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Fターム[3C043DD05]の内容

円筒・平面研削 (5,214) | 構造 (1,151) | 工作物支持機構 (394)

Fターム[3C043DD05]に分類される特許

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【課題】 円筒状インゴットの四側面剥ぎスライシング装置と四角柱状インゴットの四隅Rコーナー部と四側面の研削面取り加工装置をインライン化して複合面取り加工機に設計する際、一方の装置で面取り加工しているときに他方の装置でもインゴット面取り加工できる装置の提供。
【解決手段】 インゴットのクランプ機構を一対7,7’用い、かつ、スライシングステージ90と研削面取り加工ステージ11間を結ぶライン上にインゴットの受け渡しステージ80を新たに設け、インゴットのローディングステージ8Rとアンローディングステージ8Lをそれぞれ前記クランプ機構待機位置70と60の正面前側に設けた複合面取り加工装置1。 (もっと読む)


【課題】基板の研削を簡易な方法で行なう。
【解決手段】外表面および内部に連通した空隙を含み弾性力を有する平板状の基板保持部800の一方の主表面上に基板100を載置する工程と、基板保持部800の他方の主表面側から脱気することにより、基板保持部800の一方の主表面を基板100の表面形状に沿うように変形させた状態で、基板100を基板保持部800を介して真空吸着して固定する工程とを備える。また、基板100が基板保持部800を介して固定された状態で、基板100の基板保持部800と接している主表面120とは反対側の主表面110を研削する工程と、上記研削する工程の後、真空吸着を解除する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板製造の歩留まりを向上可能なワークキャリアを提供する。
【解決手段】本発明を例示する態様は、上下対向して相対回転される上定盤と下定盤との間に挟持されて研磨される板状のガラス基板Wを保持するガラス研磨用のワークキャリアである。このワークキャリア50は、ガラス基板Wが収容されるワーク保持孔の内壁面53に、ガラス基板Wの側面と内壁面53との当接を防止しつつガラス基板Wをワーク保持孔内に保持するワーク保持片55を備え、このワーク保持片55が超高分子量ポリエチレンにより形成される。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルタ基板の研磨時に、膜厚(色度)に面内分布が生じた際、処理基板にかかる荷重を局所的に変更することで、研磨処理における膜厚(色度)バラツキを軽減でき、過研磨部と研磨不足の部分の発生を抑え、ワーク表面の均一性を出し、製品収率の向上が可能なカラーフィルタ基板研磨機及び研磨方法を提供する。
【解決手段】テンプレート7にはマグネットプレートが具備されており、テンプレート7はマグネットプレートの磁気により平盤研磨機の上定盤3に着脱可能に保持され、選択された領域のマグネットプレートの厚みを調整することでテンプレート7の板厚を所定の厚み分布に調整する。 (もっと読む)


【課題】縦長のワークについて、ワーク高さを均一に加工するとともに、その一平坦面を中凸面形状に研削加工することができる片面研削技術を提供する。
【解決手段】回転する砥石車1の平坦な研削砥石面1aと、砥石車1に対向して固定的に配置した押えガイド2の研削案内面2aとから形成された研削部GPに、ワークWを通し送りしながらその底面Wbを片面研削する。押えガイド2の研削案内面2aは、ワークWの研削代分hを研削する研削砥石面1aの部位に対向して配置される切込み傾斜案内面5と、切込み傾斜案内面5に連続して設けられる研削砥石面1aと平行な平坦案内面6と、平坦案内面6に連続して設けられる切込み傾斜案内面5と逆の傾斜とされた逃し傾斜案内面7とを備えてなる。 (もっと読む)


【課題】研磨装置のメンテナンス周期を延ばすことができるとともに、装置を大型化すること無くメンテナンス作業者への負担を軽減する。
【解決手段】基台11の長手方向一側にワーク供給テーブル20を設け、基台11の長手方向他側かつ基台11の短手方向外側にワーク研磨機構30を設け、基台11の長手方向他側に研磨ゴミ受け17を設け、基台11の上方に当該基台11から所定の間隔をもってワーク懸垂梁14とレール41とを設け、レール41に移動自在に角柱状シリコンインゴットWKを懸垂支持して角柱状シリコンインゴットWKをワーク供給テーブル20とワーク研磨機構30との間で移動させるワーク移動機構40を設けた。 (もっと読む)


【課題】 調整砥石の位置変更操作と連動させて調整砥石側のガイドプレートの大まかな位置調整ができるようにして、スルーフィード研削の作業効率を高めたセンタレス研削盤を提供する。
【解決手段】 機台1上に研削台2を介して研削砥石3を支持させた研削車台4と調整砥石5を支持させた調整車台6を相対設してあり、前記研削台2に下端部を揺動自在に枢着した前記調整砥石5側のガイドプレート取付けアーム12B,13Bの上下方向の中間部に、上端部を第一連結ピン18,18´で回動自在に接続した連結片19,19´の下端部を、前記研削台2に対して進退自在の前記調整車台6に第二連結ピン20,20´で回動自在に接続する。そして、前記ガイドプレート取付けアーム12B,13Bの上端部に、ガイド面8´B,9´Bが前記調整砥石5の周側面5aと同面上に位置する工作物Wのガイドプレート8B,9Bを設ける。 (もっと読む)


【課題】 磨耗した研削砥石でワークを研削加工しても所望寸法の加工ワークが得られるように、砥石の研削開始点位置を補正する方法の提供。
【解決手段】 ワークを主軸台7aとタッチセンサー7tを備える心押台7bとよりなるクランプ装置7で挟持し、このクランプ装置に挟持されたインゴットブロックを砥石10gにより円筒研削加工または面取り加工するにおいて、砥石の磨耗量に応じて研削砥石軸の前進移動を行って砥石を研削開始点位置まで移動させる砥石の研削開始点位置補正方法。 (もっと読む)


【課題】 ウエーハの破損を抑制可能なリチウムタンタレイト又はリチウムナイオベイトからなるウエーハの研削方法を提供することである。
【解決手段】 表面に複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを備えたリチウムナイオベイト又はリチウムタンタレイトからなるウエーハを研削する研削方法であって、ウエーハの表面に保護テープを貼着する貼着ステップと、該保護テープが貼着されたウエーハの表面を該保護テープを介してチャックテーブルで保持する保持ステップと、該チャックテーブルで保持されたウエーハの裏面に、研削砥石がウエーハの回転中心を通過し且つ該研削砥石の外周縁が該デバイス領域の外周を通過する外径を有する研削ホイールを回転させつつ当接させて、該デバイス領域に対応するウエーハの裏面を研削して円形凹部を形成するとともに、該円形凹部の外周側に該外周余剰領域を含む環状凸部を形成する研削ステップと、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】円盤状基板の外周端面の研磨を行なう工程と内周端面の研磨を行なう工程とで共通のスペーサを使用することができ、円盤状基板の生産性を向上させることができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板10の間にスペーサ110を介在させて積層する積層工程と、ガラス基板10の内周端面を研磨する内周研磨工程と、内周研磨工程の後に積層状態を維持したままガラス基板10の外周端面を研磨する外周研磨工程と、を有し、スペーサ110は、ガラス基板10の外径半径をR1、内径半径をR2、外径チャンファ長をCout、内径チャンファ長をCin、スペーサ110の外径半径をr1、内径半径をr2、とすると、r2>R2+Cin…(1)r1<R1−Cout…(2)r1+r2<R1+R2−Cout…(3)であることを特徴とするガラス基板10の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ワークの芯出しを極めて短時間に行なうことができるようにしたチャック装置を提供する。
【解決手段】円筒部2の開口端部内にマグネットチャック3を取り付ける。マグネットチャック3に吸着支持される円筒状ワークWの内径面を挟持する内径挟持アーム8およびワークWの外径面を挟持する外径挟持アーム9を有し、後端部において一体化された複数のチャックアーム7を、周方向に間隔をおいて設け、それぞれの後端部を揺動自在に支持する。主軸1の軸心上にバー挿入孔5を形成し、ドローバー6の前後動によりリンク機構11を介して半径方向に揺動させ、半径方向内方への揺動時に外径挟持アーム9でワークWの外径面を挟持してワークWを芯出し、また、半径方向外方への揺動時に内径挟持アーム8でワークWの内径面を挟持してワークWを芯出し、チャックアーム7の挟持力とマグネットチャック3の吸着力とによって、ワークWの固定時の安定化を図る。 (もっと読む)


【課題】 ころのクラウニング加工やクラウニング超仕上げ加工に適用され、加工時間の短縮を図り、量産に適用できると共に、微小な曲率のクラウニングや対数曲線形状のクラウニング加工に対応することができる加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】 加工装置は、それぞれ螺旋状に続く案内ねじ面4,4を外周を有し中心軸L1,L2回りに回転駆動される2本のフィードドラム1,2を平行に設置し、フィードドラム1,2は、互いに対向する案内ねじ面4,4にころWを転接させて回転により両フィードドラム1,2間にころWを通過させるものであり、フィードドラム1、2間を通過するころWのクラウニング部を加工する砥石を備える。フィードドラム1,2の案内ねじ面4は、ころWの外周面を同ころWの前後2箇所で支持するように軸方向に並ぶ2つの分割ねじ面部4a,4bに分割されている。 (もっと読む)


【課題】研削時の研削力によってズレ動きが生じたり、変形が生じたりすることなくワークを安定よく保持することができるようにした研削装置におけるワーク保持装置を提供することである。
【解決手段】主軸1の先端にマグネットチャック2を介してドライブプレート3を取付け、そのドライブプレート3に形成された円筒部4の先端のワーク吸着面5によりワークWを吸着支持する。円筒部4の内側にピンブロック7を周方向に間隔をおいて設け、それぞれのピンブロック7に形成されたピン孔11に保持ピン12を出没自在に組込む。保持ピン12の下方に形成された加圧室11bに圧縮エアを供給して保持ピン12を上方に移動させ、ピン孔11から外方に突出する保持ピン12の先端部をワークWの内径面の端部に形成された面取りcに当接させて、ワークWの内径部を保持し、その保持状態でワークWの内径面あるいは外径面の研削加工を行うようにする。 (もっと読む)


【課題】平面度、平行度の良好なガラス薄板を、生産能率を低下させることなく製造することができるガラス薄板の製造方法を提供すること。
【解決手段】剛性基板の両面にそれぞれ吸着パッドを貼設して成るダミー板5を準備する準備工程と、ダミー板5の両面の吸着パッドにそれぞれガラス板6を吸着させて取り付ける取付け工程と、ダミー板5に取り付けた一対のガラス板6を、キャリヤ7のワーク保持孔71内で保持して両面研磨機の上定盤1と下定盤2との間に挟み、上定盤1及び下定盤2と一対のガラス板6とを相対移動させて各ガラス板6の定盤側の片面61を研磨する研磨工程と、片面を研磨した一対のガラス板6をダミー板5から取り外して一対のガラス薄板を得る取外し工程と、からガラス薄板の製造方法を構成した。 (もっと読む)


【課題】吸引保持パッドの吸着面とチャックテーブルの保持面との平行度が許容範囲であるか否かを容易に確認することができる平行度確認治具を提供する。
【解決手段】被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、下面に被加工物を吸引保持する吸着面を有する吸引保持パッドを備えチャックテーブルに被加工物を搬入または搬出する搬送手段とを具備する加工装置における、吸引保持パッドの吸着面とチャックテーブルの保持面との平行度を確認する平行度確認治具あって、第1の厚みを有する第1の厚み確認部と第2の厚みを有する第2の厚み確認部とを具備し、第1の厚み確認部の第1の厚みは該吸引保持パッドを基準待機位置に位置付けた状態においてチャックテーブルの保持面と吸引保持パッドの吸着面との基準間隔に設定されており、第2の厚み確認部の第2の厚みは第1の厚みより僅かに厚い許容できる平行度の上限値に設定されている。 (もっと読む)


【課題】 バンプが形成されたウエーハでも加工品質の悪化を防止し、平坦化を可能とするウエーハの加工方法を提供することである。
【解決手段】 複数のバンプが形成されたバンプ形成領域と該バンプ形成領域を囲繞する外周バンプ未形成領域とを表面に有するウエーハの裏面を研削又は研磨するウエーハの加工方法であって、該バンプの高さと実質上同じ深さを有する該複数のバンプを収容する円形凹部と、該外周バンプ未形成領域に対応して該円形凹部を囲繞するように形成された環状凸部とを有する保護部材を準備する準備ステップと、該複数のバンプを該保護部材の該円形凹部内に収容するとともに、該保護部材の該環状凸部をウエーハ表面の該外周バンプ未形成領域に貼着してウエーハの該バンプを保護するバンプ保護ステップと、該保護部材が貼着されたウエーハの該保護部材側をチャックテーブルで保持してウエーハの裏面を研削手段又は研磨手段で加工する加工ステップと、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】キャリアを小径化せずにピンの端面の曲率半径(R2)をさらに小さくすることができる動力伝達チェーン用ピンの研削装置及び研削方法を提供する。
【解決手段】中心軸3z周りに回転する回転体であって、外周近傍にピン1の両端面1aを研削する一対の砥面3bを有する砥石3と、中心軸3zと平行な中心軸2z周りに回転する回転体であって、ピン1を、中心軸3zに平行な姿勢で保持するキャリア2とを有する研削装置を用いてピンの研削を行う場合において、一対の砥面3b間にキャリア2によりピン1を挿入して通過させるとき、最深位置の前位置ではキャリア2の中心軸2zを砥石3の中心軸3zに変位量Δxだけ近づけ、最深位置では中心軸2zを元に戻して中心軸3zから遠ざけ、そして、最深位置の後位置では再び中心軸2zを中心軸3zにΔxだけ近づける、という進退動作をキャリア2が実行する。 (もっと読む)


【課題】歩留まりに優れた半導体装置を製造する半導体製造装置および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造装置は、ウェハ100の載置領域が設けられている枠体102と、上面視において、載置領域の外側かつ載置領域の周縁部に沿って枠体102に設けられており、研削屑または研磨屑を吸引する吸引部(吸引孔104)と、ウェハ100の上面を吸引する輸送チャックと、を備える。 (もっと読む)


【課題】圧縮コイルばねのコイル長を従来より容易に一定値に集束させることが可能なばね研削装置及びばね研削方法を提供する。
【解決手段】本発明のばね研削装置10では、検出コイル長Hが、上限値Ha未満かつ規定中間値Hbより大きい場合は、砥石昇降用モータ14A,14Bにより特定補正量Jだけ砥石端面間距離Lが狭められると共に、検出コイル長Hが、規定中間値Hb未満である場合は、砥石端面間距離Lの現状が維持される。つまり、検出コイル長Hの増量分が一定の基準量(特定補正量J)に到達するまでは現状を維持する一方、到達したらその基準量に略等しい増量分を0にリセットするように砥石端面間距離Lを補正し、その補正方向は砥石端面間距離Lを狭くする方向のみとなる。これにより、ワーク90のコイル長を従来より容易に一定値に集束させることが可能になる。 (もっと読む)


【課題】ディスクの加工を精度良く行うことができると共に、ディスクを量産できるトロイダル型無段変速機のディスクの研磨装置および研磨方法を提供すること。
【解決手段】第1ディスク10の被研磨軌道面41と、第2ディスク11の被研磨軌道面42との間に第1砥石1を挟持した状態で、第1ディスク10と第2ディスク11とを同時で回転させて、第1ディスク10の被研磨軌道面41と、第2ディスク11の被研磨軌道面42とを同時に研磨する。 (もっと読む)


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