【課題】処理部中の塵埃を除去でき、装置の小型化、処理のスループットの向上及び歩留まりの向上を図れるようにすること。
【解決手段】搬送手段によって搬送されるウエハを処理部に搬送して処理を施す基板搬送処理において、ウエハＷの処理前に、搬送手段であるメインアームＡ２によって搬送される、塵埃を捕集可能な状態の捕集プレートＰＬを塗布処理ユニット３２に搬入して、塗布処理ユニット内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。塵埃を捕集した捕集プレートを洗浄ユニット８０内に搬入し、この洗浄ユニット内において捕集した塵埃を洗浄により除去し、塵埃が除去された捕集プレートを、塵埃を捕集可能な状態例えばイオナイザ２００によって帯電して再生する。塵埃を捕集可能な状態に再生された捕集プレートを、メインアームによって処理前の処理部に搬入して、この処理部内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。 （もっと読む）

【課題】マイクロバブルを含む洗浄液を使用して基板を枚葉式で洗浄処理する場合に、洗浄むらを生じることなく処理品質の均一性を保持することができる装置を提供する。
【解決手段】搬送ローラ１４によって支持され搬送される基板Ｗの主面対し複数個の吐出口１２からマイクロバブルを含む洗浄液を吐出する吐出ノズル１０の端部に、その吐出ノズル内部に溜まる気体を小流量の洗浄液と共に排出するためのエアー抜き配管４０を連通接続した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、比較的簡易な構成で、安定的にナノバブルを生成することができ、取扱いが容易で、製造コストの低減化を図れるナノ流体生成装置およびナノ流体を用いた洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】直径が１μｍ未満の気泡であるナノバブルを含むナノ流体を生成するナノ流体生成装置において、気体と液体とを混合する気液混合室７と、この気液混合室に加圧した液体および気体を供給する加圧ポンプ４および吸気弁２１を備え、前記気液混合室は、この気液混合室内に設けられ、供給された液体および気体に乱流を発生させて強制的に混合するための突条９，凹溝１０、１２、円錐部材１１等からなる乱流発生機構Ｚと、強制的に混合された混合流体をナノバブルを含むナノ流体にして吐出する超微小吐出口２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】薬液の消費量を最小限に抑えつつ基板の表面周縁部および裏面から不要物を良好にエッチング除去することができる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】スピンベース１５から所定距離だけ上方に離間させた状態で基板Ｗを略水平姿勢で支持する。基板Ｗの上方に対向部材５が対向位置に配置された状態で、複数のガス吐出口５０２およびガス供給路５７から基板表面Ｗｆと対向部材５の下面５０１との間の空間ＳＰに窒素ガスが供給され、基板Ｗが支持ピンＦ１〜Ｆ６，Ｓ１〜Ｓ６に押圧される。第１ノズル３を供給位置Ｐ３１に位置決めして第１ノズル３から塩酸を回転する基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給するとともに、第２ノズル４を供給位置Ｐ４１に位置決めして第２ノズル４から硝酸を基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給することにより、基板表面Ｗｆで塩酸と硝酸が反応してエッチング液が生成される。 （もっと読む）

【課題】洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、低コストの構成部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄装置であって、
前記構成部材に対して加圧水を噴射する噴射部３，４を備える （もっと読む）

【課題】薬液の清浄度を高めることにより、基板を清浄度高く洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】薬液カートリッジ２９から薬液供給部２７を介して純水に薬液を混合させて処理液を生成させ、供給管を介して処理槽に処理液を供給させる。薬液カートリッジ２９には、補充ラインなどから薬液が補充されることがなく、薬液が汚染されることがないので、薬液の清浄度を高く維持することができる。したがって、清浄度高く基板を洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】汚れと付着洗浄液とを確実に落としてコインを回収することができるコイン洗浄装置の提供。
【解決手段】コインＣが投入されるホッパ１２と、該ホッパ１２からコインＣが供給される回転ドラム２２と、コインＣの外径よりも小径な多数の通孔２２ａを有して回転ドラム２２の下部側の洗浄液Ｌ中への浸漬を自在に配設される洗浄液槽３２と、該洗浄液槽３２内に配設される超音波振動子３４と、回転ドラム２２から導出されるコインＣを前上がり方向へと搬送する第１搬送手段４２と、該第１搬送手段４２からコインＣを受け取って方向を変えた前上がり方向へと搬送する第２搬送手段５２と、該第２搬送手段５２の始端５２ａ側に位置するコインＣを水洗いするシャワー手段６２と、第２搬送手段５２による搬送後のコインＣの付着液滴を除去する除液手段７２とを少なくとも具備させた。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用途に使用することもできる、水晶のような基材表面の前処理ステップにおいて使用する、様々なｐＨ領域と伝導度を持つアルカリ性ベースの組成物を用いる方法を提供する。
【解決手段】ＮＨ_４ＯＨ：Ｈ_２Ｏ_２：Ｈ_２Ｏが、容積比で１：２：２００〜１：１：１００となる希釈比で、水酸化アンモニウム、過酸化水素及び脱イオン水を含有する、ｐＨが８〜１２の_ｕｄＳＣ１組成物を用いて基材表面を処理し、次いで、ノニオン系洗浄剤と脱イオン水を容積比で１〜１００となる希釈比で含有し、ｐＨが８〜１１のノニオン系洗浄剤組成物を用いて前記基材の表面を処理する基材表面の洗浄方法。前記_ｕｄＳＣ１のｐＨが、前記ノニオン系洗浄剤組成物のｐＨより高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸気発生装置における蒸気発生量の安定化を図る。タンク筐体を覆うカバーなどの温度上昇を防止する。
【解決手段】液体を貯留する貯留空間６１と、貯留空間６１内の液体を加熱するヒータ６２を備え、貯留空間６１に補給される前の液体を、ヒータ６２から発生する熱によって昇温させる熱交換部７６を設けた。熱交換部７６は、貯留空間６１及びヒータ６１を備えるタンク筐体６０と、タンク筐体６０の外側を覆うカバー７５との間に設けた。また、熱交換部７６には、貯留空間６１及びヒータ６２を囲む熱交換流路を備えた。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物が含む素子の破壊を効果的に防止する。
【解決手段】洗浄装置は、気体タンク２２と、気体バルブ２６と、薬液タンク２０と、混合ノズル１８と、電極１０などと、演算部１４などとを含む。気体タンク２２は、気体を供給する。気体バルブ２６は、気体の単位時間あたりの供給量を調整する。薬液タンク２０は、薬液を供給する。混合ノズル１８は、気体タンク２２が供給した気体と薬液タンク２０が供給した薬液とを混合し、洗浄液を噴出する。電極１０などは、洗浄液の帯電量に対応する電流値を検出する。演算部１４などは、電流の絶対値が閾値以上の場合、気体の単位時間あたりの供給量を減少させるように、調整手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物表面のパーティクル等の汚染物を効果的に除去することが可能な洗浄方法を提供するものである。
【解決手段】脱気処理した純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】構成部材間の擦れにより発生したパーティクルに起因する基板の処理不良および動作不良が防止された基板保持装置およびそれを備える基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンチャック５００が基板Ｗを保持する際には、第２の連結部材７０２および第１の連結部材７０１が動作し、保持部材６００ａに回動しつつ下降する力が働く（矢印Ｍ３）。それにより、保持部材６００ａの軸傾斜面６１１がスピンベース７００の孔傾斜面ＨＴに当接し、昇降軸６０５と部材挿入孔Ｈとの間の隙間が軸傾斜面６１１により閉塞される。スピンチャック５００から基板Ｗが開放される際には、第２の連結部材７０２および第１の連結部材７０１が動作し、保持部材６００ａに回動しつつ上昇する力が働く（矢印Ｎ３）。それにより、保持部材６００ａの軸傾斜面６１１がスピンベース７００の孔傾斜面ＨＴから離間するとともに、回動しつつ上昇する。 （もっと読む）

【課題】基板処理槽内で各種の基板処理を行う基板処理装置において、基板を保持する保持溝に蓄積する異物を低減させると共に保持溝の洗浄効率を向上させ、保持溝を清浄に保つことができるようにする。
【解決手段】基板保持部材１３には、基板を保持する保持溝１３ａが形成され、保持溝１３ａの底部には異物を外部へ放出する排出孔１３ｂが形成されている。また、基板保持部材１３の下部に設けられた底板１４は、底板孔１４ａが形成され、基板保持部材１３と平行して左右方向にスライド可能な機構を有している。 （もっと読む）

【課題】ガス溶解水を用いて基板等を洗浄する場合の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】ガスをガス溶解装置１で水中に溶解させ、ガス溶解水を殻体たる洗浄槽４に導入し、被洗浄物としての基板Ｓを洗浄する。ガス溶解装置１からのガス溶解水が配管２及び水圧調整弁３を介して洗浄槽４に導入される。水圧調整弁３で減圧されることにより、洗浄槽４内に導入されるガス溶解水中に微細気泡が多量に生じる。この微細気泡含有水によって基板が効率よく洗浄される。 （もっと読む）

【課題】単純且つ確実な洗浄を可能にする、管を洗浄する方法及び装置を提供する。
【解決手段】洗浄媒体１１を収容する容器２と、回転軸に相当するベアリング４を中心として両方向に回転するドラム３とを備え、該ドラム３の外側に開口を設けると共に、ドラム３から独立して回転できる毛細菅６を収容する収容装置５をドラム３の周囲に配置し、洗浄媒体をドラム３内に噴霧するための４つの噴霧ノズル１２を半径方向外向きに向けることによって、毛細菅６は霧化された洗浄媒体で少なくとも部分的に満たされ、洗浄媒体の液滴は、少なくとも一部において基本的に毛細菅６の中心軸の方向に加速される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、疎水性基板の上面に好適に処理液層を形成することによって、
乾燥処理にてウォーターマークの発生を抑制する基板の表面処理方法、及び、基板の表面
処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板Ｓの表面の洗浄処理後、処理液保持枠１６を基板Ｓの側面に接触させ、
純水層ＷＳを形成する。基板Ｓへの純水Ｗの供給を停止すると共に、基板Ｓの中心部に窒
素ガス供給ノズル１１から窒素ガスＧを噴出する。純水Ｗが除去されて基板Ｓの表面が略
円形に露出する。乾燥穴ＧＳが処理液保持枠１６に達すると同時に、処理液保持枠１６を
基板Ｓから離間させる。基板Ｓの四辺に残る純水層ＷＳは、スムーズに基板Ｓの側面から
流出する。これによって、基板Ｓの表面の乾燥処理が完了する。 （もっと読む）

【課題】ジェット洗浄による粗洗浄と超音波洗浄による精密洗浄に於いて、洗浄水量の減少化を図る。
【解決手段】洗浄槽１０内に向けて、洗浄水としてのジェット水流を噴射ノズル２２ａ，２２ｂから噴射して、洗浄器材に付着する汚れを除去し、汚れを含む洗浄処理水を洗浄槽１０から排水するジェット洗浄手段と、前記ジェット洗浄手段で洗浄された洗浄器材が収容されている洗浄槽１０内に、前記洗浄器材が浸漬するように洗浄剤を含有する洗浄液を貯留し、前記洗浄器材に対して超音波発信器２０から超音波を照射して、前記洗浄器材に残留している汚れを除去する超音波洗浄手段と、洗浄槽１０の上方に設けられたリザーブタンク１４に、前記超音波洗浄手段で用いた洗浄水を貯留する貯留手段と、リザーブタンク１４に貯留された洗浄水を、洗浄槽１０に移動して超音波用洗浄水として再使用する再使用手段とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】自動車部品等、ワーク表面、鋳物中子孔内部、ネジ穴内部等に残留した切粉、切削油等の異物を除去する洗浄装置であって、小型化され、洗浄効率が特に高い。
【解決手段】開口部２を備えた洗浄室３と、洗浄室３内に設置されたワーク把持冶具４と、洗浄室３外に設置された、冶具４をサーボモータで回転駆動する駆動ユニット５と、前記冶具４に備えられた洗浄ノズル６と、洗浄液を洗浄室３外に排出する排液口７とから構成される。 （もっと読む）

【課題】昇降体に搭載される被洗浄物を昇降による洗浄力と、自転による洗浄力とにより効率よく洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄物が搭載される昇降体１を昇降方向の回転中心で回転可能とし、該昇降体１に、昇降方向に対して傾斜し、且つ昇降の際に液体中で回転方向一方及び他方へ自転用液流を発生させる複数の液流発生面１ａを設け、昇降体１の昇降により発生する液流と、自転により発生する液流とにより被洗浄物を効率的に洗浄するようにした。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で小型かつメンテナンスが容易で維持コストを低減でき、セラミックス部材の表面を高純度に洗浄できるセラミックス部材の洗浄装置を提供する。
【解決手段】本セラミックス部材の洗浄装置は、周囲に洗浄液を噴射するノズルが複数設けられた洗浄槽と、この洗浄槽内に昇降自由に収容され、洗浄されるセラミックス部材が載置される載置台と、この載置台を支持しかつ、昇降させる昇降機構を備え、この昇降機構によりＳｉＣ膜被覆部材を昇降させながらノズルから噴射する洗浄液をセラミックス部材の表面全域に噴き付けることを特徴とする。 （もっと読む）