【課題】 小型の光学部品の超音波洗浄とスピン乾燥を、３点支持や中央部に貫通孔を有する光学部品保持具で行っていたが、スピン乾燥だけではシミや汚れができてしまい、高度の熟練を要する手拭き作業に頼らざるを得なかった。また、複数種類の形状寸法の異なる光学部品を１つの光学部品保持具で保持して超音波洗浄・スピン乾燥をすることができず、多数の光学部品保持具を必要としていた。
【解決手段】 複数の光学部品保持部を、その一方の寸法を可変にした可変光学部品保持部にするとともに、周縁部が２段構造の光学部品保持具の外側の周縁部に、内側から外側に通じる溝を設け、光学部品載置部は光学部品を固定しないで自由に動けるように保持して洗浄・乾燥を行うようにして課題を解決した。 （もっと読む）

本発明の態様は、基板を処理するための基板処理装置および方法に向けられる。一態様では、基板処理装置は処理室と、基板を保持するための処理室内部の基板保持器と、基板に対し略垂直に音波を供給するための処理室内の音響箱とを含む。音響箱は膜、および、膜に結合された変換器を含むことができる。
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【課題】 基板を回転させながら基板に処理液を供給して該基板に対して所定の処理を施す基板処理装置において、基板表面への処理液の再付着を効果的に防止する。
【解決手段】 スピンベース５の周縁部付近には、基板Ｗの下面周縁部に当接しつつ基板Ｗを支持する支持部７が複数個、スピンベース５から上方に向けて突出して設けられている。そして、複数個の支持部７によって基板Ｗの下面と対向するスピンベース５から所定の間隔離間させた状態で基板Ｗが水平に支持されている。そして、基板Ｗの上面と雰囲気遮断板９の対向面９ａとの間に形成される空間に対向面９ａに設けられた複数のガス噴出口９ｂから不活性ガスを噴出させる。これにより、基板Ｗはその上面側に供給される不活性ガスによって、支持部７に押圧されてスピンベース５に保持される。 （もっと読む）

【課題】ユニット間差を抑制することを目的とする。
【解決手段】基板処理装置に、塗布処理を行う複数の第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃと、配給路３２を介して清浄な空気を供給する気体供給機構５０と、セルコントローラＣＴ３とを設ける。また、各第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃに、回転角度を調整することにより配給路３２の開度を調整する調整板２３および排気用ファンユニット２５を設ける。セルコントローラＣＴ３は、各第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃにおける塗布処理の結果が略同一となるように予め求めた設定値に応じて各調整板２３の回転角度を調整する。このようにして、空気の供給量を個別に制御して、各第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃの気圧を制御する。 （もっと読む）

【課題】 ダイレクトパス方式を採用しながらも、洗浄力を向上することが可能な洗浄治具を提供する。
【解決手段】 被洗浄物を内部に収容する開口部３を有し、洗浄液の流れを受けて回転する洗浄治具本体２と、洗浄治具本体２を回転自在に収納する収納治具３０とを備え、洗浄治具本体２が回転することにより開口部３に収容された被洗浄物に洗浄液が多方向から接触して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 基板表面の有機薄膜および汚染物質を、基板を電気的に破壊することなく、環境に対する負担を低減し、低コストで、効率よく基板上から取り除くウェット処理装置およびウェット処理方法を提供することである。
【解決手段】 溶媒のイオン積を増大する触媒２５の存在下に、溶媒中に配置された陽極電極および陰極電極に電圧を印加してラジカルを含む溶媒１８を生成し、このラジカルを含む溶媒１８を基板１０と接触させることによって基板１０表面の有機薄膜および汚染物質を剥離洗浄するウェット装置である。 （もっと読む）

【課題】超音波振動子の加熱劣化を抑制できる、高い洗浄効率を備えた超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】超音波付与ヘッド２１により被洗浄物Ｓの被洗浄面上の洗浄液Ｌに超音波を付与して上記被洗浄面を洗浄する超音波洗浄装置において、上記超音波付与ヘッド２１は、上記被洗浄面と対向するよう設けられ、上記被洗浄面側に位置する下端面２３ａに曲面を備えた超音波レンズ２３と、上記超音波レンズ２３の上端面２３ｃに設けられ、超音波を発振するとともに、この超音波を上記超音波レンズ２３を介して被洗浄面上の洗浄液Ｌに付与する超音波振動子２５と、上記超音波レンズ２３に設けられ、上記洗浄液Ｌに付与された超音波が上記被洗浄面で反射し、上記超音波レンズを介して上記超音波振動子２５に入射するのを防止する切欠き部２４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの表面及び端部の迅速かつ効率的な洗浄及び乾燥を可能にすると共に、ウェーハ表面及び端部に堆積する汚染物を発生し得る多数の水又は洗浄流体の小滴の形成を低減する。
【解決手段】メニスカスを第１の表面から第２の表面へ移動させるシステム及び方法は、ヘッドと第１の表面との間にメニスカスを形成することを含む。このメニスカスは、第１の表面から隣接する第２の表面へ移動させることが可能であり、隣接する第２の表面は第１の表面にほぼ平行である。メニスカスを移動させるシステム及び方法は、メニスカスを基板の端部に沿って移動させるために使用することもできる。
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処理ヘッドアッセンブリとベースアッセンブリを含むワークピース処理システムであり、処理ヘッドアッセンブリは処理ヘッドと上部ロータを有し、ベースアッセンブリはベースと下部ロータを有している。ベースおよび下部ロータは磁石を備え、この磁石が生成する磁力により、上部ロータは下部ロータと係合可能であり、係合した上下のロータは、処理を受けるために半導体ウエハーが配置される処理チャンバを形成する。ワークピースを処理する処理流体は、処理ヘッドがワークピースを回転させる間に、処理チャンバへ任意に導入される。加えて、処理チャンバの周りと、処理チャンバを通過する気流により、ワークピース上に加わるパーティクルが低減される。
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基板の側面に対しても主面に対すると同程度に洗浄力を発揮することのできる安価な洗浄装置、また噴射距離をあまり変えることなく、洗浄中に噴射器の角度を変えることのできる安価な洗浄装置である。基板７０を回転可能に水平に支持するテーブル１０と、基板に洗浄液を噴射する噴射器３０と、噴射器を第一の端部で保持するアーム１６と、アームの第二の端部を水平方向の軸回りに回転可能に保持するとともにテーブルに対して平行方向に案内する支軸１２とを備えた基板洗浄装置１において、前記アーム１６は、第二端部における軸線方向から眺めたときに第一端部がその軸線から離れた位置にあることを特徴とする。
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円形と異なる形状の基板のためにも適した、基板の縁範囲の簡単なかつ廉価な洗浄のために、本発明は、基板、特にフォトマスクおよび／または半導体ウェーハを縁洗浄するための装置および方法を提案する。当該装置は、少なくとも１つの媒体供給ノズルと少なくとも１つの媒体吸出し開口とを備えた少なくとも１つの洗浄ヘッドを有している。この場合、この洗浄ヘッドはメインボディを有している。このメインボディには、媒体吸出し開口と、この媒体吸出し開口に続く媒体吸出し通路とが形成されている。洗浄ヘッドは少なくとも１つの第１のフランジを有している。このフランジは、メインボディの、媒体吸出し開口に向けられた、この媒体吸出し開口を有する面に対してほぼ垂直に延びる平らな面を有している。この場合、少なくとも１つの媒体供給ノズルは、第１のフランジにメインボディから間隔を置いて設けられていて、フランジの、媒体吸出し開口に向けられた面に向かって開放していて、この面に対してほぼ垂直に方向付けられている。この場合、媒体供給ノズルの流出開口はフランジの平らな面に対して後退させられているかまたはフランジの平らな面と同じ平面に位置している。この場合、運動装置は、洗浄時に、基板の一方の表面と、フランジの、基板表面に向けられた平らな面との間に０．０５〜０．５ｍｍ、特に最大０．３ｍｍ、有利には０．２ｍｍの間隔を維持しているように制御可能である。
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本発明は、半導体ウエハや液晶基板などの基板を回転させながら、薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。本発明はまた、半導体ウエハなどの基板を回転させながら保持する基板保持装置に係り、特に、洗浄装置やエッチング装置などに好適に使用される基板保持装置に関する。本発明の基板処理装置は、基板を回転保持する基板保持部を有し、基板を回転させて基板に流体を供給して処理を行い、前記基板保持部には前記流体を吸引する保持部吸引部が配置されている。また、本発明の基板保持装置は、基板の端部に当接して該基板を回転させる複数のローラを備え、複数のローラは基板の半径方向に沿って移動する。

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【課題】小型で、しかも安価でありながら、汎用性に優れた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理部ＰＳでは、それぞれが互いに異なる現像処理を施す２つの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂと、現像処理された基板に超臨界乾燥処理を施す超臨界乾燥処理ユニット２０と、これらの処理ユニット１０Ａ、１０Ｂ、２０に取り囲まれるように配置された主搬送ロボット３０とが設けられている。この主搬送ロボット３０は未処理基板Ｗを受け取ると、該基板Ｗに形成されているレジスト膜の膜材料に対応する現像処理ユニットに基板Ｗを搬送する。そして、現像処理が完了すると、いずれの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂで現像処理されたのかを問わず、主搬送ロボット３０は現像処理を受けた基板Ｗを超臨界乾燥処理ユニット２０にウェット搬送する。 （もっと読む）

【課題】 界面活性剤を用いることなく、水による洗浄よりも高洗浄効果が得られる、廃棄プラスチックを素材リサイクルするための洗浄方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 廃棄プラスチックを、水蒸気を吹き付けることにより洗浄する、または廃棄プラスチックを、加圧された１００℃以上の熱水を吹き付けることにより洗浄することを特徴とする廃棄プラスチックを素材リサイクルするための洗浄方法を用いる。さらに洗浄後の廃棄プラスチックを、除電しながら乾燥させると効果的である。また、廃棄プラスチックの洗浄槽と、該洗浄槽内に洗浄用の水蒸気または加圧された熱水を導入するためのノズルとを有する洗浄装置であって、前記洗浄槽が回転可能であり脱水機能を有することを特徴とする廃棄プラスチックを素材リサイクルするための洗浄装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板２を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置１において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽４と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽５とを備える。そして、第二の槽５に、基板２を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部５８を配備する。 （もっと読む）

【課題】容器自動洗浄装置から排出される洗浄物（水とインキ等の剥離物及び未溶解分の重曹）を、水と剥離物及び未溶解分の重曹とに分離し、両者の二次処理を行い易くすること。
【解決手段】横軸回りに回転させる容器１の内面に対して粉状の重曹を水と共に噴射し、洗浄して排出する洗浄物排出機構を設けた容器自動洗浄装置において、スクリューコンベア１４の排出口１４ｃの下方に、ハウジング１６を設け、該ハウジング１６の内部に、多数の開口を有するバケット１５を回転自在に設け、バケット１５を回転駆動する駆動手段１８を設け、且つ、前記バケット１５に水透過性に優れた回収袋１７を着脱自在に設けた。 （もっと読む）

【課題】 キャリアをブラシ洗浄する際に、ブラシの回転駆動に伴って発生するパーティクルによる洗浄度低下を防止する。
【解決手段】 回転ブラシを駆動するためのモータ３８ａを水平アーム３２内に収容する。水平アーム３２の先端部から下方に延出する垂直アーム３３の下端部に、回転ブラシの回転軸３５を支持する軸受３４を取付け、モータ３８ａの回転を垂直アーム３３内のベルト３８ｅを介して回転軸３５に伝達する。回転ブラシを支持するアームをケースにして、回転ブラシの回転駆動部３８をこのケース内に収容したことにより、ブラシの回転駆動に伴って発生するパーティクルの洗浄槽への落下が防止される。 （もっと読む）