【課題】高調波光を安定して出射することが可能なレーザシステムを提供すること。
【解決手段】本発明は、レーザ光２４を発振するＤＦＢレーザ１２と、ＤＦＢレーザ１２の温度を調節するヒータ１４と、レーザ光２４をレーザ光２４の高調波光３４に変換する高調波生成素子１８と、を有するレーザモジュール１０と、高調波生成素子１８で変換された高調波光３４の強度を高調波生成素子１８で高調波光３４に変換されずに高調波生成素子１８を通過した非変換光３６の強度で規格化した規格化高調波光の強度が所定の強度になるようにヒータ１４に注入するヒータ電流２８を制御する制御部４０と、を具備するレーザシステム１００である。 （もっと読む）

【課題】幅広い出力範囲において迅速に紫外光を出力することができ、かつ、パワーレベルによらず高効率で紫外レーザ光を出力可能な紫外レーザ装置を提供する。
【解決手段】紫外レーザ装置ＬＳは、基本波レーザ光Ｌａを出力するレーザ光出力部１と、基本波レーザ光を紫外レーザ光Ｌｖに波長変換して出力する波長変換部３と、各部の作動を制御する制御部８とを備え、制御部８が基本波レーザ光の出力を制御することにより紫外レーザ光の出力を制御可能に構成される。制御部８には、基本波レーザ光の出力に応じた波長変換光学素子の位相整合条件を予め設定記憶する位相整合条件記憶回路を有し、制御部８が基本波レーザ光の出力に応じた位相整合条件を読み出して波長変換光学素子３５，３６の角度位置を調整し、波長変換光学素子が紫外レーザ光の出力パワーに合致した位相整合状態で動作するように構成する。 （もっと読む）

【課題】１００μ秒以上にレーザパルスの間隔を変化させても、その間隔に影響されることなく安定したレーザパルスを出力できるファイバレーザ光源を提供する。
【解決手段】レーザ活性物質を含むファイバとその両端にファイバグレーティングを設けたレーザ共振器と、前記共振器の一端に励起光を入射する励起用レーザ光源と、連続パルス光を出力する際に、前記励起用レーザ光源に前記レーザ共振器がパルス発光できる第１の電流を与えた後に、前記第１の電流より小さく前記レーザ共振器の閾値電流より大きい第２の電流を与え、前記第２の電流を停止した後に休止期間を設けて次のパルス発光を行うための電流を前記励起用レーザ光源に与える駆動電流供給手段と、から成るファイバレーザレーザ光源。 （もっと読む）

【課題】加工径を一定の大きさにできるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】基本波レーザ光２を高調波レーザ光に変換し変換ビーム５として出力する波長変換素子４と、変換ビーム５を加工ビーム１０として集光する集光レンズ９と、波長変換素子４の初期設定温度と加工ビーム１０の設定ビーム径とが格納されるメモリ１８と、変換ビーム５の一部を光量情報１２として検出する光量検出手段１１と、変換ビーム５の照射時間を測定し照射時間情報１５を測定する照射時間測定手段１３と、光量情報１２と照射時間情報１５とから加工ビーム１０の予測ビーム径を計算するビーム径予測手段１９と、ビーム径予測手段１９によって算出した予測ビーム径とメモリ１８に格納された設定ビーム径との差分に応じたビーム径調整温度を計算する。このビーム径調整温度になるように波長変換素子４の温度調整を行う温度調整手段４０とを有するレーザ加工装置とした。 （もっと読む）

【課題】簡明かつ低廉な構成で、第２高調波発生により波長２３５ｎｍ以下の紫外光を発生可能な波長変換光学素子を提供する。
【解決手段】一般式がＭＢe₂ＢＯ₃Ｆ₂で表され、当該結晶のｃ軸に直交して相互に平行に延びる上下面及び側面を有する板状をなし、側面はｃ軸と各々所定角度で交わる第１側面Ｓ１と第２側面Ｓ２とを有して構成される。第２高調波発生（ＳＨＧ）により紫外光を発生させる際の位相整合条件を満たす光の伝搬方向がｃ軸に対してθmである場合に、第１側面Ｓ１は、基本波が結晶内に入射可能であるとともに、入射した基本波及びＳＨＧにより発生した第２高調波がｃ軸に対してθmの角度で結晶内を伝播する傾斜角度であり、第２側面Ｓ２は、第１側面Ｓ１から入射して反射した基本波及び第２高調波が出射し得る傾斜角度であるように構成される。 （もっと読む）

【課題】複数の波長のレーザ光をそれぞれにパルス幅を延ばした上で出射させることができるようにする。
【解決手段】基本波と共に第２高調波，第３高調波を含むレーザ光を、ダイクロイックミラー３１，３２によって波長毎のレーザ光Ｌ１〜Ｌ３に分離する。それぞれを、偏光ビームスプリッタ５１（Ｌ１）〜５１（Ｌ３）によってＰ偏光成分Ｌ１Ｐ〜Ｌ３ＰとＳ偏光成分Ｌ１Ｓ〜Ｌ３Ｓとに分離する。Ｓ偏光成分Ｌ１Ｓ〜Ｌ３Ｓを、一対の全反射ミラー４２（Ｌ１）〜４２（Ｌ３），４３（Ｌ１）〜４３（Ｌ３）によって、Ｐ偏光成分Ｌ１Ｐ〜Ｌ３Ｐに直交する方向に屈折させる。そして、Ｐ偏光成分Ｌ１Ｐ〜Ｌ３ＰとＳ偏光成分Ｌ１Ｓ〜Ｌ３Ｓとを、偏光ビームスプリッタ５２（Ｌ１）〜５２（Ｌ３）で波長毎に同一光軸上に合成する。更に、偏光成分を合成した波長毎のレーザ光Ｌ１〜Ｌ３を、ダイクロイックミラー３３，３４によって同一光軸上に合成して出力する。 （もっと読む）

【課題】簡明な構成で、狭帯域のレーザ光を出力可能なパルス光の伝送方法、及びレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置１は、第１のパルス光Ｐ₁を出射する第１レーザ光源１１と、第２パルス光Ｐ₂を出射する第２レーザ光源１２と、これらのパルス光Ｐ₁，Ｐ₂を伝送して出射する光ファイバ２２とを備えて構成される。第２のパルス光Ｐ₂は、光ファイバ２２を伝播する過程で第１のパルス光Ｐ₁と相互位相変調を生じる光であるとともに、第１のパルス光Ｐ₁が光ファイバ２２を伝播する過程で生じる自己位相変調に基づく位相の変調を、第２のパルス光Ｐ₂が光ファイバを伝播する過程で生じる相互位相変調に基づく位相変調により補償して、光ファイバ２２の出力端２２oにおいて第１のパルス光Ｐ₁の位相が略一定となるように構成される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の発振波長を変化させる波長変換素子を備えた光デバイスにおいて、波長変換素子の温度調整を簡単な構造で効率よく高精度に実現する光デバイスを提供する。
【解決手段】シリコン基板１０上に光素子としての波長変換素子２０が搭載された光デバイス１において、シリコン基板１０上に形成されたヒータ４０ａ、４０ｂと、Ａｕからなり、シリコン基板１０と波長変換素子２０とを接合するとともに、ヒータ４０ａ、４０ｂで発生した熱を波長変換素子２０に伝えるマイクロバンプ３０ａ、３０ｂと、を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザーから出射された半導体レーザー光を光ファイバーにより転送して、該半導体レーザー光を励起光として固体レーザー媒質に入射するようにした半導体レーザー励起固体レーザー装置において、光ファイバーの脱着をレーザーの特性を変化させること無く高精度に行えるようにする。
【解決手段】光ファイバーにおける半導体レーザー光の出射側端部側に、コリメーターレンズを固定的に配設し、レーザー共振器を配置したレーザーヘッドに、コリメーターレンズにより平行光とされた半導体レーザー光を集光して固体レーザー媒質に入射する集光レンズを固定的に配設し、コリメーターレンズにより平行光とされた半導体レーザー光が、集光レンズにより固体レーザー媒質に集光して入射されるように、コリメーターレンズと集光レンズとを着脱自在に連結する。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザを用いたレーザ光源装置において、装置のコストアップや大型化を防止しつつ、固体レーザ結晶の発熱が、相対的に温度特性の悪い波長変換素子へ熱伝達してしまうことを防止し、この結果、常に安定した半導体レーザを供給することができるレーザ光源装置を得ることを目的とする。
【解決手段】励起光を出射する半導体レーザと、この半導体レーザにより出射される励起光により基本波光を発振する固体レーザ結晶と、前記基本波光を波長変換して高調波光を発生させる分極反転部を含む波長変換素子を備えたレーザ光源装置において、前記固体レーザ結晶と、波長変換素子と接合部に、固体レーザ結晶と波長変換素子を断熱する断熱部材があることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】温度変動が生じても高い効率で安定したパワー出力を実現できるレーザ光源装置を得ること。
【解決手段】レーザ素子１１と、前記レーザ素子１１の温度を計測するレーザ素子用温度測定手段１２と、前記レーザ素子１１が出力するレーザ光の波長変換を行う高調波発生素子１５と、前記高調波発生素子１５の温度を計測する高調波発生素子温度測定手段１３と、前記高調波発生素子１５の温度を調節する高調波発生素子温度調節手段１４と、前記レーザ素子１１の温度と前記高調波発生素子１５が出力するレーザ光のパワーが最大となる前記高調波発生素子１５の目標温度との関係を保持する記憶手段と、前記レーザ素子用温度測定手段１３によって計測された前記レーザ素子１１の温度から前記関係に従って求めた目標温度に前記高調波発生素子１５の温度が調節されるように、前記高調波発生素子温度調節手段１４を制御する制御手段２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】可飽和吸収体に入射する光の強度を容易に調整することができ小型化が容易なパルスファイバレーザ装置を提供する。
【解決手段】パルスファイバレーザ装置１は、ファブリペロ型の光共振器を有するものであって、励起光源１１、光結合部１２、増幅用光ファイバ１３、可飽和吸収体１４、屈折率分布レンズ１５、光出力部１６、分散調整部１７、ミラー２１およびミラー２２を備える。可飽和吸収体１４およびミラー２１は一体とされて可飽和吸収ミラー２３を構成している。屈折率分布レンズ１５は、光ファイバ３２の端面から出力される光を収斂させて可飽和吸収ミラー２３へ出力し、可飽和吸収ミラー２３からの反射光を光ファイバ３２の端面に入力させる。 （もっと読む）

【課題】効率よくＤＵＶ光を発生させる光源装置、検査装置、及びコヒーレント光発生方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる光源装置は、波長１０６０〜１０８０ｎｍ光を発生させる第１のレーザ光源１１と、波長１７５０〜２１００ｎｍ光を発生させる第２のレーザ光源１６と、波長１０８０〜１１２０ｎｍ光を発生させる第３のレーザ光源１７と、第４次高調波発生により波長２６５〜２７０ｎｍの第１のＤＵＶ光を発生させる第２高調波発生器１２，１３と、第１のＤＵＶ光と第２のレーザ光源の出力光との和周波混合により波長２３２〜２３７ｎｍの第２のＤＵＶ光を発生させる第１の和周波発生器１４と、第２のＤＵＶ光と第３のレーザ光源の出力光との和周波混合により波長１９２．５〜１９４．５ｎｍの第３のＤＵＶ光を発生させる第３の波長変換手段とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】量子ドットにおいて励起子状態を操作し重ね合わせの状態を制御することにより、量子情報システムに関する状態を適切に利用する。
【解決手段】コンポーネントは、量子ビットと、前記量子ビットに関するコントローラとを具備し、前記コンポーネントは、量子ドットと、前記量子ビットを形成するために前記量子ドットに中性の励起子状態を生成する励起部とを具備し、前記コンポーネントは、前記状態の方向に関する光学的な測定を行う測定部をさらに具備し、前記コントローラは前記量子ドットに変調された電場を印加する電気的なコンタクトに結合している電気的な接続電源を具備し、変調は前記中性の励起子状態の崩壊時間よりも高速である。 （もっと読む）

【課題】 光吸収特性が異なる２種類の光定着トナーに対応できるレーザ定着装置、該レーザ定着装置を備える画像形成装置、および該画像形成装置を用いる画像形成方法を提供する。
【解決手段】 レーザ定着装置１００に、レーザ光を発射するレーザ光発射部１１０と、前記レーザ光が入射すると該レーザ光とは波長が異なる出射光が出射する波長変換部１３０とを設ける。 （もっと読む）

【課題】装置が大型化せず、パワー損失も少なく、且つ、ビームラインシフトを抑えつつ波長を可変可能な真空紫外光発生装置を提供する。
【解決手段】本発明の４波混合法を用いる真空紫外光発生装置は、セル１０と可視光光源２０と紫外光光源３０と第１レンズ４０と第２レンズ５０と第３レンズ６０とからなる。可視光光源２０は、照射する可視光の波長を可変可能である。紫外光光源は、セル１０内の希ガスの２光子吸収線に合わせられる紫外光を照射するものである。第１レンズ４０は、オフアキシャルな状態で可視光及び紫外光をセル内で交差するように集光するものである。第２レンズ５０は、オフアキシャルな状態で真空紫外光を平行化するものである。第３レンズ６０は、可視光の波長の変化による真空紫外光の第３レンズ６０への入射角の変化を、真空紫外光の波長の変化による第３レンズ６０における出射角の変化により相殺するように構成される。 （もっと読む）

【課題】複雑な補償機構を設けることなく、群速度分散スロープによる光パルスの時間幅の広がりや波形崩れの影響を低減した高ピークパワーの短光パルスを対象物に照射できる、非線形光学装置を提供する。
【解決手段】非線形光学装置は、短光パルスを発生する短光パルス源１０と、短光パルス源から発生した短光パルスを対象物に伝送するための短光パルス伝送系２０とを備える。非線形光学装置内で発生する非線形光学効果が実質的に無く、該非線形光学装置内の群速度分散量が実質的に無く、短光パルス源が発生する短光パルスは、変換限界に近く、且つ、パルス時間幅（半値全幅）T_FWHMが、Ｔ_１＜T_FWHM＜Ｔ_２を満たす。ただし、Ｔ_１，Ｔ_２は、パルス波形に依存して決定されるパラメータｋと総群速度分散スロープ量Ｄ_３ｄとから算出される。 （もっと読む）

【課題】高出力で、且つ、周波数の精度が高いヘテロダイン光源を、光周波数コム装置を用いて実現する。
【解決手段】ヘテロダイン光源（１）が、光周波数コムを生成する光周波数コム装置（１）と、第１出力光を発生する第１周波数可変レーザ（３）と、第１周波数制御機構（５、７）と、第２出力光を発生する第２周波数可変レーザ（４）と、第２周波数制御機構（６、８）と、第１出力光と第２出力光とを重ね合わせて光出力を生成する光結合器（２０）とを備えている。第１周波数制御機構は、第１出力光と光周波数コムとを重ね合わせた光に応答して第１出力光の周波数を光周波数コムのｍ_１次モードの周波数からΔ_１だけ高い周波数に調整する。第２周波数制御機構は、第２出力光と光周波数コムとを重ね合わせた光に応答して第２出力光の周波数を光周波数コムのｍ_２次モードの周波数からΔ_２（≠Δ_１）だけ高い周波数に調整する。 （もっと読む）

【課題】出射光の波長の可変範囲を広くし、かつ出力が低下することを抑制する。
【解決手段】強誘電体結晶基板１００は、端面１０２から端面１０４に向かう少なくとも一部の領域に複数の分極反転領域が周期的に形成されている。光源２００は、例えば半導体レーザーであり、強誘電体結晶基板１００の端面１０２に第１の波長を有する第１の光を入射させる。駆動機構３００は、光源２００を移動させることにより、端面１０２に対する光源２００の角度を変える。制御部４００は、駆動機構３００を制御することにより、端面１０２に対する第１の光の入射角を変化させる。 （もっと読む）