本発明の実施形態は、一般的に構成部品に関連する慣らし運転期間の必要性を排除すると共に、その摩耗期の構成部品の耐用年数を延長させるために、プラズマ・エッチング工程と、任意の強化超音波とメガソニックの少なくとも一方の前処理段階とを用いて半導体製造用部品を前処理する方法を提供する。
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【課題】簡易な構成で洗浄ムラや汚れの滞留を防止することができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本実施形態に係る超音波洗浄装置１は、内部に溜めた洗浄水を外部に吐出するための吐出口３２を有する中容器３０と、中容器３０の吐出口３２から吐出される洗浄水を受けるように中容器３０の外側に設置された外容器２０と、外容器２０の下側に設置された超音波振動部１３と制御部１１とを有する本体１０とを備えている。超音波洗浄装置１においては、吐出口３２から洗浄水を吐出することで、中容器３０内の洗浄水の水位を徐々に下げると共に、中容器３０を外容器２０に対して相対的に回転させながら超音波洗浄を行うことで、洗浄ムラや汚れの滞留を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】固体状微細異物の洗浄性に優れ、且つ、省エネ・低環境負荷型の洗浄システムを提供する。
【解決手段】被洗浄物を洗浄槽内に収納し、下記洗浄組成物を含んだ洗浄液を平均80m/min以上の速度で前記被洗浄物に対して衝突させることにより被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。洗浄剤組成物：（１）〜（４）を（１）〜（４）の合計質量に対する特定の比率で含有する。（１）テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド：７〜９％（２）グルコン酸ナトリウム：３〜７％（３）エチレンジアミンテトラ酢酸四ナトリウム：７〜１１％（４）C₁₀H₂₁O-EO_nH（式中、EOはエチレンオキサイド単位であり、nはエチレンオキサイドの平均付加モル数を表しかつ1〜10の数である）：残部 （もっと読む）

【課題】基板の外縁部の一定の幅のみを正確に安定してリンスすることができ、リンスすべき外縁部の幅が狭くてもリンスする外縁部の幅の制御を容易に行うことができるエッジリンス装置を提供する。
【解決手段】塗液の塗布された被処理基板２の両主面２ａの外縁部に付着した塗液を除去するエッジリンス装置であって、被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、リンス液の収容された容器４１とを備え、容器４１の上面からリンス液の液面が露出されており、回転している被処理基板２の外縁部がリンス液に浸漬される位置に、容器４１が移動自在に配置されているエッジリンス装置とする。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の洗浄液に浸漬された基板に対し超音波を照射して基板を洗浄する場合に、装置の構造を複雑化させることなく、基板の洗浄面全域に効果的に超音波を照射して洗浄効果の均一性を高めることができる装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留する処理槽１０の底部外面側に配設される超音波振動板２０と、複数の基板Ｗを保持部１６により支持して処理槽１０の内部に保持する基板保持具との間に、超音波透過性材料で形成された平板状をなす一対の超音波屈折部材２４を左右対称に配設し、支持手段により超音波屈折部材２４を鉛直面に沿った方向において揺動可能に支持し、揺動手段により超音波屈折部材２４を基板Ｗの洗浄処理中に揺動させて超音波屈折部材２４と超音波振動板２０とのなす角度を変化させる。 （もっと読む）

【課題】パターンが微細化しても、パターンは破壊されずに異物を十分に除去することのできるフォトマスクの物理洗浄の方法を提供する。
【解決手段】１）密閉可能な洗浄チャンバー１０内の上部に空間Ｋを残して充填された薬液又は純水６０中にフォトマスク５０が浸漬された状態で洗浄チャンバーを密閉し、２）前記空間にＮ₂ ガスを供給して洗浄チャンバー内を高圧にした後に、３）該洗浄チャンバー内の高圧の薬液又は純水を、瞬時に洗浄チャンバーから排出し、高圧から常圧への瞬時の圧力差によってフォトマスクの異物を離脱させ除去する。 （もっと読む）

【課題】短時間、低コストで効率よく洗浄でき、装置コストも安価な物品洗浄装置を得る。
【解決手段】物品表面上の付着不純物を洗浄する本発明物品洗浄装置１は、蓋手段２によって密閉可能である耐圧性の洗浄槽３と、洗浄槽３内に回転可能に設け、洗浄すべき物品を収容かつ保持することができる有孔容器４ｂと、洗浄槽３下部に設けた液体供給口５ａ及びガス供給口５ｂと、洗浄液タンク手段６から洗浄液７を液体供給口５ａに圧送する洗浄液供給手段と、ガス供給源１２からガスをガス供給口に圧送するガス供給手段と、有孔容器４ｂを洗浄槽３内で回転させる回転駆動手段４ａと、各手段を制御して協調動作させる制御手段とを具える。有孔容器の回転で生じる洗浄液の乱流によって発生した大量のガス気泡のハンマーリング作用により、有孔容器４ｂに保持した被洗浄物品を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄対象のエリアのみ洗浄することによって、被洗浄物を洗浄及び乾燥する際の該被洗浄物への異物の付着を抑制する洗浄装置、洗浄槽、洗浄方法、及び物品の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置内の洗浄槽２が備える超音波発生手段２１が、供給口２００から洗浄槽２に供給された洗浄流体に超音波を印加し、被洗浄物１の洗浄エリア１１と対応する位置に開口部２２０を持つ流体噴出手段２２が、上記超音波が印加された洗浄流体を上記開口部２２０から被洗浄物１の洗浄エリアに噴出させる。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな装置で効率良く棒状部材の洗浄を行うことができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】内部にワーク１を収容可能な収容部５を有するケース１０ａ，１１Ａと、収容部５への洗浄液の給排を行う洗浄液給排装置２Ａとを備え、ケース１０ａ，１１Ａは、収容部５へのワーク１の出し入れを行うことができるよう開閉可能に分割して構成され、ワーク１は、収容部５内へ供給されて排出される洗浄液によって洗浄されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一定の幅を有する無端状ベルトを、複数本同時に均一かつ強力に、すすぎ洗浄する洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】すすぎ液槽内に一定方向に流れるすすぎ液流を形成し、無端状ベルトを、その幅方向がすすぎ液流の流れ方向に沿うようにすすぎ液槽内に配置する。その結果、無端状ベルトと水との間に発生するせん断力により、無端状ベルトが、すすぎ洗浄される。 （もっと読む）

【課題】細棒材に形成された止まり穴の内部を簡単に且つ確実に洗浄する。
【解決手段】止まり穴２が形成された中間素材１を閉鎖容器１０に収容し、減圧ポンプ１１によって閉鎖容器１０の内部を減圧すると共に液タンク１２から洗浄液を供給して中間素材１、止まり穴２を浸漬し、昇圧部材１３によって閉鎖容器１０の内部を昇圧し、洗浄液を排水した後、閉鎖容器１０の内部を再度減圧することで、中間素材１に形成された止まり穴２を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】ワーク浸漬時のワークおよびワーク処理槽の環境を一定にし、ムラ無く適切に表面処理を行うことができる浸漬処理装置のワーク浸漬装置および浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに表面処理を行うワーク処理槽５の処理溶液に、ワークＷを浸漬するための浸漬処理装置１の浸漬移動機構１７であって、ワークＷを吊り下げる吊下げ機構５１と、吊下げ機構５１を昇降自在に支持すると共に、吊下げ機構５１を介してワークＷをワーク処理槽５に浸漬する昇降機構５２と、を備え、吊下げ機構５１を支持する昇降機構５２の出力端であるリードねじ７９が、吊下げ機構５１およびこれに吊り下げられたワークＷの重心位置に配設されている。 （もっと読む）

【課題】 処理槽内の異物を確実に除去することができる処理槽における処理液濾過装置を提供する。
【解決手段】 処理槽２のワーク搬出側の表層処理液１を回収する開口部６と、処理槽２のワーク搬入側の中層処理液１を回収する分離部４と、処理槽２のワーク搬入側底面の底層処理液１を回収するホッパ５と、処理槽２の底面８に配設されワーク搬送方向と逆方向且つ底面８を指向した第１処理液吐出ノズル１５と、処理槽２の両側面に配設されワーク搬送方向と逆方向且つワークを指向した第２処理液吐出ノズル１９と、開口部６、分離部４、ホッパ５で回収された処理液１を濾過して異物を夫々分離するサイクロン装置２５，３１，４４，５０，６５と、これらのサイクロン装置２５，３１，４４，５０，６５で分離された異物を主に貯留する分離槽６０と、この分離槽６０に貯留された異物と処理液１から異物のみを分離して排出するスクリューコンベア６２を備えた。 （もっと読む）

【課題】超音波振動によりフィルターを洗浄する際に、フィルターの内部の気泡を減少させることで、フィルターの内部の異物を除去することができるフィルター洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄液２が貯留される貯留部１ｂを有した洗浄槽１と、洗浄槽１に設けられ、洗浄槽１の内部の気圧を低減させる減圧手段４と、洗浄槽１に設けられ、洗浄される洗浄槽１内のフィルター５に向かって洗浄液２を噴射する洗浄液噴射手段６と、洗浄槽１に設けられ、洗浄液２に超音波を照射する超音波発生手段３とを備えたフィルター洗浄装置において、洗浄液噴射手段６は、複数種類の直径の液流または液滴の洗浄液２を噴射する。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽に供給される洗浄液の帯電を十分に抑制することが可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１は、被洗浄物２が浸漬される洗浄槽３と、洗浄槽３に洗浄液を供給する給液部９と、洗浄槽３から排出される洗浄液を給液部９まで循環させるための循環経路１０とを備えている。循環経路１０は、循環する洗浄液の帯電を抑制する帯電抑制手段２８を備え、この帯電抑制手段２８は、洗浄液が通過する通過路の内部に配置されるとともに接地される導電性部材を備えている。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドに液膜となっているインクのクリーニングと乾燥して固着した状態のスペーサビーズのクリーニングとの２つのクリーニングに対応することを目的とする。
【解決手段】スペーサビーズを含むインクを下方に向けて噴射する複数のノズル３０を１列に配列して設けたインクジェットヘッド２４に付着したインクの液膜を非接触で吸引して除去する吸引機構４３と、インクが乾燥してインクジェットヘッド２４に固着したスペーサビーズを含む固化汚れに洗浄液を供給して洗浄する洗浄機構４２と、を備えている。インクが液膜となって付着している程度であれば、短時間で処理が終了する吸引機構４３を用いた液膜除去のクリーニングを行い、固化汚れとなっている場合には、洗浄効果の高い洗浄液を供給する洗浄機構４２を用いた洗浄によるクリーニングを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の回路基板と半導体素子との隙間の洗浄効果を高める。
【解決手段】回路基板２の表面にソルダーレジスト２２を形成し、ソルダーレジスト２２に第１の開口を形成して電極２１を露出させ、半導体素子３の表面にポリイミド３２を形成し、ポリイミド３２に第２の開口を形成して電極３１を露出させ、電極３１に半田バンプ３４を形成し、電極２１および半田バンプ３４の少なくとも一方にフラックスを塗布し、ソルダーレジスト２２とポリイミド３２とを対向させ電極２１に半田バンプ３４を接合し、回路基板２と半導体素子３との隙間に洗浄液を供給して隙間に存在するフラックスを洗浄する。フラックスを洗浄する工程前に、ソルダーレジスト２２およびポリイミド３２の少なくとも一方に凹部を形成する。 （もっと読む）

【課題】従来の循環型洗浄装置では、洗浄品質を安定しつつ洗浄液使用量の効率を高めることができない。
【解決手段】循環型洗浄装置１１０では、ポンプ５により洗浄液３が循環し、洗浄塔２から洗浄液タンク４へ排出された排出洗浄液の総量を測定する積算流量計１０５と、積算流量計１０５の測定結果に基づいて洗浄液タンク４から洗浄塔２へ送出する洗浄液の液量を制御する第１の制御部１０４を備えた構造を有している。かかる構造の循環型洗浄装置１１０によれば、洗浄容器１内での洗浄液３の液流が阻害された場合でも、排出洗浄液の積算された液量を測定するため、洗浄液を送出したり、洗浄液の送出を停止するなどして、洗浄バッチ毎の排出洗浄液量を一定にできる。これにより、実質的に被洗浄物に流れた洗浄液の総量を測定するため、洗浄のばらつきを低減できる。また、循環型であるため、実質的に被洗浄物に流れた洗浄液の総量を減少することなく洗浄液３を繰り返し使用できるため、洗浄むらを抑制して洗浄品質を安定しつつ洗浄液３を効率よく使用できる。 （もっと読む）

【課題】ろ過塔等から取り出してろ過材を洗浄するにあたり、洗浄されたろ過材に洗浄時の汚れが再付着することがなく、十分に洗浄を行えるようにすることにより、再利用されるろ過材のろ過機能や耐久性の低下をなくし、ランニングコストが高くなるのを防止する。
【解決手段】ふるい手段による分級工程並びにその分級工程を経て搬送手段により搬送されるときにろ過材が洗浄され、ふるい部材を透過したろ過材を貯留部に貯留し、この貯留部と取り出し口部分とを連通する部分に水洗洗浄部を設け、ふるい手段から供給されて洗浄部の洗浄容器内を下降するろ過材をその下方から吹き上げる方向に洗浄水を噴射することにより攪拌して洗浄し、洗浄済みのろ過材を取り出し口部分から取り出して再使用可能にするようにした。 （もっと読む）

【課題】処理液供給ユニット１３内の処理液の減少に起因する基板処理装置の強制停止の頻度を減少させて、処理液を有効に使い、歩留まりの良好な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に液処理を施す複数の液処理ユニット１２と、複数の液処理ユニット１２に対する基板の搬入・搬出を行う基板搬送手段と、複数の液処理ユニット１２へ処理液を供給する処理液供給ユニット１３と、前記処理液供給ユニット１３の処理液貯留槽１６内の処理液の残量を検出するレベルゲージ１６１を備えて、レベルゲージ１６１が検出する処理液貯留槽１６内の処理液の残量が所定量を下回る場合に、液処理ユニット１２への基板の搬入を停止する。 （もっと読む）