刷版原版、ならびに、平版印刷版原版の画像記録層を画像露光する露光工程、アルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】 各種性能に総合的に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ブトキシメチルアクリルアミド等を含むアルカリ可溶性樹脂と感放射線酸発生剤を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】経時安定性に優れ且つ露光ラチチュードが広い感光性フイルムを与えることが可能なジアゾ樹脂、このジアゾ樹脂を用いた感光性樹脂組成物及び感光性フイルムを用いたスクリーン版を提供する。
【解決手段】本発明は、硫酸とリン酸の存在下で、置換されていても良い４−ジアゾジフェニルアミンの水溶性塩とホルムアルデヒドとを縮合させることにより得られるジアゾ樹脂及び水溶性ポリマーを含む水溶液に、油溶性の光重合開始剤と光活性なエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する水不溶性又は難溶性の化合物との混合物及び疎水性重合体の少なくとも一方を分散させた感光性樹脂組成物に関する。この感光性樹脂組成物は、経時安定性に優れ、露光ラチチュードが広い感光性フイルムを与える。さらに本発明は、上記感光性樹脂組成物に特定なフッ素化合物を添加することにより、放電性能が優れたスクリーン版を提供する。 （もっと読む）