【課題】清掃対象表面に付着した汚染物質を効率的に清掃して分離回収する。
【解決手段】清掃対象Ａ表面に対向して周縁部が接触配置される清掃ヘッド１と、清掃流体Ｆが清掃ベッド１の内部空間１ｃを介して循環する流体循環配管２と、清掃流体Ｆが補充可能に貯留される貯留タンク３と、貯留タンク３に貯留される清掃流体Ｆを流体循環配管２に循環させる循環駆動源４と、清掃流体Ｆに対し汚染物質Ｃがイオン結合する塵物質Ｗから分離可能となる特性の分離因子を供給する分離因子供給手段５と、流体循環配管２を循環する清掃流体Ｆを加圧した状態で清掃ヘッド１の流体吐出口１ａから清掃ヘッド１の内部空間１ｃに吐出させる加圧吐出手段６と、流体循環配管２のうち清掃ヘッド１の流体回収口１ｂから貯留タンク３に至る途中に設けられ、循環する清掃流体Ｆ中に含まれる塵物質Ｗと汚染物質Ｃとを分離した状態で回収する回収手段７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄する回転ブラシに、汚染粒子が静電吸着されることを防止することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９を搬送する搬送機構２と、基板９との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板９に接触して回転することにより基板９に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ３と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ３に向けて供給する第１洗浄液供給部６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法で、付着異物の除去が効果的な洗浄方法を提供する。
【解決手段】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法であって、高い圧力をかけてノズルから、純水を微粒径の状態状態で噴射させて、前記遮光膜付き基板の遮光膜にあてる、純水ジェット洗浄処理を施す。 （もっと読む）

【課題】メガソニック洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】メガソニック洗浄方法として、洗浄対象体と区分される空間で、メガソニックによって洗浄液を起電させてマイクロ空洞を生成させる。生成されたマイクロ空洞のうち、安定な振動のマイクロ空洞のみを洗浄対象体がロードされた空間に移動させる。また、前記安定な振動のマイクロ空洞を利用して前記洗浄対象体の表面を洗浄する。前記方法によると、洗浄対象体内のパターンの損傷を防ぎ且つ洗浄対象体表面のパーティクルを効果的に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】シリコーン系ハードコート付き樹脂基板に付着した水垢を、そのシリコーン系ハードコートを損傷することなく除去する洗浄剤を提供する。
【解決手段】界面活性剤と、酸性フッ化アンモニウムと、水とを含有し、上記酸性フッ化アンモニウムの含有量が、全体量の０．５〜３．０質量％である。 （もっと読む）

【課題】タバコのヤニが付着した塗装された壁面および天井面を、ほぼ原状に近い程度にまでタバコのヤニを落とす洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄剤として、次亜塩素酸ナトリウムに無機アルカリとメチルアルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール、プロピルアルコールの中から選択されるアルコール類、および水を加えることで、ｐＨが１０〜１２、有効塩素の濃度が１〜６重量％になるように調整した洗浄液を用いる。 （もっと読む）

【課題】 汚砂だけでなくし渣をも対象として内部に目詰まりを起こすことなく洗浄処理が効率的になされるようにした汚砂・し渣洗浄処理方法ならびにその装置を提供すること。
【解決手段】 沈砂池から導かれる汚砂を、洗浄水を満たした処理槽内に投入してのち、エアーあるいは水などの流体の導入により上昇流を発生可能なリフト管内に汚砂を含む洗浄水を吸引・上昇させるとともに処理槽内に放出することでリフト管内と処理槽内との間で循環攪拌流を形成して汚砂を洗浄処理する工程と、沈砂池から導かれたし渣を洗浄水中に投入してリフト管を通して処理槽内に循環攪拌流を形成してし渣を洗浄処理したあと一方向に押しやって掻き揚げ処理する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】搬送装置の搬送部に汚れが固着することを防ぎながら、洗浄工程で搬送部に付着した洗浄水が、乾燥工程を搬送中の物品に接触しないようにする。
【解決手段】洗浄工程を通過し、洗浄水が付着した搬送部２と鶏卵Ｅを離間手段３と離間板９によって離間させ、走行路ｂを進む搬送部２に付着している洗浄水を、水分除去手段４で除去する。洗浄水が除去された搬送部２を合流手段５によって搬送路ａ上の鶏卵Ｅに合流させて、搬送部２で再び鶏卵ＥをＡ方向へ搬送する。 （もっと読む）

【課題】連続して被洗浄物を洗浄する場合であっても、被洗浄物の洗浄度が低下することを容易に抑制することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】中間部が狭窄な貫通孔５ａと、この貫通孔５ａの狭窄部５ｂに連通し、貫通孔５ａに入った洗浄水１が狭窄部５ｂを流れることで空気が狭窄部５ｂへ吸引されるガス吸引孔５ｃとが形成され、洗浄水１とともに金属屑２が貫通孔５ａを通過することで、洗浄水１に微細気泡４を生成し、微細気泡４と金属屑２とを混ぜ合わせながら、洗浄水１および金属屑２を外へ出す気泡生成器５を備えている。 （もっと読む）

【課題】 太陽光発電及び太陽熱発電システムで使用される太陽電池パネルや反射鏡などの板状部材を、作業性が高く、かつ経済的に清掃するための清掃ロボットシステム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】 太陽光発電用パネル又は太陽熱発電用反射鏡の平面状あるいは曲面状の板状部材４ａ、４ｂを清掃する清掃ロボットシステム１であって、清掃の対象となる前記板状部材４上を走行する機能と清掃する機能を有した多数の清掃ロボット２と、前記清掃ロボット２を第１の板状部材４ａから第２の板状部材４ｂへ移動させる搬送機能を有しているアレンジロボット３とを備えており、前記清掃ロボット２が、前記板状部材４に吸着しながら清掃を行うための吸着機構を有しており、多数の前記清掃ロボット２と、前記清掃ロボット２よりも少ない数の前記アレンジロボット３が協働して、太陽光発電又は太陽熱発電プラントに設置された板状部材４を清掃する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄の効率を向上させることができる洗浄装置およびこの洗浄装置を用いた洗浄方法を得る。
【解決手段】微細気泡４同士の合一を抑制する添加剤が添加された洗浄水１を貯留するとともに、内側に被洗浄物２が挿入されて、被洗浄物２が洗浄水１に浸漬される洗浄槽３と、洗浄槽３内の洗浄水１に微細気泡４を噴射し、被洗浄物２を洗浄する第１の気泡噴射手段５と、洗浄槽３内の洗浄水１に超音波を照射し、被洗浄物２を洗浄する超音波照射手段６とを備え、第１の気泡噴射手段５は、微細気泡４を生成する気泡生成器７を有し、超音波照射手段６は、超音波を放射する超音波振動子１１を有した洗浄装置において、微細気泡４が超音波振動子１１に向かって移動することを抑制する気泡移動抑制手段１７を備えている。 （もっと読む）

【課題】円筒容器内部の底面および側面に付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去して、これら底面および側面を共に効率良く清掃できるようにする。
【解決手段】開口部Ｄｈが斜め下方に指向した状態で支持され、長手方向軸線Ｌｄを中心にして所定方向に回転させられる円筒容器Ｄに対して、底面用ブレード３０と側面用ブレード４０円筒容器Ｄ内部の所定位置まで前進させ、底面用ブレード３０を円筒容器Ｄの内部底面Ｄｂに押し当てた状態で円筒容器Ｄが所定回数回転した後に、側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに押し当てた状態と円筒容器Ｄの回転状態とを維持しながら、前記側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに沿って後退させることにより、円筒容器Ｄ内部の底面Ｄｂおよび側面Ｄｓに付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去する。 （もっと読む）

【課題】工具ホルダのテーパ状の保持部に付着した切粉を確実に除去する。
【解決手段】工具５を装着する工具ホルダ３は、工作機械の主軸に着脱可能な円柱ないしは円錐形状の保持部７を有する。洗浄装置１は、平面上で時計回りと反時計回り方向に交互に反復して回転自在に設けた回転体１１と、前記工具ホルダ３の保持部７の中心軸が回転体１１の回転軸心上にほぼ位置するようにセットした前記保持部７の外側で回転すべく回転体１１に固定した少なくとも２つ以上のブラシ固定部材１９と、このブラシ固定部材１９に、前記保持部７を掃除する方向に植設したブラシ２１と、少なくとも１つのブラシ固定部材１９のブラシ２１の間に、前記保持部７に向けてエアを噴射するように設けたエアノズル２３と、少なくとも１つのブラシ固定部材１９のブラシ２１の間に、前記保持部７に向けてクーラント液を噴射するように設けたクーラントノズル３１と、で構成されている。 （もっと読む）

【課題】ドライアイス洗浄時に乱気流の発生を抑えつつ異物の除去が可能なフィルム洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し装置２と、ウェブフィルムＷを液体で洗浄する第１洗浄部３１、第２洗浄部３３と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する第１乾燥部３２、第２乾燥部３４と、乾燥したウェブフィルムＷに対して気体とともにパウダー状のドライアイスを吹き付ける吹付けノズル４１を有し、吹付けノズル４１でドライアイスを吹き付けてウェブフィルムＷを洗浄するドライアイス洗浄部４と、ドライアイス洗浄したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り装置６と、を備え、吹付けノズル４１は、ドライアイスの吹付け方向がウェブフィルムの洗浄面に対して斜めに傾けて設置されている。 （もっと読む）

【課題】基板の表面のデバイス形成領域に処理液による悪影響を与えることなく、基板の周縁部から汚染を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ブラシ１１に関連して、処理液を吸引するための吸引ノズル７０が設けられている。吸引ノズル７０の先端部は、第１接触面３２と第２接触面３３との境界部分３４に対向する先端面７２と、第１接触面３２および第２接触面３３と当接する当接面７３とを有している。先端面７２には、吸引口７４が形成されている。吸引ノズル７０に接続された吸引管７６は、処理室２の外部へ延びており、その先端は、真空発生装置６０に接続されている。真空発生装置６０が駆動されると、ブラシ１１の内部に含まれる処理液は吸引口７４に吸引され、ブラシ１１の内部に吸引口７４に向かう処理液の流れが形成される。 （もっと読む）

本発明は、汚染物質（例えば落書き）を基材から取り除くための方法に関する。この方法は、被覆用組成物を基材に塗布するステップであって、被覆用組成物は水、水溶性フィルム形成用重合体、濡れ剤、および揺変性添加剤を含むステップ；水系組成物を脱水させ、および／または重合体を架橋させて犠牲バリアー被覆物を形成させるステップ；汚染物質をバリアー被覆物上に堆積させるステップ；および基材からバリアー被覆物の少なくとも一部と汚染物質とを取り除くステップを含む。 （もっと読む）

ドレン詰まり除去装置は、ドレン洗浄用組成物を保持するように構成された容器と、容器と流体連通する送出路を画定するシャフトとを含む。いくつかの実施形態において、シャフトは、詰まり形成物質と機械的に噛み合い、ドレン管から詰まり形成物質を除去するための突起部を含む。別の実施形態では、シャフトは、格納のための収納位置と使用のための延出位置の間を移動するように、容器に摺動可能に結合されている。
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【課題】基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ＳＰＭノズル５からウエハＷの表面にＳＰＭが供給される。また、ＳＰＭの供給終了後は、超音波振動が付与された約２００℃の硫酸が超音波硫酸ノズル６からウエハＷの表面に供給される。ウエハＷの表面にＳＰＭが供給されると、硬化層に形成された多数の微細孔を通って、ＳＰＭが硬化層の内部に浸透する。硬化層の内側の生レジスト（未硬化のレジスト）が除去され、ウエハＷの表面には、空洞化した硬化層だけが残存する。超音波振動が付与された硫酸がウエハＷの表面に供給されると、超音波振動の物理的なエネルギーによって、ウエハＷの表面上に残存するレジストの硬化層は、粉砕されて、ウエハＷの表面から除去される。 （もっと読む）

【課題】
ロールブラシ洗浄時のブラシ屑あるいは除去異物を含んだ洗浄液が基板表面に滞留して、再付着することを抑制し、洗浄性を向上させる。
【解決手段】
基板を搬送しながら、回転するロールブラシを前記基板面に接触させて洗浄する方法において、前記ロールブラシで洗浄した基板表面を、ブラシの軸と平行な液流で洗浄することにより、基板上に滞留している異物を含んだ洗浄液を速やかに基板の外に排出し、再付着を防止する。 （もっと読む）