【課題】研磨装置により円盤状基板の研磨を行う際に、研磨時間を抑制しつつ、特にエッジロールオフ（端ダレ）を抑え、円盤状基板をより均等に研磨することができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削する研削工程と、研削工程を経たガラス基板を研磨する研磨工程と、を有し、研磨工程は、ガラス基板の主表面に対する研磨の圧力を最大圧力まで単調増加させた後にこの最大圧力に留めることなく徐々に低下させると共に、研磨開始から研磨の圧力が最大圧力に達するまでの時間を研磨の圧力が最大圧力に達してから研磨終了までの時間より短くなるように設定することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】円盤状基板の外周研磨を行なう工程を別途設ける必要がない、または別途設ける必要がある場合でもその研磨時間を短縮でき、円盤状基板の生産性を向上させることができると共に円盤状基板の製造費用を低減させることができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削する研削工程と、ガラス基板の少なくとも外周端面を研削する端面研削工程と、研削工程および端面研削工程を経たガラス基板の主表面および外周端面を共に研磨する研磨工程と、を有し、研磨工程は、孔部３４と孔部３４の内周端面にガラス基板の外周端面を研磨するブラシ部３６とを有する保持具３０Ｂの孔部３４にガラス基板を保持して研磨を行なうことを特徴とする円盤状基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ドリルへのやすり押し付け圧力や加工中のやすりの姿勢を安定させて、安定した加工精度のホーニング加工を実現する。
【解決手段】直動ガイド１１にスライドプレート１３およびスライドホルダー１４を固定し、ピン１６を支点として揺動自在な状態でスイングアーム１５をスライドホルダー１４に装着し、スイングアーム１５の一端側にバランスウエート１８を装着し、スイングアーム１５の他端側にやすり２１を装着する。そして、一方の手でスライドホルダー１４等を往復動させ、また、他方の手でドリル６を適正な位置に移動させたり回転させたりして、ホーニング加工を行う。 （もっと読む）

【課題】受止部材の構成に改良を加えると共に、位置決めの基準となる要素を適切なものとし、もってガラス基板の位置決め精度の向上を図る。
【解決手段】ガラス基板２の一辺２ａ（２ｃ）に当接可能な受止部材３と、その一辺２ａ（２ｃ）と平行な他辺２ｂ（２ｄ）に当接可能とされ且つガラス基板２を受止部材３の側に押動させる押付部材４とを備え、受止部材３を、押付部材４によるガラス基板２の押動に追従してその押動方向に移動可能となるように弾性支持すると共に、受止部材３に、その弾性支持による移動可能な状態を維持してガラス基板２の一辺２ａ（２ｃ）を当接させた状態で、押付部材４による押動時におけるガラス基板２の他辺２ｂ（２ｄ）から一辺２ａ（２ｃ）に向かう方向の変位量を基準として、ガラス基板２の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】管状の研磨工具を回転させ、被加工物に圧接して研磨液を吐出しながら研磨する研磨装置において、吐出する研磨液の圧力が変化して研磨除去量が不正確となるのを防ぐ。
【解決手段】研磨液を吐出しながら被加工物２０を研磨する管状の研磨工具１は、隙間９をもってハウジング１０の穴に嵌挿され、回転モーター５によって回転駆動される。研磨液は、ハウジング１０の穴と研磨工具１の間の隙間９に供給され、管状穴７を介して被加工部２１に吐出される。ハウジング１０の穴の側面に設けられた溝である研磨液調整部位１１ａは、研磨液調整圧力計１８を有する流路を経て研磨液調整ポンプ１６に接続され、隙間９に満たされた研磨液の圧力を一定に保つ。 （もっと読む）

【課題】研磨ブラシの偏磨耗の進行を抑制して研磨ブラシの寿命を延ばすことにより、長期間にわたって金属リングに高精度な研削加工を施すことができる金属リングのブラシ研削方法及びその装置を提供する。
【解決手段】金属リングＷを保持する複数のリング保持手段５を回転させて金属リングＷをその周方向に回転させ、研磨ブラシ２を回転している金属リングＷの回転軌道を横切るように移動させて金属リングＷの端縁を研削する。少なくとも一つのリング保持手段５に、金属リングＷと同径の周壁部７ａと板面部７ｂとを備えてそれらの外面に砥粒が設けられたドレッシング部材７を金属リングＷに替えて保持させる。研削時に同時にドレッシング部材７により研磨ブラシ２の毛先を整える。 （もっと読む）

【課題】シリコンブロックの連続回転、加工帯体の循回移送及びシリコンブロック又は加工帯体のシリコンブロックの回転軸線方向の移動の複合作用によってシリコンブロックの四つの角縁部を連続して、研削又は研磨加工してＲ面又はＣ面に面取加工を行うことができる。
【解決手段】シリコンブロックＷの角縁部Ｗ_１をＲ面又はＣ面に面取加工する装置であって、シリコンブロックを保持して連続回転させる保持回転部Ａと、シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う無端帯状の加工帯体Ｔをシリコンブロックの回転軸線Ｏに直交する方向Ｎに循回移送させる加工ヘッド部Ｂと、加工帯体をシリコンブロックの角縁部に圧接させる圧接機構部Ｃと、保持回転部又は加工ヘッド部をシリコンブロックの回転軸線方向に移動させる移動機構部Ｄとを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】単結晶材料の使用状態においても、所望の平滑精度を確保する。
【解決手段】結晶の構造相転移を有する単結晶材料を研磨する結晶材料の研磨方法であって、単結晶材料を用いて作製した素子の使用温度領域が単結晶材料の相転移温度より高く、素子を作製する温度領域が単結晶材料の相転移温度より低い場合に、使用温度領域において単結晶材料が発現する結晶構造と同一の結晶構造を発現した状態で、単結晶材料の表面の研磨を行う。単結晶材料を固定する治具と単結晶材料を研磨する研磨盤を固定する治具の少なくとも一方の温度を調整し、単結晶材料を使用温度領域に設定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨するガラス基板の研磨方法、および該研磨方法を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの両面研磨装置の上定盤の内周端側で測定した表面温度ｔｐ１と外周端側で測定した表面温度ｔｐ２との差Δｔｐ（ｔｐ１−ｔｐ２）の絶対値が３℃以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】シリコンインゴットの角部の面取りの幅を従来のシリコンインゴット面取り装置に比較して能率良く一定にできるシリコンインゴット面取り装置を提供する。
【解決手段】一対のガイドローラ装置１８，２０をそれぞれ一対の側面２２ａ，２２ｂ上に当接させた状態で一対のガイドローラ装置１８，２０をその一対の側面２２ａ，２２ｂに沿ってシリコンインゴット２２の長手方向に移動させると、研削布紙１２はシリコンインゴット２２の角部２２ｃの断面において研削布紙１２の下面１２ａの位置と角部２２ｃの先端の位置とが位置決めされながら研削布紙１２の下面１２ａによって略一定の研削高さＨで角部２２ｃを研削してシリコンインゴット２２の長手方向に案内されるので、シリコンインゴット２２の角部２２ｃを研削高さＨだけ研削しその研削により形成された角部２２ｃの面取りの幅Ｍが従来のシリコンインゴット面取り装置に比較して能率良く一定にされる。 （もっと読む）

【課題】 従来提案されている、マシニングセンタ−、ホ−ニングマシ−ン、ボアフィニッシングマシン等で工具の回転数並びに送り速度を変えても、途中に横穴、若しくは横溝がある深穴の、真円度１μ、円筒度１μと言う高い加工精度は得られなかった。
【解決手段】 途中に複数個の横穴、若しくは横溝があり、直径が３．０〜５０ｍｍで、深さ１００ｍｍ〜３００ｍｍの深穴を、加振装置を備えたマシニングセンタ−、ホ−ニングマシ−ン、ボアフィニッシングマシン等で精密加工する加工装置に於いて、上記ホ−ニングマシ−ン等のＮＣ操作部に複数個の横穴若しくは横溝を持つ深穴の横穴若しくは横溝間寸法に合わせ、選定される選定要因を上記加工装置に加工条件として入力することが出来るようにした精密加工装置。 （もっと読む）

【課題】本発明はガラス基板積層体を保持する作業を効率良く行えると共に、ガラス基板積層体の研磨を高精度に行えることを課題とする。
【解決手段】ワークホルダ１０は、下枠部２０と、上枠部３０と、側枠部４０とを一体に結合させたホルダ本体５０を有する。下枠部２０と、上枠部３０と、側枠部４０とは、夫々ステンレス等の金属により形成されており、溶接により一体化される。下枠部２０及び／又は上枠部３０の機械加工は、溶接終了後に行う。また、ホルダ本体５０の上部には、上側保持部６０と、位置決め部７０とが設けられている。上側保持部６０は、ホルダ本体５０の上枠部３０に取付けられ、ホルダ本体５０内に収納されたガラス基板積層体を保持する。位置決め部７０は、上側保持部６０に取り付けられると共に、センタリングシャフトの上端を保持する。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、Ｒａの小さい情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に使われるコロイダルシリカスラリーにおいて、コロイダルシリカ砥粒が、ＢＥＴ比表面測定法により求められるＢＥＴ粒子径が４０ｎｍ以下であり、ＢＥＴ粒子径（ｎｍ）／円形度で表される平滑度指数が５０ｎｍ以下であるコロイダルシリカスラリー、及び前記コロイダルシリカスラリーを用いて製造された情報記録媒体用ガラス基板、並びに前記情報記録媒体用ガラス基板の主表面に磁気記録層が設けられた磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】例えば、半導体層の外周部全体を研磨除去し、更にシリコン基板のエッジ部を所定深さまで研磨除去してＳＯＩ基板等の貼合せウェーハを製造する時にあっても、半導体層がシリコン基板から剥がれることがない、良好な研磨プロファイルが得られるようにする。
【解決手段】回転中の基板Ｗのエッジ部の研磨開始位置の直上方位置に研磨ヘッド２を位置させ、研磨ヘッド２を下降させて回転中の基板のエッジ部の研磨開始位置に研磨ヘッド２の研磨具１０を所定の押圧力で接触させ、所定時間経過後に、研磨具１０を回転中の基板のエッジ部に前記所定の押圧力で接触させたまま研磨ヘッド２を基板の外周端部に向けて移動させる。 （もっと読む）

【課題】遊離研磨スラリに関連した不都合さを示さないで、短時間の高速ストック除去を提供する。
【解決手段】（ａ）研磨物品１０の研削層とガラスワークピース表面とを接触させるステップであって、研削層が複数の研磨複合材１１を含み、複合材１１が有機樹脂と、アルカリ金属塩とアルカリ性金属塩およびそれらの組合せから選択された金属塩と、この研磨複合材１１全体にわたって均質に分散された単一のダイヤモンド研磨粒子とを含む、ステップと、（ｂ）研磨物品１０の研削層とガラスワークピース表面との間に潤滑剤を導入するステップと、（ｃ）研磨物品１０の研削層とガラスワークピース表面とを相対移動するステップとを含む、ガラスワークピース表面を研削する方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】 第１溝と第２溝とを有するワークに対して互いに対応した高精度の超仕上げ加工を連続してスムーズになし得るようにする。
【解決手段】 アンギュラの方向が互いに異なる第１溝と第２溝とを有するワークＷを駆動装置に装着し、ワークＷを駆動しながら第１溝に超仕上げ砥石を前進して押し当てかつオシレーションしてその後に後退させる第１溝仕上げ工程と、ワークＷを駆動しながら第２溝に超仕上げ砥石を前進して押し当てかつオシレーションしてその後に後退させる第２溝仕上げ工程との間に、砥石ホルダの傾斜角度が第１溝から第２溝に適合するように揺動リンクを角度変更する角度変更工程と、超仕上げ砥石を第１溝から第２溝に対向するようにリンク部材と平行な方向に移動する溝変更工程とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】複数本の光ファイバの端面を容易かつ迅速に斜め研磨を行うことが可能な光ファイバ端面の研磨治具を提供する。
【解決手段】複数本の光ファイバ１の端部を保持して研磨するための治具に於て、複数本の光ファイバ１を挟圧保持する押圧プレート32と、受けブロック31と、を備え、押圧プレート32及び受けブロック31は、複数本のＶ字溝31ａ，32ａを有し、Ｖ字溝31ａ，32ａは、研磨状態で研磨面Ｋに接近する対向平面に対して所定の傾斜角度をもって形成されている。 （もっと読む）

【課題】ロータに形成するスリットの精度が高く、しかも、生産性の高いベーンポンプ用ロータの研削方法および研削装置を提供する。
【解決手段】ＮＣ加工機１０でロータＲを回転自在に支持する。レーザーデジタル測定機２０によりスリットの下溝Ｒ１の幅よりも広い帯状のレーザー２１を下溝Ｒ１に平行に照射する。該下溝Ｒ１を通過するレーザー２１の通過範囲を測定し、該レーザー２１の通過範囲がレーザー２１の帯状の中央位置になるよう下溝Ｒ１の溝幅の芯を割出す。ロータＲ全周の各下溝Ｒ１の芯を割出した夫々の角度をＮＣデータとして記憶する。該ＮＣデータに基づいて下溝Ｒ１の芯に対して左右同一の削り代でスリットを研削する。 （もっと読む）

【課題】 バラつきのない安定した面取りを行うことが可能な板材の面取り装置及びその面取り方法を提供する。
【解決手段】 砥石２と、砥石２を回転させる回転駆動手段３と、砥石２で面取する板材４を保持する保持手段５と、板材４を砥石２に向けて移動する移動手段７と、を備えた板材の面取り装置１において、保持手段５を移動可能に保持するベース部材６と、保持手段５を砥石２側に付勢する弾性手段８と、移動手段７によって板材４を基準位置に移動させて板材４を砥石２に接触させたことによって変位した保持手段５の変位量を検出する検出手段９と、保持手段５の変位を防止する固定手段１０と、を設け、変位量を考慮して板材４を砥石２に向けて移動させたものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、主平面の平滑性と端部形状に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、平均粒子直径が１００ｎｍ以下の砥粒を含有する研磨液を用いて、ガラス基板の両主平面を仕上げ研磨する仕上げ研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、同一ロット内で研磨されるガラス基板間の板厚偏差を１．５μｍ以下としてガラス基板の主平面を研磨する。 （もっと読む）