【課題】プローブ、ポンプ、およびプローブとポンプとの間に配される開閉弁等を備えてなるオートサンプラーにおいて、プローブの洗浄能力を向上させる。
【解決手段】配管２０ｂの先端に装着されたプローブ１２と、配管１９に接続され、洗浄液Ｆをプローブ１２に対して供給するポンプ１６と、プローブ１２とポンプ１６とを繋ぐ配管１９、２０ａ、２０ｂの途中に配された開閉弁１３等とを備えてなるオートサンプラー１において、プローブ１２の洗浄を行なう際にポンプ１６の洗浄液Ｆ供給動作開始後に開閉弁１３を開放させるようにする。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理に使用される液体の量を低減しつつ、基板処理装置の内部に付着した薬液成分を確実に除去することができる基板処理装置の中和洗浄装置および中和洗浄方法を提供する。
【解決手段】中和洗浄装置１は、基板処理装置９０の内部との間で希釈液の循環経路を構成し、希釈液を循環させつつ希釈液中に中和剤を添加する。また、中和洗浄装置１は、循環される希釈液のｐＨ値をｐＨセンサ１６により計測し、その計測値が所定の数値範囲内に入るまで中和剤の添加を継続する。このため、希釈液を循環させることにより希釈液の使用量を低減させることができ、また、ｐＨセンサ１６の計測値に基づいて希釈液中の薬液成分を確実に中和することができる。 （もっと読む）

【課題】超音波による二槽層洗浄方式において、超音波の洗浄効果を内槽内の位置によるバラツキなく被洗浄物である磁気ディスク用ガラス基板にもたらす超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置１００は、洗浄液１４０を貯留するための内槽１１０と、超音波媒体液１５０を貯留して超音波媒体液１５０中に内槽１１０を保持するための外槽１２０と、外槽１２０の底面に取り付けられ、超音波を放射し、内槽１１０内の洗浄液１４０中に設置される磁気ディスク用ガラス基板１７０を超音波洗浄する超音波発振板１３０と、内槽１１０の底面１９０に滞留する気泡２００を底面１９０の外側に移動させるよう、超音波媒体液１５０中に液体を放出する液体放出手段２５０とを含む。これにより、内槽底面１９０に滞留する気泡２００が除去される。 （もっと読む）

【課題】異なる性状の汚れに対して超音波洗浄効果を最大化する。
【解決手段】洗浄槽１内の水を振動させて被洗浄物を洗浄する超音波振動子２と、洗浄水から溶存気体を除去する脱気手段３と、前記超音波振動子２と前記脱気手段３を制御する制御手段７とを設け、前記制御手段７により洗浄水の溶存気体飽和度を連続的または段階的に変化させながら超音波洗浄を行うようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】浮遊スカムとスラッジの両方をラインタンクから排出し、循環タンクに戻すことで、常にラインタンク内の洗浄液を清浄に保ちてる鋼板の洗浄設備を提供する。
【解決手段】本発明の鋼板の洗浄設備は、洗浄される鋼板が通過するラインタンク１と、ラインタンク１に洗浄液を供給及び循環するための循環タンク２と、循環タンク２内の洗浄液をラインタンク１に供給する循環ポンプ７と、ラインタンク１内に堆積したスラッジ１１を洗浄液と共に、ラインタンク１の底に設けた排出口１ａから循環タンク２に戻す底抜き配管系統６と、ラインタンク１内のスカム１２を洗浄液と共に、ラインタンク１の液面部に設けたオーバーフロー口１ｂから循環タンク２に戻すオーバーフロー配管系統５と、を備える。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ装置のエレメント上の堆積物除去のためのクリーニングプロセスを提供する。かかる方法は、アルカリ洗浄液を用いてエレメントを処理すること（ex situ）を含む。このようにして、Ｓｎを汚染物質バリアまたは集光ミラーから除去できる。クリーニングされるエレメントへの電圧の印加および／または洗浄液中のＳｎの溶解を改善するための錯化剤を使用することが特に有益である。 （もっと読む）

本発明は、容器から、特に原子力発電所の蒸気発生器から、磁鉄鉱及び銅を含む沈殿物を取り除くための方法に関する。ここで、− 第１ステップでは、鉄イオンとの間で可溶性錯体を形成する錯化剤、還元剤及びアルカリ化剤を含有するアルカリ性洗浄溶液を用いて容器が処理され、− 第２ステップでは、第１ステップで用いられた錯化剤よりもより安定な錯体を、鉄（ＩＩＩ）イオンとの間で形成する他の錯化剤及び酸化剤が、容器内に存在する第１ステップの洗浄溶液に添加される。 （もっと読む）

【課題】処理液中から基板を引き上げるときに、処理液の液面の高さを一定に保ちつつ、基板に乾燥気体を供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を貯留する処理槽１と、基板Ｗを保持しつつ、基板Ｗを処理槽１内の処理位置と処理槽１の上方位置とにわたって昇降させるリフタ機構３と、処理槽１の上端面に沿う方向にドライエアを供給するエア供給部５と、処理槽１に処理液を供給する噴出管１１を備えている。そして、制御部は、基板Ｗを処理位置から上方位置へ上昇させる際に、エア供給部５から乾燥気体を供給させるとともに、噴出管１１から純水を供給して、処理液の液面を処理槽１の上端の高さで一定に保つ。これにより、基板Ｗが処理液から露出し始める位置を同じ高さに保つことができるので、基板面全体にわたって乾燥状態を均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】高圧洗浄車において、オーバーフロー不能な状態でのタンク内への給水を防止することにある。また、オーバーフロー不能な状態でのタンク内への給水を防止可能な高圧洗浄車の水流路切換方法を提案する。
【解決手段】高圧洗浄車１は、タンク１１と、タンク１１に接続された給水管７５と、洗浄水を導入する導入口８７を有する導入管７７と、タンク１１に接続されたオーバーフロー管７６と、洗浄水を排出する排出口８８を有する排出管７８と、を備えている。また、高圧洗浄車１は、給水管７５と導入管７７との連通状態およびオーバーフロー管７６と排出管７８との連通状態を解除すると共に、給水管７５とオーバーフロー管７６とを連通させる第１の状態と、給水管７５と導入管７７とを連通させると共に、オーバーフロー管７６と排出管７８とを連通させる第２の状態と、に切り換えられる様に構成された四方弁７９を備えている。 （もっと読む）

【課題】処理液を基板上に供給する際に、処理液と基板との間の放電により生じる基板へのダメージを抑制する。
【解決手段】基板処理装置１は、導電性の処理液を基板９に向けて連続的に流れる状態で吐出する吐出部３２を備える。吐出部３２の吐出口３２１の近傍には導電性の接液部３２２が設けられ、接液部３２２は電位付与部４１に接続される。また、基板９の周囲を囲むカップ部２３の帯電により処理対象の基板９は誘導帯電する。処理液を基板９上に供給して基板９を処理する際には、処理液の吐出開始時に接液部３２２を介して処理液に電位が付与され、基板９上に吐出される処理液と基板９との間の電位差が低減される。これにより、処理液と基板９との間の放電により生じる基板９へのダメージを抑制することができる。 （もっと読む）

【構成】（イ）酸性化合物よりなり酸化剤を含有しない第一剤と（ロ）Ｈ_２Ｏ_２発生剤とアルカリ性化合物とニトリロトリ酢酸或いはその中和塩、エチレンジアミンテトラ酢酸或いはその中和塩又はメチルグリシン三酢酸或いはその中和塩からなるキレ−ト剤とよりなる第二剤と（ハ）Ｈ_２Ｏ_２と反応して酸素を生成するＨ_２Ｏ_２分解剤よりなる第三剤とを備えてなる発泡性洗浄剤及びその配管の洗浄方法。
【解決手段】循環式浴槽における配管系において、生物膜（バイオフィルム）による有機質スケ−ルの他に、無機質のスケ−ルをも良好に除去することができる。塩素剤を使用しないので、有害な塩素ガスの発生を防止できる。塩素系の清浄剤によらないので、有害な塩素ガスの発生を防止できる。 （もっと読む）

【課題】メディアが充填された分散機を備えた水系顔料分散体分散装置を清浄に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】顔料と酸型の水不溶性ポリマー分散剤とを含む水系顔料分散体を製造するために用いられるメディアが充填された分散機を備えた水系顔料分散体分散装置の洗浄方法は、水系顔料分散体を製造した後の分散機内を、酸型の水不溶性ポリマー分散剤を溶解する有機溶剤を洗浄剤として洗浄する第１洗浄工程と、第１洗浄工程後の分散機内を、アルカリ剤を含んだアルカリ系溶液を洗浄剤として洗浄する第２洗浄工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 急速な排水および排水制御を行うことのできる排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置を提供する。
【解決手段】純水Ｌが貯留された洗浄槽１に前記水晶ウェハＷの格納されたバケットが浸漬され、その後揺動装置により所定の揺動動作がバケットＢに対して与えられる。その後前記コック５１の開放により圧縮エアが流通管に供給され、前記吹出口２１に供給される。これにより吹出口の圧力は瞬時に高まり、バルブ４を押し上げる。この動作により、フランジ部４１が上昇し排出口が開放され、洗浄槽１の純水（液体）は排出口から排出される。また、天板部を押し上げた圧縮エアは天板部の内側からバルブの側壁部に沿って下方に導かれ、最終的に前記排出口２２から強勢に排出される。これにより急速排水が実施される。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の板面内における処理の均一性を向上させることができるとともに複数の処理を効率的に行うことができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、整流部材２８が内部に設けられ、整流部材の上側に位置し被処理基板Ｗを収容する第１領域１２と整流部材の下側に位置する第２領域１２ｂとを含む処理槽１２ａを用いて被処理基板を処理する方法である。処理方法は、第１の薬液を第２領域に供給しながら被処理基板を処理する工程と、第２の薬液を第１領域に供給しながら被処理基板を処理する工程と、を有する。第１の薬液は、少なくともウエハの周囲で上昇流が形成されるよう、供給される。第２の薬液は、少なくともウエハの周囲の液体を攪拌するよう、供給される。 （もっと読む）

【課題】複数の薬液について被処理基板に対する処理方法を異なるものとすることにより、各薬液を用いた場合における被処理基板に対するそれぞれの処理性能を向上させることができる基板処理装置等を提供する。
【解決手段】薬液の種類が第１の薬液に設定された場合には、処理液が貯留されるとともに被処理基板が収容された処理槽１２に対してまず第２領域１２ｂに第１の薬液を供給し、整流部材２８を介して第２領域１２ｂから第１領域１２ａに第１の薬液を流入させ、この際に第１領域１２ａ内において第１の薬液の上昇流の整流を形成する。一方、薬液の種類が第２の薬液に設定された場合には、処理液が貯留されるとともに被処理基板が収容された処理槽１２に対して第１領域１２ａあるいは第１領域１２ａおよび第２領域１２ｂの両方に第２の薬液を供給する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の板面内における処理の均一性を向上させることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、整流部材２８が内部に設けられ、整流部材の上側に位置する第１領域１２ａと整流部材の下側に位置する第２領域１２ｂとを含む処理槽１２を用いて行われる。基板処理方法は、第１領域内に被処理基板Ｗを配置し、処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬する工程と、第２領域に薬液を供給して処理槽内の処理液を薬液で置換する工程と、第２領域に水を供給して処理槽内の薬液を水で置換する工程と、を備える。置換時に、第２領域に供給された液体は、整流部材を介して第１領域に流入し、第１領域内の少なくとも基板の近傍において上昇流が形成される。 （もっと読む）

【課題】粉体の洗浄を簡便にかつ生産性良好に行うことができる方法を提供すること。
【解決手段】処理槽２８内にろ過多孔板３６を備え、該ろ過多孔板３６を加振する加振手段３０と、送気手段２４とを備えた振動流動処理装置Ｍを用いて粉体を洗浄する方法。１）粉体を洗浄液中に含有させた粉体含有液体の層Ｆをろ過多孔板３６上に形成して、ろ過多孔板３６の下方から送気するとともにろ過多孔板３６を振動させて洗浄する第１ステップと、２）第１ステップの後、ろ過多孔板３６を介して部分脱液する第２ステップと、３）再度、第１ステップを行う場合に、第２ステップ後の残液に洗浄液を補充する第３ステップとからなる洗浄工程を、必要回数繰り返す方法である。 （もっと読む）

【課題】機械部品、電気部品などの被洗浄物を良好に洗浄乾燥することができると共に、真空吸引するための設備費を低減でき、洗浄槽の保守点検や清掃作業を容易に行なうことができる洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽１の下部に洗浄液を収容し超音波発振器２９を配置してなる浸漬洗浄室２を設けられ、上部に被洗浄物を出し入れする出入室３が設けられる。被洗浄物を浸漬洗浄室２と出入室３との間で昇降させる昇降装置７が洗浄槽１内に配設される。洗浄槽１の出入室３の側部に真空乾燥室２１が連通して配置される。真空乾燥室２１は連通口１７を真空室シャッター１８により閉鎖可能とされ、内部を真空ポンプ３０により減圧する。洗浄槽１上部の出入室３と真空乾燥室２１との間で被洗浄物を水平移動させる水平移動機構２２が設けられる。 （もっと読む）

【課題】従来の磁気記録媒体用基板の洗浄装置より浸漬槽内での発塵が少なく、塵埃が洗浄基板に再付着することがなく、磁気記録媒体用基板に付着した塵埃を効率よく除去できる、高度の洗浄性能の得られる磁気記録媒体用基板の洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】スクリューコンベア５０を同期回転させる回転機構部８０が浸漬槽１０の外側に設けられるとともに、スクリューコンベア５０の主軸５４ａ，５４ｂが浸漬槽１０の前壁２３および後壁２４に対して非接触で貫通され、その貫通位置には排出口６２が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リンス液を回収して再利用することによって、ランニングコストを低減する。
【解決手段】この基板処理装置は、基板Ｗを保持するスピンチャック１と、スピンチャック１に保持された基板Ｗにリンス液を供給するリンス液供給機構７と、基板Ｗに供給された後のリンス液をリンス液貯留槽４７に回収するリンス液回収機構８と、この回収されたリンス液を薬液原液と混合して薬液を調製し、この薬液をスピンチャック１に保持された基板Ｗに供給する薬液供給機構６とを含む。 （もっと読む）