【課題】冷間圧延鋼板等の鋼帯の製造工程における洗浄工程、好ましくはｐＨが５以上、更に好ましくはアルカリ洗浄工程後のリンス工程において、汚れ成分の残留・蓄積を抑止し、低温でもリンス性に優れたリンス剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）臨界ミセル濃度（２５℃）が０．０７％以下の界面活性剤、（ｂ）アニオン性水溶性高分子及び（ｃ）水とを含有する鋼帯用リンス剤組成物であって、組成物中、（ａ）及び（ｂ）の合計量が特定範囲にあり、（ａ）及び（ｂ）を特定濃度で含有するリンス剤として用いるための鋼帯用リンス剤組成物。 （もっと読む）

【課題】フィルム基板表面を洗浄するに際して、新たな塵埃、微粒子の発生を防止すると共に、表面洗浄作業の静粛性を向上させようとする。
【解決手段】フィルム基板表面洗浄装置（１）において、動力であるモーター（Ｍ）と各粘着ラバーロール（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）との間において、回転軸（ＲＡ）（ＲＢ）（ＲＣ）（ＲＤ）等に軸着された非接触回転体（Ａ１…）（Ｂ１…）（Ｃ１…）（Ｄ１…）を組み合わせて構成される非接触回転伝達機構（Ｘ）により回転を伝達させることで、回転を伝達させる部品の接触がなく、フィルム基板の表面洗浄に際して新たな塵埃、微粒子等を発生させず、フィルム基板を破損させることもなく、しかも作業における静粛性を向上させるので、クリーンルーム内等の閉鎖空間内でのフィルム基板の製造に適するものとなる。 （もっと読む）

【課題】装置の清浄化を容易に、かつ短時間で行うことができる。
【解決手段】処理液配管による処理液の供給を遮断し、供給部５を注入部に連通接続した状態で、開閉弁３９を開放すると、洗浄液タンク３内の洗浄液が供給部５から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄できる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置１により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所であっても注入部より下流には洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。 （もっと読む）

【課題】容器１０の口部１０ｂがホルダ１８の筒状本体部３６内面に直接接触しないようにする。
【解決手段】この洗浄機のホルダ１８は、本体部３６内に容器１０を収容し、キャリア１２によって洗浄機内を搬送されるようになっており、この洗浄機からの排出部２０では、容器１０の底部１０ａをガイド部材２２によって支持させて移動し、このガイド部材２２を通過した位置でホルダ１８から容器１０を落下させて排出する。ホルダ本体部３６の内面には、容器１０の口部１０ｂの径より狭い間隔で、ホルダ本体部３６の全長に渡る縦方向のリブ３８を形成している。 （もっと読む）

【課題】 ポリエチレン容器に充填された尿素水溶液の品質を長期間に亘って保つ。
【解決手段】 ポリエチレン容器１０にカルシウム溶解可能な洗浄溶液を充填する洗浄溶液充填工程と、ポリエチレン容器１０を超音波洗浄器２０で所定時間洗浄する超音波洗浄工程と、ポリエチレン容器１０から洗浄溶液を排出する洗浄溶液排出工程と、ポリエチレン容器１０に純水を充填する純水充填工程と、ポリエチレン容器１０から純水を排出する純水排出工程と、ポリエチレン容器１０を乾燥機３０で乾燥させる乾燥工程と、を順次実行する。そして、洗浄溶液充填工程，超音波洗浄工程及び洗浄溶液排出工程により、ポリエチレン容器１０の内壁に残存するカルシウムを洗浄溶液に溶出させて除去し、その絶対量を減少させる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、基板表面を損傷させることなく、特にTFT工程における配線膜上の帯電異物を除去できる異物除去方法及びその装置を提供することである。
【解決手段】 前記課題を解決するため本発明は、押圧部材上に粘着層を介して定点配置したスペーサと、基板上の配線パターンが重ならないように位置合わせする工程と、前記押圧部材を所定の圧力で基板に接触させる工程と、前記粘着層で配線膜上の帯電異物を付着、除去する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無菌室内で使用する殺菌、洗浄ノズルとこれらのノズルを使用して発生させた殺菌剤水溶液のバブルによる容器の殺菌方法、洗浄水のバブルによる洗浄方法及び装置において、殺菌剤の消費量の低減化およびノズル管路の詰まり防止が図れるものを提供する。
【解決手段】殺菌剤水溶液又は洗浄水の供給配管に連通し先端の通路が絞られて開口する液通路が設けられたノズル本体と、該ノズル本体の液通路に設けられた狭窄部（オリフィス）と、該狭窄部の下流に開口しノズル本体の外部に通じるエア通路と、該エア通路のエア流量を調整するエア流量調整手段と、により構成され、ノズル本体の液通路の狭窄部を流れるときの流速負圧によりノズル周囲のエアを吸い込み、前記エア流量調整手段によりエアの吸い込み量を調整して殺菌剤水溶液又は洗浄水とエアを混合したバブル状液体を、倒立容器に噴出して殺菌又は洗浄する容器の殺菌、洗浄ノズル、容器の殺菌方法、容器の洗浄方法及び容器の殺菌、洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】 洗浄後の金属製ワークにおける錆の発生を従来よりも抑えることが可能な金属製ワークの洗浄システム、洗浄方法及び製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 本実施形態によれば、ＯＲＰが負の値となった酸化還元電位水により金属製ワークＷｋを洗浄することで、水道水を洗浄水として使用する従来の洗浄システム及び洗浄方法に比較して、洗浄後の金属製ワークＷｋにおける錆の発生を長期間に亘って抑制することができた。より具体的には、酸化還元電位水のＯＲＰを−５００ｍＶ以下及び／又は溶存水素量を１．０〜２．０ｐｐｍとし、ｐＨ７．０〜７．８とし、更に、ノズル２０２に供給される酸化還元電位水の水温を、３８度以下及び／又は、金属製ワークＷｋのうち酸化還元電位水が衝突している部分の温度を２８度以下とすることで、洗浄後の金属製ワークＷｋにおける錆の発生を、４日〜２５日間に亘って抑制することができた。 （もっと読む）

【課題】 搬送路の凹部表面を清掃できる技術を提供する。
【解決手段】 クリーニングシートは基材と少なくとも１つのブラシとを有する。基材は、搬送路で搬送できる寸法である。ブラシは帯状であり、搬送路の搬送方向に対し斜めとなり、且つ、各ブラシの毛が凹部表面と接するように基材上に設けられる。クリーニングシートを搬送路で搬送すると、ブラシの各々がセンサ表面の汚れをかきだす。 （もっと読む）

【課題】 被処理物に静電気が帯電するのを低減することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 電極１の少なくとも一面を誘電体カバー２で被覆する。誘電体カバー２で被覆された面を対向させて複数の電極１、１を対向配置することにより、対向する電極１、１間を放電空間３として形成する。放電空間３内にガスＧを導入すると共に対向する電極１、１間に電圧を印加することにより、大気圧近傍の圧力下で放電空間１、１内にプラズマＰを生成する。このプラズマＰを放電空間３の下側開口から吹き出して被処理物Ｓに供給することにより被処理物Ｓにプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置に関する。電極１の下側に誘電体で被覆された導電体４を設けると共に導電体４を接地する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、基板の非処理面に対する処理液の回込みを防止することができる基板の片面処理装置を提供する。
【解決手段】 平板形状を有する基板２１の片面２１ａを処理する片面処理装置２０は、回転自在に設けられて外周面に片面２１ａが接触するようにして載置される基板２１を搬送する複数の搬送ローラ２２と、基板２１の処理液を搬送ローラ２２の内部に供給する処理液供給手段２３とを含む。搬送ローラ２２は、処理液供給手段２３から供給される処理液を、その内部から外周面へ吐出し、吐出される処理液によって基板２１の片面２１ａを処理するように構成される。 （もっと読む）

【課題】基板から異物を効果的に除去できる異物除去装置，処理システム，及び，異物除去方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを支持する支持部１４０と，基板Ｗから異物を除去する異物除去器１４１と，基板Ｗに対して異物検査を行う異物検査機構によって得られた異物の位置情報に基づいて，異物に対する異物除去器１４１の位置を調節する制御を行う制御部１５０とを備えた。異物除去器１４１としては，異物を静電気力によって補集する捕集部材を用いた。 （もっと読む）

【課題】ピッチングの発生しない、光沢の優れた白肌のステンレス鋼を製造するためのコイル状ステンレス鋼線材の脱スケール方法を提供すること。
【解決手段】予めそのコイル状のステンレス鋼線材をコイル形状に保ったままショットブラストをかけてステンレス鋼線材の表面のスケール層を完全に除去することなく５〜１０μｍの範囲の厚み幅に制御してスケールを残存させ、しかる後に酸洗処理を行う。例えば酸洗処理は、第一の酸洗処理とソルト処理及び第二の酸洗処理とからなり、酸洗液として弗酸と硫酸を含有し、酸濃度が２０〜２５重量％の範囲にある比較的高濃度の酸液と酸濃度が５〜１５重量％の範囲にある比較的低濃度の酸液のうち選択された１種又は２種の酸洗液を用いてそれぞれ１段階又は２段階処理する。 （もっと読む）

【課題】現像スリーブ等の筒状面を短時間で効率的に洗浄する。
【解決手段】洗浄液槽８上に垂直に立設された円筒体２の内部に支柱１を植設し、ハンド１４によって搬送された被洗浄筒体Ｗ₁ を支柱１に被せて、円筒体蓋部５から被洗浄筒体Ｗ₁ と円筒体２との間の洗浄液流路３に洗浄液を注入し、流下する洗浄液によって被洗浄筒体Ｗ₁ の外径面を洗浄する。同時に、支柱１の中空部を通って上端に洗浄液を給送し、被洗浄筒体Ｗ₁ の内部の洗浄液流路４を流下する洗浄液によって被洗浄筒体Ｗ₁ の内径面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 発熱効率に優れた乾燥手段を備えたパネル状体洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄後のパネル状体を乾燥させるための乾燥手段１を備える。乾燥手段１は、回転体２の回転にて吸引・吐出を行なうと共に回転体２と空気との摩擦熱にて吐出空気温度を上昇させるブロワ３と、パネル状体に向けて空気を噴射させる噴射開口部４と、ブロワ３から噴射開口部４に空気を送り出す供給流路５と、パネル状体50に当てられた直後の空気を吸引する吸気開口部６と、吸気開口部６からブロワ３に空気を送り込む吸気流路７と、を有する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の表面にある有機物をプラズマによって、均一に分解、除去することができるプラズマ処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明のプラズマ処理方法は、印加電極１５に電圧を印加して処理ガスＧ１を活性化させることによりプラズマが発生するプラズマ発生領域Ｐ内に、基板Ｗを進入させて、基板Ｗの表面にある有機物を分解、除去する処理方法である。このプラズマ処理方法では、基板Ｗの表面における有機物と同様の有機物が表面にあるダミー基板Ｄを、基板Ｗの進入方向に対して、基板Ｗの前方に置き、基板Ｗにおけるプラズマ発生領域Ｐ内への進入に先立って、ダミー基板Ｄをプラズマ発生領域Ｐ内に進入させる。 （もっと読む）

【課題】 長いガス置換時間を必要とせずに、真空紫外光照射により試料洗浄を行える構成の簡素な真空紫外光照射装置を提供すること。
【解決手段】内部に真空紫外光発生用の放電用電極１６が配置された真空紫外光発生室Ａと、前記真空紫外光発生室Ａ内に真空紫外光発生用ガスを流入させるガス流入路１９ａと、前記流入した真空紫外光発生用ガスを真空紫外光発生室Ａから流出させるガス流出路Ａ１ａ、前記真空紫外光発生室Ａ内の真空紫外光が照射される真空紫外光照射位置で且つ前記真空紫外光発生用ガスの流路中に試料を支持する試料支持部材２１とを備えた真空紫外光照射装置。 （もっと読む）

【課題】 平判紙を積層させた紙山の側面に付着した紙粉を、未除去範囲を最小にして除去することにより、紙粉除去処理時間の短縮を図ることができ、抄紙工程に応じた生産性の向上に寄与することできる紙粉除去装置を提供する。
【解決手段】 搬送装置２で搬送された紙山Ｌの側面のそれぞれに対応させて、該紙山Ｌの高さよりも短い軸方向長さの円柱状ブラシ71を備えた掃き取り装置40を設ける。掃き取り装置40を、円柱状ブラシ71が側面のそれぞれに接触する位置と紙山Ｌの搬送域から退避した位置とで移動自在とするとともに、円柱状ブラシ71を上下方向と水平方向とに移動可能とする。円柱状ブラシ71を紙山１の側面に接触させ、回動させながら上下方向と水平方向を交互に移動させれば、側面の全域に対して紙粉除去処理を行える。 （もっと読む）