【課題】 長期にわたり安定的に、走行中のシート状物表面に付着した異物を除去し、かつ再付着を防止する付着異物除去装置並びに付着異物除去方法を提供する。
【解決手段】 走行中のシート状物の少なくとも一方の表面に対して設置され、前記シート状物に対してエアーを吹き付け可能なエアー吹付け手段Ａと、前記エアー吹付け手段Ａから吹き付けられたエアーがシート状物表面で反射する方向を覆うように配置された吸引手段を有する付着異物除去装置であって、エアー吹付け手段Ａから吹き付けられるエアーが前記シート状物表面上に衝突する位置と、前記吸引手段設置位置との間の領域Ｃに対して、前記エアー吹付け手段Ａから吹き付けられるエアーの反対方向にエアーを吹き付け可能なエアー吹付け手段Ｂを具備することを特徴とする付着異物除去装置、並びに付着異物除去方法。 （もっと読む）

【課題】糸屑のような糸毛状異物が付着したマットであっても、確実に清掃できると共に、メンテナンスの容易なマット清掃装置を提供する。
【解決手段】 ラジアル方向に対して回転前方へ傾倒した多数の短毛１ａを突設させた斜毛ローラ１を有し、斜毛ローラ１より大きな回転周速度にて回転し、短毛１ａから糸毛状異物Ｂを除去するために、斜毛ローラ１に接触する除去ローラ２を有している。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハをスポンジブラシによって所定の洗浄度合に洗浄できるようにしたブラシ洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】回転テーブル１１に保持された半導体ウエハ２２を回転駆動されるスポンジブラシ３８によって洗浄するブラシ洗浄装置において、上記回転テーブルを回転駆動するモータ１６と、上記洗浄ブラシを回転駆動するモータ３４と、上記スポンジブラシを上記被洗浄物の径方向に沿って揺動させる揺動機構３２と、上記スポンジブラシを半導体ウエハの径方向中心部から外方へ揺動させたときに上記スポンジブラシの上記半導体ウエハに接触する端面と上記半導体ウエハの上記端面が接触する部分との相対速度が所定値以上になるよう上記角モータを制御する制御装置６４とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】作業者が誤ってノズル部分を手で握るという不具合を解消して高い安全性を確保することができる高圧水洗浄装置を提供すること。
【解決手段】先端にノズル１５とランス１４が取り付けられたフレキシブルホース１３を縦型配管１０１の内部に下方から挿入しながら前記ノズル１５から噴射される高圧水によって縦型配管１０１内を洗浄する高圧水洗浄装置において、互いに平行に配されたローラ（２部材）１８間に前記フレキシブルホース１３を通すとともに、該フレキシブルホース１３の先端に取り付けられた前記ランス１４の一部に前記ローラ１８間の隙間よりも大きな外径を有する大径部１４Ａを形成する。又、前記ローラ１８の近傍に飛散防止カバー１２を立設する。 （もっと読む）

【課題】内刃を水洗い洗浄する際に外刃も同時に洗浄して、内刃や外刃に付着した毛屑や皮脂などを効果的に洗い落とすことができる電気かみそりの清掃具を提供する。
【解決手段】清掃具は、外刃ホルダー１２が装着された状態のヘッド部２に着脱自在に装着される洗浄部４５と、ヘッド部２に装着した洗浄部４５を分離不能に係合保持する保持構造８５を備えている。洗浄部４５は、洗浄液を貯留できるよう容器状に形成してあり、洗浄部４５に貯留した洗浄液に内刃１８と外刃１９とを浸漬した状態で同時に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】対象物を配合するための配合装置を提供する。
【解決手段】装置は、搬送モジュールと、洗浄モジュールと、受容モジュールと、配合・液化モジュールと、放出モジュールと、制御モジュールと、を含むことが好ましい。搬送モジュールは、対象物を受容モジュール内に搬送する。搬送モジュールは、対象物を移送する間に、洗浄モジュールによってすすがれ、乾燥される。配合・液化モジュールが、受容モジュール内の対象物を配合し液化した後、放出モジュールが、配合し液化した対象物を放出する。 （もっと読む）

【課題】被処理体の表面上に処理流体が滞留するのを防止して表面処理の均一性を向上させることができる高圧処理装置を提供する。
【解決手段】回転軸Ｊ回りに回転駆動される基板Ｗに対して噴出管５から噴出されるＳＣＣＯ2が基板Ｗの表面に平行に供給される。噴出管５は回転軸Ｊに平行な回動軸Ｋ回りに回動自在に設けられており、コントローラ４からの制御指令に基づき、サーボモータ７３が作動することで噴出管５が回動駆動される。これにより、噴出管５からのＳＣＣＯ2の噴出方向が変更可能となっている。このため、基板Ｗの表面処理のプロセス条件に応じてＳＣＣＯ2の噴出方向を自在に調整することができ、基板Ｗの表面上におけるＳＣＣＯ2の滞留を防止して表面処理の均一性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、被処理材のエアブローを被処理材の長さに応じて効果的に行える被処理材の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 管材内面の洗浄装置において、管材端部に固定集塵機の集塵フードを設置すると共に該集塵フードの前に管材端面を揃えるためのストッパーを設置し、もう一方の端部には位置決め可能な台車にエアブロー用ノズルを配設した管材の洗浄装置。また、上記位置決め可能な台車は管材と平行に設置された軌道に設置されてなり、さらに、上記エアブロー用ノズルはエアプレートに配設し、かつエアシリンダーと一体の台車に積載されてなる管材の洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】ベベル部の汚染に起因する基板の処理不良の発生を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、ベベル処理ブロック１０、反射防止膜用処理ブロック１１、レジスト膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜用処理ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。ベベル研磨部５０では、ベベル研磨ユニットにより基板Ｗのベベル部に研磨処理が施される。それにより、基板のベベル部に付着する汚染物が確実に取り除かれる。 （もっと読む）

【課題】加工製品洗浄装置の回転冶具における加工製品固定手段を改良することにより、回転時における加工手段の脱落等をなくす。
【解決手段】ターンテーブル上に植立させた保持ピンを、ターンテーブルの回転軸線方向に向けてそれぞれ一定の角度傾倒させて取り付ける。これによりターンテーブルが回転した際に加工製品に遠心力を生じても、加工製品の全質量がターンテーブルの回転力に応じて次第に保持ピンの傾倒する基部方向に引き寄せられる結果、保持ピンによって固定された被洗浄材である加工製品が、ターンテーブルの回転による遠心力に伴って保持ピンより外れて離脱し、洗浄装置内での加工製品の暴れを生じ、また他の加工製品等との干渉接触により損傷を生じ、また鉄粉の飛散による作業者の目の損傷や工場内作業環境の悪化をなくすことができる。 （もっと読む）

【課題】 焼成工程終了後に行われる食型内部の清掃を衛生的且つ連続的に効率よく行うことが可能な製パン用食型等の集塵装置を提供する。
【解決手段】 複数の食型２８などを順次、所定位置へ搬送する搬送手段１２と、搬送手段１２の上部に設置され、該搬送手段１２上の食型２８などの上部を覆うとともに、該食型２８などに対し、上方より負圧を発生させ、食型２８などの内部にある異物を吸引する負圧発生フード１４と、負圧発生フード１４内側に配設され、食型などの内部に圧縮空気を噴射する圧縮空気噴射手段１６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】液体中に在る物体表面に密着しかつ物体表面に沿って移動することのできる装置において、物体表面を気体のみに接触せしめる気体領域を具備し、気体領域において物体表面に対して研掃作用などの作用を施す装置を提供する。
【解決手段】メインケーシングと該メインケーシングの開口部に装着され物体表面１に接触するシール部材３１とが物体表面１と協働して規定する負圧領域１２と；該負圧領域１２の内部において物体表面１に向けて研掃材と圧縮空気を噴出する研掃材噴射ノズル８４と；該メインケーシングと物体表面１との距離を任意の距離に維持し且つ物体表面に沿って移動可能な手段；とを具備し、該負圧領域１２は真空源９６と圧縮気体源９４とに連結されるとともに、研掃材噴射ノズル８４から圧縮空気を噴射する場合、負圧領域１２と圧縮気体源９４の圧縮空気との圧力の差圧が一定になるように圧縮空気の圧力を制御する。 （もっと読む）

【課題】環状対象物から除去した異物が環状対象物に再付着することを防止することができる異物除去装置を提供すること。また、環状対象物から除去した異物を吸引する場合に、吸引能力を向上させることができる異物除去装置を提供すること。
【解決手段】異物除去装置１において、ワークＷの内側にて半径方向に対して斜め外向きにエアを噴出する中央ノズル４１と、ワークＷの外側にて半径方向に対して斜め内向きにエアを噴出する周辺ノズル４２と、ワークＷを覆うとともに退避可能なエンクローズケース３０と、中央ノズル４１および周辺ノズル４２から噴射されたエアによってエンクローズケース３０に形成されたエア流れの向きを下向きに変えるためにエンクローズケース３０の内壁に取り付けられた羽根３５，３６と、吸引口２６を外周部に制限する円錐コーン２５が備わり、エンクローズケース３０内の異物を吸引する吸引部１２とを設ける。 （もっと読む）

【課題】ワークの凹凸部に対する除塵性能を向上させた除塵装置を提供する。
【解決手段】エア吐出室１０４，１０５と、エア吸引室１０６と、内部空間がエア吐出室１０４，１０５に連通するノズルフード１１４と、このノズルフード１１４の内側に同心状に配置され、かつエア吸引室１０６に連通するエア吸引口１１６を有するエア吸引筒１１５とを備え、ノズルフード１１４の先端部とエア吸引筒１１５の先端部との間の隙間によってエア吐出口１１８を形成すると共に、ワーク３００が有する凸部３０１をエア吸引口１０６の内側に配置させ、エア吐出口１１８から凸部３０１方向にエアを吐出させてこのエアをエア吸引口１０６から吸引するようにした凸部用除塵ヘッド１００と、吐出ノズル２２０を除いてほぼ同様に形成された凹部用除塵ヘッド２００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リードタイムを短くし、処理性能において従来よりも信頼性のある処理装置及び処理方法を提供する。
【解決手段】チャンバー１と、チャンバー内に設けられ、被処理物２を保持する保持手段３と、チャンバー内に活性原子を供給する活性原子供給手段４と、チャンバー内に薬液を供給する薬液供給手段５とを有し、被処理物の表面に対し、活性原子供給手段から供給される活性原子によるドライ処理及び薬液供給手段から供給される薬液によるウェット処理を行なう。 （もっと読む）

【課題】 段ボール製造のプラテン出口の分割装置内で発生する紙粉を、紙粉が発生する分割と同時にその部分の紙粉を除去する装置を提供する。
【解決手段】 分割部を構成している分割コンベア５および６の間の上部に加圧空気のヘッダに開孔を設けたエアノズル１を設備し、分割のタイミングと分割数でどのエアノズル１に空気を供給するか開閉弁３を制御すべく制御盤２を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板の洗浄を行うときに、基板の主面が異物の汚染を受けることをより確実に防止することができる基板の洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、被洗浄基板の端面をスクラブ洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、洗浄液供給ノズルから供給された洗浄液で被洗浄基板の端面をスクラブ洗浄する洗浄子と、前記被洗浄基板の主面にリンス液を供給するリンス液供給ノズルと、該リンス液供給ノズルと前記洗浄子との間に配設された飛沫遮蔽部材とを具備し、飛沫遮蔽部材およびリンス液供給ノズルは、被洗浄基板の両主面側に配設されており、飛沫遮蔽部材は、洗浄子から洗浄液の飛沫が被洗浄基板の主面へ飛散するのを防止するものであり、リンス液供給ノズルは、被洗浄基板の主面から端面方向へリンス液を供給して、洗浄液が被洗浄基板の端面方向から主面方向に進入するのを防止する基板の洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】建物の外壁を洗浄する洗浄装置において、余剰に供給された洗浄液を適切に処理し、外壁上の洗浄液を洗い流すことを可能にする。
【解決手段】洗浄装置（２００）は、基板（１０３）と、基板の表側に取り付けられ、基板の面と平行な回転軸を有する洗浄ブラシ（１０４）と、基板の裏側に取り付けられた把持部（１０２）と、基板の表側において、基板の周囲に設けられたカバー（１０５）と、基板の表側に洗浄液を供給する洗浄液供給機構（１２０）と、からなる。カバーには、洗浄装置の使用時に最も下になる位置に、カバーを貫通する排水口（２０５）が形成されている。洗浄装置（２００）は、基板の表側に洗浄水を供給する洗浄水供給機構（２０１）と、排水口と排水タンクとを連結する排水用ホース（２０６）と、をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】矩形のフォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄装置１は、フォトマスク基板８が収容される処理カップ２と、フォトマスク基板８を保持するとともに、フォトマスク基板８を回転させる回転板３と、長手方向の長さがフォトマスク基板８の対角長の１／２より長く、かつ、回転するフォトマスク基板８の外周部から中心部を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板８の表面を接触洗浄するロールブラシ４とを具備した構成としてある。 （もっと読む）

【課題】基材の外周部に被膜された不要物に反応性ガスを接触させて除去する際、反応性ガスの利用効率及び反応効率を高め、所要ガス量を低減できる基材外周処理装置を提供する。
【解決手段】基材外周処理装置にオゾン等の反応性ガスの供給路４２を形成し、この供給路４２に柄杓型ノズル６０の導入部６２を連ね、この導入部６２の先端に柄杓型ノズル６０の筒部６１を設ける。この筒部６１を基材Ｗの被処理位置に被さるように配置する。筒部６１の内部は、導入部６２より拡開しており、反応性ガスを一時滞留させる一時滞留空間となる。好ましくは、筒部６１の下端部に切欠きなどの逃がし口を設ける。 （もっと読む）