【課題】本発明は、光学素子表面に残った粘着剤を効果的に除去することができるクリーニング装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るクリーニング装置は、積載ホルダーに固定されている光学素子表面に残った粘着剤を除去することに用いられ、第一温度で前記光学素子に対して処理を行う第一筒状物と、前記第一筒状物の内部に位置し、第二温度で前記光学素子に対して処理を行う第二筒状物と、を備え、前記第二筒状物の側壁には、前記積載ホルダーを回転可能に回転させる第一：第二回転軸が設置される。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物を均一に洗浄しつつ、複数種類の機械部品等の被洗浄物を安価に自動洗浄することのできる自動化された超音波洗浄機を提供すること。
【解決手段】 被洗浄物を回転可能な保持籠に入れ、超音波を用いて複数の槽で洗浄する超音波洗浄機であって、該保持籠を槽間移動せしめる移動機構を備えている自動超音波洗浄機とそれを用いた自動超音波洗浄方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ウエハを保持した環状のフレームがスピンナーテーブルの所定位置に確実に固定されたことを確認することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】スピンナーテーブル３１上へのフレーム保持機構３２は環状のフレームの下面を保持する保持面を有する下面支持部材３２１と、下面支持部材に中間部が支持軸３２３によって揺動可能に軸支され支持軸の上側に環状のフレームの上面を押圧する爪部３２２ｂが設けられているとともに支持軸の下側に錘部３２２ｃを備えた振り子部材３２２とを具備している。下面支持部材３２１にはスピンナーテーブルの回転が停止されている状態において爪部より内側にあって保持面より上方に突出し環状のフレームの外周縁を規制する規制部３２１ｅが設けられている。フレームのスピンナーテーブル上への設定がズレていると、フレームが規制部に乗り上げ真空吸着力が低下するので、ズレが検出可能である。 （もっと読む）

【課題】
半導体基板やガラス基板の洗浄液やエッチング液として、アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウムおよび水酸化ナトリウムなどの水溶液が用いられるが、アルカリ成分中の金属不純物が処理中に基板表面に吸着してしまうため、次工程として吸着した金属不純物を除去する工程が必要となる。また洗浄液の場合には、微粒子の除去には効果があるが、金属不純物は洗浄出来ないために酸洗浄を行う必要があり、工程が複雑となる。本発明では、アルカリ性水溶液で金属不純物の吸着がない、さらには洗浄能力を持つ基板処理用水溶液組成物を提供する。
【解決手段】
アルカリ成分と、特定のキレート剤とを組み合わせた基板処理用アルカリ性水溶液により、金属不純物の基板への吸着を防止し、さらには基板に付着した金属を洗浄除去する。必要に応じて、金属防食剤および界面活性剤を加えて、金属材料の腐食を抑え、あるいは基板への親和性および微粒子除去能力を高めることも可能である。 （もっと読む）

【課題】レーザー彫刻方式にて表面が凹凸パターンに形成されたフレキシブル円筒状印刷版を簡便に洗浄する方法の提供。
【解決手段】樹脂硬化物層表面にレーザー彫刻方式にて凹凸パターンが形成された印刷層を含有するフレキシブル円筒状印刷版の洗浄方法であって、（１）該印刷版の内周面を少なくとも２つのローラーで保持する装着工程、（２）２つのローラーの間隔を離し、該印刷版にテンションをかけつつ回転させながら洗浄液により洗浄する洗浄工程、を含むフレキシブル円筒状印刷版の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】、処理対象物を容器内に収容して洗浄する場合に、処理対象物を効率的に洗浄することが可能な滅菌装置及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】滅菌装置１であって、容器２０と、前記容器２０を支持する支持部材３１、３２と、前記容器２０を振動させる振動源と、前記容器２０に洗浄液を供給する洗浄液供給手段６０と、前記容器２０内に蒸気を供給する蒸気供給手段７０と、処理液排出手段６５と、処理対象物排出部２７とを備え、前記容器２０は、両端部が壁部により閉塞され略水平に配置可能とされる筒状体からなり、前記駆動源は、振動モータ５０により構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微小気泡を含む液体中に存在する微小気泡の数を管理するにより、基板処理を均一に行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに対して微小気泡を含む液体４０を供給して基板Ｗを処理し、気体と液体から微小気泡を含む液体を生成する微小気泡生成装置３０と、微小気泡を含む液体内の微小気泡の数を測定するための測定部５０と、測定部から微小気泡の数の測定値が与えられる制御部２０と、制御部２０の指令により微小気泡を含む液体を基板Ｗに供給する供給部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】水を主体とする洗浄水と微細気泡によって洗浄し、洗浄後のすすぎ工程を省略することによって、環境負荷を抑制する。重量物となる被洗浄物容器の着脱を容易にし、作業者の肉体的負担を軽減し作業効率を向上させる。
【解決手段】被洗浄物を収納する被洗浄物容器２０と、容器を摺動させて装置内外に搬入出する摺動保持機構部９０と、容器を洗浄水に浸漬する洗浄槽３０と、容器を洗浄槽に浸漬及びその引き揚げを行う昇降機構部４０と、昇降機構部に設けられ、容器を回転させる回転機構部５０と、洗浄槽の洗浄水から油脂分を分離する油水分離部８０と、浸漬洗浄中の被洗浄物容器２０に対して、気泡を含む洗浄水流を噴射する気泡発生部６３及びノズル６４と、洗浄槽から引き揚げられ、回転された洗浄後の容器に対して、水切り用の空気流を噴射する水切り機構部７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】含フッ素エーテルからアルコールを十分除去するとともに、含フッ素エーテルが系外へ排出されるのを防ぐことができる物品の水切り方法の提供。
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程３、物品を、１−メトキシ−２−トリフルオロメチル−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと１−メトキシ−１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンの混合物等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程４、エーテル置換工程４から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、０．２〜２倍の量の水を接触させる水抽出工程６、含フッ素エーテルとアルコールを含んだ水とを分離させる水分離工程７、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程４に戻す工程を有する物品の水切り方法。 （もっと読む）

【課題】彫刻欠陥、特にキャップの効果的な除去方法であって、彫刻エッジを損傷しない方法を提案する。
【解決手段】本発明は、フレキシブルキャリア上に堆積された金属膜からマスク投影レーザーアブレーション彫刻欠陥を除去する方法に関する。本発明によると、前記方法は、約１５００ＰＳＩから約３０００ＰＳＩの間で加圧された液体を前記欠陥上に噴霧することを含む。 （もっと読む）

【課題】超音波を用いた枚葉式の洗浄装置において、洗浄速度に優れ、かつ、被洗浄物（ウエハ）の全面を均一に洗浄できる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置１０に、超音波振動子２１から伝搬する超音波を照射する照射面２０ａを両側に備え、かつ、それら２つの照射面２０ａ内に洗浄液を噴出する噴出口２０ｂをそれぞれ備えた振動体２０と、照射面２０ａのそれぞれと対向するウエハ５０を平行に並べて保持するガイドローラ１１ｃとを設ける。照射面２０ａ内に配置された噴出孔２０ｂから洗浄液を噴出させつつ、超音波を照射面２０ａからウエハ５０に照射して洗浄を行うことで２つの被洗浄面を同時に洗浄できる。 （もっと読む）

本明細書で説明される実施形態は、半導体デバイス製造に関し、より詳細には、複数の基板を同時に洗浄するための垂直に配置されたデュアルメガソニックモジュールに関する。一実施形態では、複数の基板を洗浄するための装置が提供される。本装置は、少なくとも１つの側壁および底を含む、越流処理流体を収集するための外部タンクを備える。処理流体を含むように適合された第１の内部モジュールは、外部タンクの中に部分的に位置付けされている。第１の内部モジュールは、基板を実質的に垂直配置で保持する１つまたは複数のローラ組立品を備える。処理流体を含むように適合された第２の内部モジュールは、外部タンクの中に部分的に位置付けされている。第２の内部モジュールは、基板を実質的に垂直配置で保持するように適合された１つまたは複数のローラ組立品を備える。各内部モジュールは、処理流体を通して基板の方へ振動エネルギーを送るように適合されたトランスデューサを含む。
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本発明は、少なくとも１つのコンタクトチップ２０と、該少なくとも１つのコンタクトチップ２０を囲むノズル２６とを備えているトーチヘッド１２を自動的に補修する方法及び装置１０に関するものである。第１の補修装置３２では、少なくとも１つのコンタクトチップ２０とノズル２６とが組み付けられている状態で、トーチヘッド１２が非接触で清掃される。少なくとも１つのコンタクトチップ２０及びノズル２６の表面の少なくとも一部に対して、トーチヘッド処理剤４２を塗布するために、第２の補修装置３４が用いられる。トーチヘッド１２が、第１の補修装置３２又は第２の補修装置３４に対応する補修位置に移動させられた後に、それぞれ第１の補修装置３２又は第２の補修装置３４の操作が、コントロールユニット５０により開始させられる。トーチヘッド処理剤は、約５ないし約５０重量パーセントの窒化ホウ素を含んでいる。
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【課題】円筒容器内部の底面および側面に付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去して、これら底面および側面を共に効率良く清掃できるようにする。
【解決手段】開口部Ｄｈが斜め下方に指向した状態で支持され、長手方向軸線Ｌｄを中心にして所定方向に回転させられる円筒容器Ｄに対して、底面用ブレード３０と側面用ブレード４０円筒容器Ｄ内部の所定位置まで前進させ、底面用ブレード３０を円筒容器Ｄの内部底面Ｄｂに押し当てた状態で円筒容器Ｄが所定回数回転した後に、側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに押し当てた状態と円筒容器Ｄの回転状態とを維持しながら、前記側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに沿って後退させることにより、円筒容器Ｄ内部の底面Ｄｂおよび側面Ｄｓに付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去する。 （もっと読む）

【課題】農作物に傷を付けずに洗浄すると共に、農作物の形状にかかわらず確実に洗浄する。
【解決手段】農作物Ｂを搬送する複数の搬送体１，２と、搬送される農作物を洗浄水の噴射で洗浄する洗浄水噴射口３，４，５を備え、搬送体１，２は、搬送方向に沿って直列状に配列されると共に、隣り合う搬送体１，２の間に搬送方向に沿う長さが農作物Ｂの搬送方向に沿う長さよりも短い空間部８を確保して配列され、洗浄水噴射口３，４，５は、搬送される農作物Ｂに対して、空間部８位置で農作物Ｂの径方向から洗浄水を噴射するように配置されている。
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【課題】基板の切断装置９（切断ユニットＢ）を用いて、成形済基板１を切断して切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を形成する場合に、個々のパッケージ５の表面（上下面）に切削屑、破材等の異物が残存付着することを効率良く防止する。
【解決手段】成形済基板１を切断して形成された切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を載置した切断テーブル１７を基板切断位置２５から基板載置位置２４に移動させることにより、その途中に設けた主洗浄部７２において、パッケージ５の上面（ボール面５ａ）を洗浄して乾燥し、次に、基板載置位置２４において、係着着部材９５にて切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を係着すると共に、副洗浄部９６において、係着着部材９５にて切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を係着した状態で、パッケージ５の下面（樹脂面５ｂ）を洗浄して乾燥する。 （もっと読む）

【課題】基板の外縁部の一定の幅のみを正確に安定してリンスすることができ、リンスすべき外縁部の幅が狭くてもリンスする外縁部の幅の制御を容易に行うことができるエッジリンス装置を提供する。
【解決手段】塗液の塗布された被処理基板２の両主面２ａの外縁部に付着した塗液を除去するエッジリンス装置であって、被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、リンス液の収容された容器４１とを備え、容器４１の上面からリンス液の液面が露出されており、回転している被処理基板２の外縁部がリンス液に浸漬される位置に、容器４１が移動自在に配置されているエッジリンス装置とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、簡単な構造で長手農作物を洗浄しながら整列させることのできる長手農作物の洗浄装置を提供することである。
【解決手段】 長手農作物の洗浄装置は、液体収容部と、第１搬送手段と、第２搬送手段とを含み、第１搬送手段に備えられる複数のローラは、液体収容部に収容された液体の液面に沿って、軸線が互いに平行で、かつ長手農作物の外径よりも大きな予め定める間隔をあけて設けられ、各ローラの少なくとも一部を液体に浸漬させた状態で長手農作物の搬送方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板に磁性膜等の情報記録膜を形成した情報記録媒体において、その表面への突起の形成を抑制でき表面の平滑性を向上させることが可能な情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程ＰＲ１と、研磨工程ＰＲ１の後に、洗浄液を用いてガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程ＰＲ２と、スクラブ洗浄工程ＰＲ２の後にガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程ＰＲ３とを有し、スクラブ洗浄工程ＰＲ２の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる。 （もっと読む）

【課題】本願発明は、過熱水蒸気を用い、粒状物に付着した付着物を脱離する方法を化学的処理と組み合わせて改善することを課題とする。
【解決手段】粒状物に付着した重金属イオン物質もしくは陰イオン物質等の脱離方法として、前記粒状物に過熱水蒸気を当てる過熱水蒸気ステップに加え、前記過熱水蒸気ステップの途中もしくは後に、前記粒状物に冷却液を兼ねる酸性溶液又はアルカリ溶液を接触させる溶液処理・冷却ステップや最初の前記過熱水蒸気ステップの前に前記粒状物を酸性溶液またはアルカリ溶液に浸漬する浸漬ステップを設ける。 （もっと読む）