【課題】 超音波洗浄器において、洗浄槽中の洗浄液にほぼ均一で超音波振動を発生させ、洗浄対象物の汚れをムラなく短時間で除去することを提供すること。
【解決手段】 洗浄槽２の底面を構成する底板４は、２３６ｍｍ角で厚さが２ｍｍのステンレス（ＳＵＳ３１６）板である。そして１０８個の圧電セラミック９を、ステンレス（ＳＵＳ３１６）板にエポキシ樹脂を用いて接合している。１個の圧電セラミック９の形状は、長さ５８ｍｍ、幅２．０ｍｍそして厚さ３．０ｍｍである。また、分極方向は厚さ方向である。なお、１個の圧電セラミック９だけの所望の振動モードの共振周波数は約４６０ＫＨｚであるが、底板４と１０８個の圧電セラミック９を接合した構成の超音波振動子の共振周波数は、約４４０ＫＨｚである。次に図示しない超音波駆動回路より約４１５ＫＨｚの周波数の交流電圧を、リード線を通して圧電セラミックに印加する。 （もっと読む）

本発明は、汚れた基材をクリーニングするための方法および配合物を提供する。この方法は、濡らした基材を、多数のポリマー粒子を含む配合物で処理するステップを含み、この配合物は有機溶剤を含有しない。好ましくは、基材対水の比が１：０．１から１：５ｗ／ｗの間となるように基材が濡らされる。場合により、上記配合物は、少なくとも１種類のクリーニング材料をさらに含み、この実施形態においては、ポリマー粒子が少なくとも１種類のクリーニング材料でコーティングされることが好ましい。好ましくは、クリーニング材料は界面活性剤を含み、最も好ましくは、それが洗浄特性を有する。最も好ましくは、基材はテキスタイル繊維を含む。典型的には、ポリマー粒子はナイロン粒子を含み、最も好ましくはナイロンチップの形状である。得られる結果は、従来のドライクリーニング方法を行った場合に観察される結果と非常に類似し、本発明の方法では、費用および環境への配慮に関するあらゆる欠点を有する溶剤の使用を回避できるという顕著な利点が得られる。 （もっと読む）

【課題】共振周波数が振動板の全部位で一定に保たれるようにして、被洗浄物に対して常に均一な精密洗浄が行える超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置は、洗浄液が溜められた洗浄槽と、洗浄槽内の洗浄液に５００ｋＨｚ以上の超音波振動を伝搬させるための超音波振動体とを備えた超音波洗浄装置であって、 超音波振動体は、複数枚の平板状超音波振動素子が振動板上に並べて接着された複合素子配置構造体を有し、複数枚の平板状の超音波振動素子のおのおのは、所定の対象洗浄領域に対して平坦状の超音波放射特性を持つ形状を有し、超音波振動の周波数ばらつきを抑えて超音波振動体の全面において実質上均一な超音波放射特性が得られるように研磨加工および研削加工の機械加工により前記振動板の振動部位の板厚差が±３％の範囲内のものとする振動板としたものである。 （もっと読む）

【課題】簡単な方法及び簡易な構成で、洗浄能力を確実に維持するとともに更なる長寿命化を図ることを可能にした硫酸過酸化水素洗浄液による洗浄方法、電気光学パネルの製造方法及び硫酸過酸化水素洗浄装置を提供する。
【解決手段】硫酸及び過酸化水素を含む硫酸過酸化水素洗浄液９を用いた洗浄方法であって、硫酸過酸化水素洗浄液９内に電気光学パネル用基板を浸漬させて該電気光学パネル用基板を洗浄する洗浄工程と、硫酸過酸化水素洗浄液９における硫酸、過酸化水素及び水の濃度を検出する濃度検出工程と、硫酸、過酸化水素及び水の濃度をそれぞれ所定範囲内に収めるように、硫酸過酸化水素洗浄液９に過酸化水素水及び硫酸を供給する供給工程とを有し、硫酸過酸化水素洗浄液９におけるカロ酸濃度を所定範囲内に保持する。 （もっと読む）

【課題】処理液投入量を高精度に制御でき、処理液への気泡混入および処理液の飛散を抑制できる処理液投入装置を提供する。
【解決手段】薬液投入装置１２は、薬液貯留槽２８から調合槽１１へと薬液を供給する薬液投入配管２１を備えている。薬液供給配管２１は、可撓性配管で構成されており、その先端部付近に浮き部材２４が固定されている。浮き部材２４は、調合槽１１内における処理液１５の液面の上下動に追従し、薬液投入配管２１の吐出口２１ａを当該液面に位置させる。 （もっと読む）

【課題】予備ユニットの準備処理をスケジュールに組み込むことにより、処理液の準備処理を行う場合であっても装置の稼働率を向上させることができる。
【解決手段】制御部２５は、予備ユニットである薬液処理部２３ｂにおいて、準備処理に要する時間を、使用される薬液処理部１９ｂのタイミングに合わせて前に配置する。したがって、薬液処理部１９ｂにおいて燐酸を使用する際には、予備ユニットにおける温調の準備処理が終わっており、予備ユニットである薬液処理部２３ｂの準備処理待ちによるスケジュールの遅れを防止することができ、装置の稼働率を向上できる。 （もっと読む）

【課題】 白ヤケを除去したあと、ガラス製品の品質を高く維持することを可能とする。
【解決手段】 洗浄剤を用いて、超音波洗浄によりガラス製品の白ヤケを洗浄して、ガラス製品から白ヤケを除去する。とくに、２０〜４００ＫＨ_Zの周波数および１０〜１５０mＶの音圧の超音波洗浄によりガラス製品の白ヤケを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】洗浄剤すべてを食品添加物として認められたものを使用して、洗浄作業を安全に行うことができ、また洗浄効果としても優れていると共に、洗浄後は食品用ボトルとして再利用することができるプラスチック製ボトルの洗浄方法を提供する。
【解決手段】プラスチック製ボトルを非イオン界面活性剤を０．０１〜０．１重量％含有するｐＨ１１．５〜１２．５のアルカリ性溶液に接触させることにより、素材に損傷を与えることなく、使用済みプラスチック製ボトルを再利用可能に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 半田付け基板等における半田用フラックスと、ドライフィルムレジストとの同時洗浄が可能な両用洗浄剤およびそれを用いた被洗浄物の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 半田フラックスと、ドライフィルムレジストと、を同時洗浄することが可能な両用洗浄剤であって、全体量に対して、ベンジルアルコールの添加量を５〜９４重量％の範囲内の値、アミン化合物を１〜５０重量％の範囲内の値、かつ、水を３〜９０重量％の範囲内の値とする。 （もっと読む）

【課題】 被処理物の入出口に複雑な仕切り機構を必要とせず、かつ、槽内に供給する不活性ガスの供給量を低減する。
【解決手段】 ＩＰＡ蒸気２４を充満させた槽１０内に被処理物である基板１８を挿入し、基板１８の表面に付着した水分を除去して処理させるようにした蒸気処理装置において、基板１８の挿入時に窒素ガスを槽１０内に供給するガス供給器２６と、基板１８の熱負荷に応じてガス供給器２６から槽１０内に供給する窒素ガスの流量を制御する制御器３４とを具備している。 （もっと読む）

【課題】Ｆｅ、Ｃｒ及びレジスト含有水の膜分離装置における膜モジュールの膜面に付着した酸化クロム、酸化鉄及びレジストを効率的に洗浄除去して、長期間にわたって膜性能を高く維持するための膜の洗浄方法を提供する。
【解決手段】Ｆｅ、Ｃｒ及びレジスト含有水の膜分離処理用の膜モジュールの洗浄方法は、膜モジュールをＮａＯＨ溶液による第１の洗浄工程と、酸による第２の洗浄工程とを有する。前記第２の洗浄工程において途中で酸溶液を１回又は２回以上入れ替えて、新しい酸溶液で再び膜洗浄してもよい。 （もっと読む）

【課題】レジストの除去方法、特に最表層にレジスト変性層が形成されている場合であっても高効率に基板からレジストを除去することができるレジスト除去方法を提供する。
【解決手段】基板からレジストを除去する方法であって、基板の表面にピロリドン類を含有する溶剤を供給する有機溶剤処理工程を有するレジスト除去方法。 （もっと読む）

【課題】気相成膜法により成膜する際に用いられるマスクに付着したアルカリ金属、アルカリ土類金属またはランタノイド系金属のフッ化物のうちの少なくとも１種を、容易かつ確実に除去し得るマスクの再生方法を提供すること。
【解決手段】本発明のマスクの再生方法は、シリコンで構成される部位を有し、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはランタノイド系金属のフッ化物のうちの少なくとも１種を気相成膜法により成膜するのに使用されるマスクから、使用後に付着した前記フッ化物を除去してマスクを再生する方法であり、前記フッ化物を、ｐＨ７以下の除去液に接触させることにより除去する除去工程と、マスクを洗浄する洗浄工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄水を再利用することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物を洗浄するための洗浄槽と、該洗浄槽から排水される水を受け貯留する貯留槽を備え、貯留槽の水を洗濯水として再利用する洗浄装置は、
前記貯留槽に貯留された水を取り出し、該水を当該貯留槽へと戻すための第１の経路と、前記第１の経路の途中で分岐され前記貯留槽の水を前記洗浄槽へと送るための第２の経路と、前記第１の経路と第２の経路のいずれかの経路に切り替えるための制御弁と、前記貯留槽から前記分岐されるまでの第１の経路に設けられ、前記貯留槽の水を吸引し、送り出すためのポンプと、前記第１の経路中に設けられ、前記貯留槽へと戻され水を浄化するための浄化手段と、前記制御弁、ポンプを制御することで、前記貯留槽の水を前記洗浄槽へ、あるいは前記貯留槽の水を第1の経路を経由して当該貯留槽へ戻し、前記貯留槽へと戻される水を浄化するために前記浄化手段を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の乾式化学処理方法及びその使用法を提供する。
【解決手段】本発明は、加熱された反応チャンバ内で、エッチング剤として塩化水素を含有するガスによりシリコン、セラミック、ガラス、及び石英ガラスから成る群から選択される基板を処理する基板の乾式化学処理方法、及びこの方法により製造することができる基板に関する。本発明は、上記の方法の使用法にも関する。 （もっと読む）

【課題】無機塩水溶液を用いて基材面のポリイミド膜を除去するにあたり、洗浄能力を高める洗浄液の組成を検討し、ポリイミド膜を効率よく除去する技術を確立する。
【解決手段】水酸化ナトリウムなどのアルカリ性無機塩と過硫酸ナトリウムなどの酸化剤を必須成分として含むアルカリ水溶液を洗浄液とし、この洗浄液にポリイミドが蒸着した石英管などの被洗浄材を浸漬し、必要に応じ加熱、振とうしながら洗浄する。酸化剤がポリイミド膜の組成を変化させ、あるいはポリイミド膜を酸化分解し、アルカリ水溶液によるポリイミド膜の加水分解と溶解を促進させて、無機塩だけの水溶液の場合に比してポリイミド膜の洗浄効果を格段に高める。 （もっと読む）

【課題】高濃度オゾン水で洗浄することができ、小型化を図れ、しかも給水・排水量も極めて少なくコスト低減を図ることのできるオゾン水洗浄装置を提供する。
【解決手段】オゾン水洗浄装置１００は、陽イオン交換膜１０２の一方の面に陽極電極１０３を圧接させ、他方の面に陰極電極１０４を圧接してなる触媒電極１０１が設けられ、陽極電極１０３と陰極電極１０４との間に直流電圧を印加し、陽極電極１０３に原料水を連続接触させることによりオゾン水を生成する水槽１と、水槽１の上方に設けられたドーム２と、ドーム２内で水槽１内のオゾン水を噴射する噴射手段４〜７と、ドーム２の壁面に形成されて被洗浄体Ｓが挿入される開口部２５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー工程後のワーク表面に残存するフォトレジストを除去する際に用いる洗浄除去剤であって、導電性膜の腐食が起こらず、高温で使用しても不溶物を析出することがなく、しかも安全性及びレジスト除去性が高い洗浄剤を提供することを目的とする。導電性膜を腐食させることなく、かつ、レジストに対する洗浄力が高く、操作性も容易で、人体や環境への悪影響も少ない洗浄剤を提供する。
【解決手段】ジメチルスルホキシド４０〜８０質量％及び、ε-カプロラクトン及び又は炭酸プロピレンのような特定の環状化合物６０〜２０質量％からなる混合物、又は該混合物を主成分とする組成物をレジスト洗浄除去剤として用いる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上のガラスカレットの除去性を向上させ、画素の欠けや剥がれを引き起こすことなく、感光性樹脂残渣を効果的に除去することができ、しかも、高アルカリ水溶液中でも幅広い温度変化に対して安定な高濃縮タイプの洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるアルキルグルコシドを必須成分として含有する洗浄液組成物であり、更にアルカリ剤及び、又はポリオキシアルキレンエーテル型非イオン界面活性剤を含有することが好ましい。
Ｒ−Ｏ−（Ｇ）ｎ−Ｈ ・・・（１）
（式中、Ｒは炭素数１〜２２の直鎖又は分岐のアルキル基又はアルケニル基であり、Ｇは炭素数５〜６の還元糖を示し、ｎは１〜５である。） （もっと読む）

【課題】製造時間が短縮され、様々な大きさの基材への対応が容易であって、かつ基材が複雑な三次元構造体であっても基材をムラなく洗浄することが可能な、有機薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材表面に有機薄膜を形成する有機薄膜の製造方法であって、基材をオゾン水又は過酸化水素水で洗浄する工程（Ａ）を有することを特徴とする有機薄膜の製造方法。好ましくは、オゾン水中のオゾンの濃度が、５〜１００ｐｐｍ、過酸化水素水中の過酸化水素の濃度が１〜３０重量％であることを特徴とする有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）