【課題】基板洗浄装置及び基板洗浄方法並びに基板洗浄プログラムにおいて、基板洗浄工程のスループットを向上させること。
【解決手段】本発明では、複数の洗浄手段を有するとともに、各洗浄手段を駆動レシピに基づいて駆動制御することとし、複数の洗浄手段に優先順位を設定し（優先順位設定ステップＳ１３）、駆動レシピから上位の洗浄手段と下位の洗浄手段との間で干渉が生じ得る時間を待機時間として設定し（待機時間設定ステップＳ１４）、上位の洗浄手段によって所定の洗浄開始位置から基板の外周部へ向けて洗浄を開始するとともに（上位洗浄手段開始ステップＳ１５）、下位の洗浄手段を待機位置で待機させ（下位洗浄手段待機ステップＳ１６）、その後、待機時間の経過後に下位の洗浄手段によって所定の洗浄開始位置から基板の外周部へ向けて洗浄を開始する（下位洗浄手段開始ステップＳ１７）ことにした。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄の特性上、電子部品等に付着した微細な汚れ、付着物に対しては有効な洗浄性能が得られる。しかしながら、ペースト塗布に使用されるような口金は洗浄前の汚染度が高く、ペーストが付着した状態で超音波洗浄行っても口金からペーストを溶解または剥離除去するために長時間を要し、その後、さらに微細な洗浄効果を得るには非効率的であった。
【解決手段】吐出口を有する口金を洗浄液に浸漬した状態で収納する洗浄槽と、該洗浄槽に洗浄液を循環させる循環手段と、該口金を洗浄液に浸漬した状態で超音波を放射する超音波放射手段とを有する口金洗浄装置において、該洗浄槽内に気泡発生手段を有することを特徴とする口金洗浄装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】遊技機で使用されたメダルを水洗いした後、該メダルに付着した水分を乾燥する際、吸水部材として使用されたスポンジに含まれている水分をローラ等で搾り取ったり、スポンジの交換を頻繁に行う必要がなく、洗浄後のメダルの水切りを効率的に行うようにしたメダル乾燥装置を提供する。
【解決手段】端部にバキューム装置を接続した中空パイプ軸２９の外周に回動自在に中空パイプ３２が設けられ、該中空パイプの外周に吸水部材２８が設けられた２個のローラ２７、２７を互いの吸水部材が圧接された状態に並設して一対のローラを構成し、夫々の中空パイプ軸の周部には所定箇所に吸水孔２９ａが形成されると共に、夫々の中空パイプの周部には多数の吸水孔３２ａが形成され、回転する双方のローラの吸水部材の間にメダルを引き込み、中空パイプの吸水孔が空パイプ軸の吸水孔に一致したときに発生する急激な吸引力によってメダルに付着した水分を吸引する。 （もっと読む）

パーツウォッシャー１０は、キャビネット１２と、プラットフォーム１４と、液体ディストリビュータ１６と、連結装置１８と、駆動システム２０とを有する。プラットフォーム１４は、キャビネット１２の内部に配置され、洗浄されるべき物品を支持する。ディストリビュータ１６は、キャビネットの内部でプラットフォームの一方の側に向いて設置され、プラットフォーム１４の回転軸に対してほぼ半径方向に向けて液体を放つ少なくとも１つのアウトレット２６を備える。連結装置１８は、ディストリビュータ１６が少なくとも２つの自由度で動くように、ディストリビュータ１６をキャビネット１２の内部に連結している。より詳しくは、連結装置１８は、ディストリビュータ１６の、傾き、回転、上下の動きの組み合わせを含む複合の動きを可能とする。
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【課題】乾燥室を効率的に加熱できる洗浄乾燥装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】被処理体を加熱された洗浄液によって洗浄する洗浄室Ｓ１と，被処理体を乾燥させる乾燥室Ｓ２とを備えた洗浄乾燥装置２において，洗浄室Ｓ１に洗浄液を供給する洗浄液供給路４２ａを備え，被処理体を入れるバスケット２３を乾燥室Ｓ２内で回転させるバスケット回転機構９０を備え，乾燥室Ｓ２の内部には，加熱された洗浄液を送液する送液管４５を設けた。 （もっと読む）

【課題】電力効率の良い超音波発振器及びこれを用いた超音波洗浄機を提供する。
【解決手段】超音波振動子に高周波電力を出力する超音波発振器であって、少なくとも、高周波信号を発振する主発振ユニットと、該主発振ユニットの発振する高周波信号を入力し、高周波電力として出力する出力ユニットと、該高周波電力を変圧する出力トランスと、該変圧した高周波電力の周波数を調整し、超音波振動子に出力する整合回路ユニットと、交流電源から入力した電力を直流として前記出力ユニットに供給する電源ユニットとを具備し、前記電源ユニットは、前記交流電源から入力した電力の周波数を高めるチョッパー回路を備えるものである超音波発振器、及び前記超音波発振器で発生した高周波電力を出力ケーブルで超音波振動子に伝送し、該超音波振動子により超音波振動を洗浄液に印加して、被洗浄物を洗浄するものである超音波洗浄機。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板を洗浄した後の洗浄液を、簡便な構成および手順で高精度に分別回収するとともに、洗浄後の洗浄液による被洗浄基板の再汚染の発生を防止することができる洗浄装置および洗浄液の分別回収方法を提供する。
【解決手段】被洗浄基板に洗浄液を吐出して洗浄し、洗浄後の洗浄液を分別回収する洗浄装置であって、少なくとも、被洗浄基板の保持手段と、被洗浄基板を取り囲むように配設され、洗浄後の洗浄液を分別回収するリング状の洗浄液分別回収手段と、前記被洗浄基板および／または前記洗浄液分別回収手段を回転させる回転手段を具備し、前記洗浄液分別回収手段の上面に該洗浄液分別回収手段に対する前記被洗浄基板の相対的な回転方向に対応して洗浄液を収集するスリット溝が複数形成され、洗浄液を回収する回収孔が形成されたもので、前記相対的な回転方向を変え、対応するスリット溝のいずれかに、洗浄液を別々に分別回収できる洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】 複数の洗浄方法を設けて、被洗浄物（例えば、ペットボトルをチップ化したもの）の種類に応じた洗浄を行うことができ、かつ、外側のドラム内の空間を有効に利用することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄装置Ａ１において、外筒部４０は駆動部１２０により回転し、内筒部７０は、駆動部１３０により回転し、外筒部４０と内筒部７０とは独立に回転し、回転方向や回転数は任意に調整可能となっている。外筒部４０と内筒部７０とは、同軸上に回転する。また、内筒部７０は、外筒部４０に対してスライド可能になっている。 （もっと読む）

【課題】同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板５を支持して回転可能な基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段６，７と、前記基板支持手段により支持された基板の上面５ａ及び端面５ｂに対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシ８と、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口１０とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板５の周囲を支持する複数の支持ピン４を有し、該支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストなどの有機物を良好に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】過酸化水素ガス供給部３において、加熱槽２６に貯留されている過酸化水素水が加熱されることにより、過酸化水素水が高濃度化され、この高濃度の過酸化水素水が気化ユニット３２でさらに加熱されることにより、水分を含まない過酸化水素ガスが生成される。そして、その過酸化水素ガスが二流体ノズル６に供給されるとともに、硫酸供給部２から硫酸が供給されて、二流体ノズル６からスピンチャック５に保持されているウエハＷの表面に、過酸化水素ガスと硫酸との混合流体の液滴の噴流が供給される。 （もっと読む）

【課題】スリット状の吐出口を有する吐出部を用いて円板状の基板の中央付近の多くの領域を均一に洗浄し、かつ、洗浄液の使用量を低減する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、円板状の基板９を保持する保持部２、基板９を回転する回転機構３、吐出部４、および、吐出部４を走査方向に移動する走査機構５を備える。吐出部４はスリット状の吐出口４１を有し、洗浄液を基板９の主面上の直線状の吐出領域に吐出する。基板洗浄装置１では、基板９の回転を停止した状態で吐出領域を基板９の主面内で走査して洗浄する走査洗浄工程が、基板９を所定角度だけ回転させつつ繰り返し行われ、その後、吐出部４が基板９の外縁部に停止した状態で洗浄液を吐出しつつ基板９を回転させる回転洗浄工程が行われる。これにより、基板９の全体を洗浄しつつ中央付近を均一に洗浄し、かつ、洗浄液の使用量を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 高圧流体あるいは高圧流体と薬剤との混合物を処理流体として被処理体の表面に接触させて被処理体の表面に対して所定の表面処理を施すに際して、その表面処理の均一性およびスループットを向上させることができる高圧処理装置を提供する。
【解決手段】 圧力容器１の天壁１２ｂに開口された送出路１０１から基板Ｗの直径サイズ以上の長さを有する帯状の処理流体が、送出路１０１の長手方向に均一に基板Ｗの回転中心Ａ０を含みながら回転する基板Ｗの表面Ｓ１に対して垂直入射する。このため、基板表面Ｓ１の全体が該基板表面Ｓ１に対して垂直入射する処理流体によって洗浄処理される。 （もっと読む）

【課題】樹脂組成物の洗浄除去に有用な除去洗浄剤、特にカラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用に優れた樹脂組成物除去洗浄剤を提供する。
【解決手段】従来慣用の樹脂用溶剤をベースとして、このベース溶剤に含有アルキル基の炭素数５以下の芳香族化合物を所定量混合した混合液を、樹脂組成物除去洗浄剤として用いる。その所定の混合量は、前記含有アルキル基の炭素数が３〜５の芳香族化合物を用いる時は、除去洗浄剤全量の５〜５０質量％が好ましく、含有アルキル基の炭素数が２以下の芳香族化合物を用いる時は、除去洗浄剤全量の２０〜６０質量％が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 従来の超音波洗浄装置では、被洗浄物の平面部で洗浄した汚れが洗浄液とともに流れて、被洗浄物のエッジに集まって引っ掛かるという点である。
【解決手段】 半導体ウエハのような被洗浄物１２は回転するように支持され、被洗浄物１２のエッジ１２ａの近傍に洗浄液供給部１３が装着され、又、円錐形状に形成されたホーン１４の先端に鋭角（９０度以下）に切り込みを設けて二股部１４ａ、１４ｂが構成され、この二股部１４ａ、１４ｂは被洗浄物１２のエッジ１２ａを挟むように微小間隙を開けて装着され、さらに、ホーン１４の後端に形成された拡大部１４ｃに超音波振動子１５が装着され、超音波振動子１５に超音波発振器１６から発振出力が印加されている。 （もっと読む）

【課題】 超微細金型の洗浄に適した金型洗浄装置および金型洗浄方法を提供する。
【解決手段】 電解洗浄、水洗、乾燥を順次連続的に行う１つの洗浄槽と、前記洗浄槽内に供給される電解洗浄液内に浸漬させる電解洗浄用の電極と、洗浄される金型を載置して、前記洗浄槽内の電解洗浄液内に浸漬させると共に該洗浄槽より取り出す金属製の保持手段と、前記洗浄槽の上面開口を閉鎖する蓋と、前記洗浄槽内から電解洗浄液を排出する手段と、前記洗浄槽内へ洗浄水を所要圧力で噴射する手段と、前記洗浄槽内へ乾燥用の清浄空気、真空あるいは不活性ガスを供給する手段とを備え、電解洗浄時には、前記電極と金属製の保持手段とを電源のプラス側とマイナス側に接続して、前記電解洗浄液を介して通電して前記金型を電解洗浄する構成としていることを特徴とする一槽式の金型洗浄装置からなる。
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【課題】 基板を洗浄、乾燥する際のウォーターマークの発生と当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制する基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置１は、貯留された純水にウエハＷを浸漬して処理する液処理槽６（内槽３０）と、ウエハＷを乾燥させるチャンバ５と、液処理槽６とチャンバ５との間でウエハＷを搬送するためのウエハガイド４と、水蒸気とＩＰＡ蒸気をチャンバ５に供給する流体ノズル７１と、内槽３０に貯留された純水中に浸されたウエハＷをチャンバ５に向けて引き上げる前にチャンバ５内に水蒸気を供給し、ウエハＷを引き上げてチャンバ５に収容したら、水蒸気の供給を停止してＩＰＡ蒸気の供給を開始する制御部９９を有する。 （もっと読む）

【課題】金属部品類の加工用油の基油組成を加工後における洗浄剤の組成と近づけることにより、良好な加工性及び洗浄性を維持しながら洗浄後の洗浄剤の蒸留回収率を高める。
【解決手段】洗浄剤として少なくとも９０容量％以上の炭素数１０〜１３の飽和炭化水素成分を基油としたものを用いるとともに、これに極圧剤、油性剤、粘度指数向上剤、酸化防止剤、流動点降下剤、さび止め剤のうち、１種または２種以上を添加剤として混合したものを加工用油として用いるようにした。これによりとくに細孔を多く有する構造を持つ焼結金属部品などのような物理的に汚れと洗浄剤が接触し難い複雑な構造を有する部品等の洗浄や、多数の部品等を洗浄籠に入れて密着した条件下で洗うような高い洗浄性が要求される条件下の部品等に対して、良好な加工及び洗浄ができ、しかも洗浄工程管理が容易であるとともに、洗浄剤消費量が少なく、経済性にも優れた加工及び洗浄が可能となる。 （もっと読む）

【課題】フィルタにランダムに異物が送られうる用途においても有効に機能しうる浄化機能を備えたろ過装置、及びそれが組み込まれた洗浄設備を提供する。
【解決手段】洗浄装置２００で使用された洗浄液は、ろ過装置１００に供給される。ろ過装置２００は、ろ過領域１２及び浄化領域１４を通る周回移動経路に沿って周回移動する環状フィルタ１０と、洗浄装置２００から排出される洗浄液を、ろ過領域１２において、環状フィルタ１０に対して供給する供給部２０と、ろ過領域１２において環状フィルタ１０によってろ過された洗浄液を回収する回収部３０と、浄化領域１４であって環状フィルタ１０の周回移動経路の内側に配置され、環状フィルタ１０の外側に向けて液体を噴射して環状フィルタ１０を浄化する浄化部４０とを有する。 （もっと読む）

石英基板の表面を処理する方法は、初期粗面度を有する作用面を与えるように基板を準備するステップと、その作用面を超音波で酸性エッチングして、作用面の粗面度を少なくとも約１０％高めるステップとを備えている。一実施形態において、初期表面粗面度は、約１０Ｒａより大きく、また、別の実施形態において、初期表面粗面度は、約２００Ｒａより大きい。更に別の実施形態において、初期表面積は、約２００Ｒａ未満である場合に、約２００Ｒａより大きく増加される。本発明の他の実施形態において、作用面粗面度は、少なくとも約２５％又は少なくとも約５０％増加される。表面積（粗面度で測定する）の増加と同時に、表面欠陥を減少し、基板から粒状汚染物を減少する。 （もっと読む）

【課題】 制御が容易で基板の搬送を簡単に行うことができ、また、従来の基板よりも大型の基板の液処理を行うための装置構成部材の仕様変更によって生ずる装置の大型化を抑制した液処理装置を提供する。
【解決手段】 ウエハＷがロータ３４に収納された状態で、Ｚ軸リニア駆動機構２９により、ロータ回転機構２７および姿勢変換機構２８を連結点Ｐが位置Ｐ２に移動するように上昇させ、位置Ｐ２においては、姿勢変換機構２８を動作させて、ウエハＷが水平保持から垂直保持の状態になるようにロータ回転機構２７全体を９０°回転させ、横姿勢の状態とする。次に、ロータ回転機構２７全体が横姿勢の状態のまま、連結点Ｐが位置Ｐ３に移動するように、再びＺ軸リニア駆動機構２９を動作させてロータ回転機構２７を上昇させる。連結点Ｐが位置Ｐ３に到達したら、次に、Ｘ軸リニア駆動機構３０を動作させて、連結点Ｐの位置を位置Ｐ４まで水平移動させる。 （もっと読む）