【課題】 処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬することにより行われる基板処理のスループットをさらに向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 時刻ｔ１から時刻４までの期間、処理槽、外槽、分岐排出管、および排出管の純水を排液ドレインに排出する。また、純水を排出しつつ、時刻ｔ３において処理槽に硫酸を供給する処理を開始する。次に、時刻ｔ４において硫酸を供給しつつ内−内循環処理を開始する。続いて、外−内循環処理が開始される時刻ｔ６より前の時刻ｔ５において温調処理を開始する。これにより、循環処理を開始するタイミング、および温調処理を開始するタイミングを、従来の液交換処理と比較して早くすることができる。そのため、硫酸を処理槽に供給し、かつ、所定の温度に温調する液交換処理時間を短縮できる。 （もっと読む）

【課題】マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】マスクに付着された物質にレーザビームを照射するステップと、マスクに付着された物質を除去するステップと、を含むことを特徴とするマスク洗浄方法である。これにより、マスクに付着された物質を迅速かつ効率的に除去できる。また、マスクに付着された物質を除去するステップは、マスクを超純水に浸漬するステップと、マスクを有機溶剤に浸漬するステップと、を含むものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 洗浄効果、洗浄効率の優位点を維持し、製品ダメージが極めて少ないという優位点も維持した状態で高圧気体の使用量削減を図ることのできる２流体洗浄用ノズルを提供する。
【解決手段】 噴出口から液体ミスト流を噴出して被洗浄物に衝突させる洗浄用２流体ノズルであって、高圧の気体と高圧の液体とを混合して液体ミストを形成する気液混合部、気液混合部に高圧の気体を導入する気体導入部、気液混合部に高圧の液体を導入する液体導入部、及び、気液混合部から噴出口に至る流通路を内部に有し、流通路内で液体ミストに運動量を付与して液体ミスト流を形成する加速管部を有する洗浄用２流体ノズルにおいて、加速管部内の流通路内壁に、流通路の長さ方向にスパイラル状に延びるスパイラル突条を設ける。 （もっと読む）

電子部品の洗浄に使用する超音波洗浄タンクであって、孔部を有する分流プレートに操作可能な状態で分離された上方部と下方部を有する。ピストン様の層流領域を発生させるために、洗浄タンクは、上方部の内部に突起物や障害物が存在しないように製造されている。孔部を通る洗浄流動体に均質流の発生を促進させるように、分流プレートは下方部内に反圧を提供するようになっている。洗浄流動体は電子部品を通過して上昇する。同時に、超音波トランスジューサが洗浄流動体内に超音波エネルギーを供給し、電子部品から汚染物が取り除かれるように超音波キャビテーション現象を促進する。汚染物は層流によって上方に運搬され、洗浄タンクの上縁部から溢れ出る。洗浄タンクはバッチモードまたは循環モードのどちらかで使用できる。 （もっと読む）

【課題】ＨＣＦＣ1４1ｂ（ハイドロクロロフルオロカーボン１４１ｂ）の全ての溶媒とうしての用途で使用可能なフッ素化炭化水素と酸素化溶媒とを含む新規組成物。固体表面の処理、クリーニング、脱脂、フラックス除去または固体表面の乾燥処理等で使用される。
【解決手段】ベースフッ素化物と、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）と、ＤＭＳＯおよび／または第二級ブタノールとから成る組成物。 （もっと読む）

【課題】 リブ材等の部材を痛めることなく短時間でフォトレジストを除去するフォトレジスト剥離液を提供する。
【解決手段】Ｎ（ＲＯＨ）_３（式中、Ｒは炭素数２〜４のアルキレン基である。ただし、３個のＲの全てが同一の炭素数のアルキレン基であるものを除く。）で表されるアルカノールアミン（Ａ）と溶媒成分（Ｂ）とを含有しているフォトレジスト剥離液。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄時における基板に対するダメージを抑制できる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 本基板洗浄方法では、基板を超音波洗浄するに際し、洗浄液として、水に水素と窒素との少なくともいずれか一つを溶解させてなる機能水を使用し、基板の超音波洗浄中に、基板を浸漬した洗浄液中に直流電圧を印加して基板の表面に電荷を生ぜしめ、基板から汚染物質を放出させる。 （もっと読む）

【課題】マスク基板表面のレジストを高い効率で除去することができるマスク基板用レジ
スト除去装置を提供する。
【解決手段】オゾン水を用いてマスク基板表面のレジストを除去するマスク基板用レジス
ト除去装置であって、少なくとも、前記マスク基板の上面に対向し、前記マスク基板の上
面との間にオゾン水流の水路を形成する上板と、前記マスク基板の側面に対向し、前記マ
スク基板の側面との間にオゾン水流の水路を形成する側板とからなる蓋部を備えるマスク
基板用レジスト除去装置。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物に付着した汚染物質としての感光性組成物を洗浄して容易に除去することが可能であるとともに、防爆設備等の特殊な設備を必要とせず、洗浄廃液の処理も簡便な、環境に対する影響について十分な配慮のなされた金属製容器の洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属製容器に付着した感光性組成物を、ジエチレングリコールアルキルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムを少なくとも含有する準水系の洗浄液を使用して超音波洗浄を行うことにより除去する工程を含む金属製容器の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】 超音波洗浄装置を購入しなくても、個々の家庭などで簡便に超音波洗浄を行うことが可能な超音波洗浄方法及びその超音波洗浄方法に用いられる洗浄槽を提供する。
【解決手段】 例えば電子レンジ１を用いて、超音波振動子（例えば超磁歪振動子４）が配設された洗浄槽３の内部に浸漬する被洗浄物１０を洗浄する超音波洗浄方法で、その洗浄槽３に電磁波を照射し、そ電磁波に基づき超音波振動子を駆動し、その超音波振動子による超音波を被洗浄物１０に照射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高洗浄力、低起泡性ですすぎ性の良い液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】 （ａ）アニオン界面活性剤を５〜３０質量％、（ｂ）マグネシウム塩を０．５〜５質量％、及び（ｃ）高級脂肪酸又はその塩を０．５〜５質量％含有する、２０℃で液体である液体洗浄剤組成物。（ｃ）成分は、炭素数１１〜２０の飽和及び／又は不飽和の高級脂肪酸あるいはその塩であり、飽和高級脂肪酸／不飽和高級脂肪酸の質量比が１０／９０〜３／９７のものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を用いた基板処理において、乾燥性能を低下させることなくレジスト膜の溶解を抑制する。
【解決手段】基板Ｗの浸漬中に第１の気体吐出部５６５および第２の気体吐出部５６６から窒素ガスを吐出し、ケーシング５６０内から不要な酸素や水蒸気を排除しておく。そして、純水から基板Ｗを引き揚げつつ、第２の気体吐出部５６６からＩＰＡ蒸気を吐出する。引き揚げられる基板Ｗには、直接的にＩＰＡ蒸気が吹き付けられるので、基板Ｗの表面にＩＰＡが効率よく凝縮する。このため、乾燥性能を低下させることなく、供給するＩＰＡの濃度を低下させることができ、基板Ｗ表面に形成されたレジスト膜の溶解を防止することができる。 （もっと読む）

本発明は、洗剤を使用しないか洗剤の使用量を低減することができ、大きな運転エネルギーを必要としない洗浄装置に関するもので、上部に開閉蓋（１０）を、底部に内面がほぼ半凹球面状を呈する分散した複数の凹部（１２）を、前記各凹部（１２）の中央部に排水口（１３）をそれぞれ有する処理槽（１）と、前記各排水口（１３）へ連通したバルブ（３１）付きの排水配管（３）と、前記排水配管（３）内の洗浄水を前記処理槽（１）内の被洗浄物（ａ）よりも上方に戻す循環用配管（４）と、を備えている洗浄装置である。
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【課題】被洗浄物を複数の洗浄槽間で移送を行う洗浄方法において、各洗浄槽から被洗浄物を取り出す際に乾燥状態にして洗浄液を確実に除去し、溶剤蒸気が外部に拡散して環境を汚染する事がなく、作業効率の良い洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物の洗浄を行う複数の洗浄槽１、２、３を直列に配置する。この複数の洗浄槽１、２、３を順次移動させながら被洗浄物の洗浄を行う。この移動のために被洗浄物を洗浄槽１、２、３から取り出す際に、何れの洗浄槽１、２、３から取り出す場合も被洗浄物を乾燥状態にする。 （もっと読む）

【課題】 従来は締結部材の雄ねじ部に摩擦係数安定剤を塗布していたが、その際に塗布部の周囲にもこの安定剤が付着するため、締結部材の合わせ面でのシール性に問題が生じる恐れがあった。また、雄ねじ部への摩擦係数安定剤の塗布が煩雑であった。
【解決手段】 複数の洗浄工程を有する締結部材の洗浄方法であって、複数の洗浄工程のうちの最終洗浄工程で、界面活性剤および油分を含有する洗浄液により締結部材の洗浄を行う。その洗浄液における油分の含有率は、１〜３ｗｔ％である。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基板（２０２）を洗浄するシステムおよび方法は、トランスデューサ（２１０）と基板（２０２）とを含むメガソニックチャンバ（２０６）を備える。トランスデューサ（２１０）は、基板（２０２）の方を向いている。トランスデューサ（２１０）と基板（２０２）とは、可変距離ｄによって隔てられる。システム（２００）は、また、トランスデューサに結合された出力部を有する動的に調整可能なＲＦ発生器（２１２）を備える。動的に調整可能なＲＦ発生器（２１２）は、発振器（３０６）の出力電圧の位相とＲＦ発生器の出力電圧の位相とを比較することによって制御することができる。動的に調整可能なＲＦ発生器（２１２）は、また、出力信号のピーク電圧をモニタし、そのピーク電圧を所定の電圧範囲内に維持するようにＲＦ発生器を制御することによって制御することもできる。動的に調整可能なＲＦ発生器（２１２）は、可変の直流電圧源を動的に制御することによって制御することもできる。
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【課題】良好な漬け置き洗いが可能であるとともに、被洗浄物を袋体内でこすり洗いができ、高い洗浄効果を得ることが可能とした洗浄用袋体及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】吸水性基材８又は防水性基材１６と、撥水性基材７とからなる袋体１であって、撥水性基材８が袋状に形成され、撥水性基材８の内面の一部又は全部に吸水性基材８又は防水性基材１６が積層された積層構造を有し、吸水性基材８の表面にエンボス加工が施された構成とする。 （もっと読む）

【課題】 ブラスト処理部からのブラスト排水を効率良く再利用できるアイスブラスト装置のブラスト排水再利用システムを提供する。
【解決手段】 氷粒を水とともに噴射してワークＷの表面をアイスブラスト処理するブラスト処理部１から排出されるブラスト排水をブラスト排水タンク９に回収し、ブラスト排水タンク９内に回収されたブラスト排水を、洗浄ステーションの洗浄排水タンク２２内の洗浄排水量の減少及び機械加工ステーションの集中クーラントタンク３２内のクーラント量の減少に応じて順次供給する。洗浄ステーションにおいて新たな洗浄液の使用量の大幅な削減ができ、かつ機械加工ステーションにおいて新たな希釈液の使用量の大幅な削減ができるとともにブラスト排水が効率良く再利用でき、アイスブラスト処理、洗浄処理及び機械加工処理における全体の水消費量を大幅に削減することができる。 （もっと読む）

【課題】 超音波を用いることなく、高粘度流体の吸い込みも容易で、残渣の取り残しをなくした洗浄ノズルを備えたウェット処理装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物８の表面に近接して配設され、外部から供給される洗浄用流体９を被洗浄物８の表面に帯状に吐出するためのスリット状の吐出口１０を有する供給口２と、吐出口１０から吐出された洗浄用流体９を排出する排出口３を有する洗浄ユニット１１を備え、吐出口１０の断面積が外部から供給される洗浄用流体９の供給口受け口部の開口断面積に対し、洗浄用流体９を被洗浄物８の表面に向けて吐出するための先端部が１を越える正数分の１倍の開口断面積を有してなる洗浄ユニットを被洗浄物８の移動方向に対して直交する方向に配置した。 （もっと読む）

【課題】オゾン水プロセスをより改良することによってレジストの剥離効率を向上させ、ランニングコストをより抑制し、より効率のよいレジスト剥離を達成出来る基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置の提供。
【解決手段】基板上に残留しているレジストを除去する基板の洗浄方法であって、熱した水を密閉容器に供給し、該熱した水を該密閉容器から基板が配置されているチャンバー内へと供給し、該チャンバー内を水蒸気で充満させて霧状の水を形成し、しかる後、熱した水の供給ラインとは別のラインを用いて上記密閉容器内にガス状オゾンを供給し、該密閉容器に設けられたノズルからオゾンガスを上記基板表面に供給して、霧状の水とオゾンガスとを処理の直前で効率よく反応させてレジストの剥離処理を行うことを特徴とする基板の洗浄方法。 （もっと読む）