様々な実施形態は、規則的に間隔をおいて配置される細孔を有する微孔性の微粒子フィルタを製作するためのデバイスおよび方法を開示しており、そこでは、シート膜基板がマスクを通すことによって高エネルギー粒子の放射に曝露され、損傷した領域が適切な現像剤の中で除去される。必要とされる被写界深度は、回折を最小化するための高エネルギー粒子と、適切に小さな直径を有する高エネルギー粒子の供給源とを用いることによって達成される。
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基板表面上に第一の化合物をパターン付する工程、基板表面の非パターン付き領域を第二の化合物に曝露する工程、および第二の化合物を元のままに残しながら、第一の化合物を除去する工程を含む、リソグラフィおよびナノリソグラフィ法に関する。得られたホールパターンをテンプレートとして用いて、基板のパターン付き領域の化学的エッチングまたは基板のパターン付き領域上への金属付着のいずれかを行うことができる。

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【課題】歩留まりおよび消費電力が改善される。
【解決手段】支持基板層１１ａおよび中間層１１ｂが順に積層された底面部１１ｃと、底面部１１ｃ上に形成され、内壁にトーションバー１２を介してマイクロミラー１３が一体的に形成され、上面にスペーサ１４を備えるデバイス部１１ｄとを有するミラー基板１１と、一対の透明電極１６が、マイクロミラー１３の両端部もしくは両端部近傍にそれぞれ重なるように配置され、スペーサ１４を介してミラー基板１１と接合する上部ガラス基板１５と、により構成するようにした。 （もっと読む）

【課題】金属ガラス薄膜を構成要素とする、新規なマイクロマシン及びそれを用いたセンサ並びにマイクロマシンの製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロマシン１は、基板２と基板２に配置される金属ガラス薄膜３とを備えている。金属ガラス薄膜３は、基板の開口部２Ａ上に配置してもよいし、金属ガラス薄膜３は基板に配置されているカンチレバーであってもよい。好ましくは、基板２はＳｉからなり、金属ガラス薄膜３は、Ｚｒ−Ａｌ−Ｃｕ−Ｎｉ系又はＰｔ−Ｐｔ−Ｂ−Ｚｒ系の材料からなる。 （もっと読む）

【課題】従来のバイオチップ内で使用される磁気ツールは金属製であり、機械加工の限界より精密形状のマイクロ磁気ツールの作成は困難であり、また磁気ツールに柔軟性をもたせることは困難であった。
【解決手段】本発明は硬化性樹脂と磁性微粒子を混合し、リソグラフィー技術で微細加工された型に流して固めることにより、多様な形状をマイクロスケールで量産することが可能になった。この技術により磁気駆動の回転子、併進運動を行うバルブ、細胞などの微粒子の送り出し機構など多岐な形状・機能を持つマイクロスケールの磁気ツールやマイクロ磁気アクチュエーターが製作可能になる。この磁気ツールは樹脂の特性、種類や混合濃度変化で柔軟性をもたせることが可能であり、硬さを変えることが可能である。また表面コーティング処理を行うことで、硬化性樹脂もしくはガラスもしくはプラスチック製流路内において、磁気ツールが流路などに付着することを防止することが可能である。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳ構造体と半導体基板との間の寄生容量を低減させるＭＥＭＳデバイスを提供する。
【解決手段】半導体基板１０上に絶縁層を介して形成された固定電極２０と可動電極２６とを有するＭＥＭＳ構造体３０が備えられたＭＥＭＳデバイス１であって、固定電極２０の下方の半導体基板１０にウェル１３が形成されており、固定電極２０に正の電圧が印加されウェル１３がｐ型ウェルである。そして、ウェル１３が空乏状態となるようにウェル１３には電圧が印加されている。この電圧はウェル１３が空乏状態を維持する電圧となっている。 （もっと読む）

【課題】大量生産に適し、側面が滑らかなテーパ角を有し、針状体の先端部を先鋭化した形状であっても製造可能な針状体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基材にネガ型フォトレジストを塗布する工程と、前記ネガ型フォトレジストに、開口部を有するマスクを用いて、前記透明基材側から露光処理を行う工程と、を含み、前記開口部を有するマスクは、開口部を通過した通過光を前記ネガ型フォトレジストに集光させるマイクロレンズを有することを特徴とし、マイクロレンズの径および曲率を制御することにより、針状体の寸法および形状を制御することが出来る。 （もっと読む）

【課題】構造体の機械的な特性を保持しながら電気的な抵抗値を軽減し、優れた動作特性を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板４１上に形成されたシリコンからなる固定電極５０と、シリコン基板４１上に形成された窒化膜４３と隙間を設けて機械的に可動な状態で配置されたシリコンからなる可動電極６０と、可動電極６０の周囲に形成され且つ固定電極５０の一部を覆うように形成された第１層間絶縁膜５２、第１配線層６３、第２層間絶縁膜５３、第２配線層６４、および保護膜５９がこの順に積層された配線積層部と、を有している。可動電極６０は、タングステンまたはモリブデンなどの高融点金属によりシリサイド化されてシリサイド部分６５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】高い生産性を実現することのできるセンサの製造方法等を提供することを目的とする。
【解決手段】ディスク状の振動子と、振動子の外周部にギャップを隔てて配置された駆動電極、検出電極と、を備えたセンサの製造にあたり、振動子と駆動電極、検出電極とのギャップ部分を、電子線照射によりパターン形成する第一のパターン形成工程と、振動子と駆動電極、検出電極とのギャップ部分以外の部分を、ステッパによりパターン形成する第二のパターン形成工程と、を含むようにした。電子線照射によるパターン形成を行うためのアライメントマークＭは、活性Ｓｉ層５３を貫通することのないように形成し、ボックス層５２におけるチャージアップを防ぐようにした。 （もっと読む）

【課題】犠牲層の実現方法を提供する。
【解決手段】所定の容積を占めるリソグラフィされたレジストパターンを、所定のサイズ及び所定の形状を有する基板領域上に形成するための、基板上に堆積された樹脂のリソグラフィ段階と、前記リソグラフィされたレジストパターンの熱サイクルによるアニーリング段階とを含み、前記樹脂に応じて、前記基板領域のサイズ及び形状を決定する段階と、“ダブルエアギャップ”のプロファイルと平坦化ドーム型プロファイルとのいずれか一つから選択されたプロファイルを前記熱サイクルのアニーリングが提供するように、前記領域上に堆積される前記樹脂の量を決定する段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マイクロ構造を製造する方法を提供すること。
【解決手段】マイクロ構造を製造する方法であって、基板上に第１の構造部分を形成することと、該第１の構造部分上に犠牲材料を配置することと、該犠牲材料および該基板上に第１の構造材料の層を堆積させることと、該犠牲材料の少なくとも一部を除去して、第２の構造部分を該第１の構造材料の層に形成することであって、該第２の構造部分は、該基板に接続され、該第２の構造部分が該第１の構造部分から分離される第１の位置と、該第２の構造部分が該第１の構造部分と接触する第２の位置との間で移動可能である、ことと、該第２の構造部分の表面および該第１の構造部分の表面のうちの少なくとも１つにカーボン層を形成することによって、該第２の構造部分と該第１の構造部分との間のスティクションを減少させることとを包含する、方法。 （もっと読む）

【課題】非金属の変形自在の干渉型変調素子を製造する。
【解決手段】各変形自在素子は変形機構と光学的部分を有し、それぞれ制御された変形特性と制御された変調特性とを独立して素子に与える。変形自在の変調素子は非金属である。素子は、最終の共振器寸法と関係がある層厚を有している犠牲層と犠牲層をそれら間にてサンドウィッチする２つの層を形成し、化学薬品（例えば、水）を使い又はプラズマに基づいた処理を行い犠牲層を除去することによって形成される。各変調素子は引張応力下で保持される変形自在部分を有し、制御回路は変形された部分の変形を制御する。 （もっと読む）

【課題】 消費電力が最小でありながら早い動作、大きなバルブ力及び大きな変位利点があるマイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）のバルブ装置を提供する。
【解決手段】 開口７０が形成された基板２０と基板電極４０と開口７０の上に位置して電極素子層６２及びバイアス素子層６４、６６を有する可動膜６０とを含む。少なくとも１つの弾性的に圧縮可能な誘電体層５０を設け、基板電極４０と可動膜６０の電極素子層６２との間の電気的絶縁を確実にする。動作に当たっては、開口７０に対して可動膜６０を動かすように電圧差を基板電極４０と可動膜６０の電極素子層６２との間に設け、これにより、可動膜６０によってカバーされる開口７０の部分を制御可能に調整する。 （もっと読む）

【課題】超小型電気機械システム（MEMS）ジャイロを作成するシステムにおいて、ジャイロの歩留まりを高める。
【解決手段】テストシステム２０と製造システムからなるシステムにおいて、モータバイアスマップの生成と該モータバイアスマップに基づいてMEMSジャイロを生成することにより、ウェハ当たりの使用可能なMEMSジャイロの歩留まりを高めることができる。システムは、ウェハ上で深反応性イオンエッチャ２２用の最適モータバイアス経路を決定するように構成された要素を備えたプロセッサ３３、ウェハ上で各ジャイロに最も近いものと算出された最適モータバイアス経路に対応した向きに該ジャイロのパターンをインプリントするステッパ３５及びウェハにジャイロをエッチングする深反応性イオンエッチャ３７を含む。 （もっと読む）

【課題】微小機械装置に用いられる部材であって、可撓性を有し、応力緩和の小さい、引っ張り強度の高い弾性部材を提供する。
【解決手段】微小機械装置が静止部材２８及び可動部材２６を含み、これらが弾性部材２４によって一緒に接続されている。可動部材２６が反復的にそして頻繁に移動する為、弾性部材２４は永久的に撓み又は変形することがあり、その結果、装置の動作が不良になる。希望によっては窒素と組合せて、酸素を含むようにアルミニウム合金を形成して、荷重緩和特性を劇的に減少した被膜を得る。デポジッションの際、アルゴンのスパッタリング・ガスに酸素を添加し、アモルファス膜を作る。 （もっと読む）

本発明は、微小電気コンポーネント、微小機械コンポーネント、微小電気機械（ＭＥＭＳ）コンポーネント、又は微小流体コンポーネントを基板上にパッケージするための方法であって、容易に除去可能な第二基板上の架橋フォトレジストから作られた空洞を形成し、選択されたマイクロデバイスを含む第三基板に前記空洞を結合し、次に前記除去可能な第二基板を剥がすことによりパッケージする方法に関する。
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金属製基板上にフォトレジスト層を塗着して加熱し、マスクを通してその層をＵＶ照射に曝し、光硬化しなかった部分を溶解させることによって現像を行ってモールドを得、モールドの開口部分内に金属又は合金の第１の層を電着させ、機械加工によって金属構造及びモールドの平面出しを行って平坦な上側表面を得、上側表面全体に下地金属層を堆積させた後、ここまでのステップを繰り返す。モールドの開口部分内に金属又は合金の第２の層を電着させ、得られた多層金属構造及び硬化フォトレジストを層間剥離によって基板からはがし、フォトレジストを分離して多層金属構造を切り離し、下地金属層の、電着金属の２つの層の間に挟まれていない部分を除去する。
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本発明は、リソグラフィ工程時に入射光の進行方向及び透過度を調節する方法で、多様な傾斜及び形状を有するポリマー又はレジストパターン及びこれを利用した金属薄膜パターン、金属パターン、ポリマーモールド並びにこれらの形成方法に関する。
本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法は、基板上に所定の形状にポリマー又はレジストパターンを形成する方法において、（ａ）前記基板上に感光性ポリマー又はレジストを塗布して、ポリマー又はレジスト膜を形成するステップと、（ｂ）前記ポリマー又はレジスト膜上にフォトマスクを位置させて、露光部分を決定するステップと、（ｃ）露光される光の経路上に光調節膜を位置させるステップと、（ｄ）前記光調節膜を調節して、前記ポリマー又はレジスト膜に照射される光の進行方向及び透過度を調節するステップと、を含むことを特徴とする。本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法によれば、多様な傾斜及び形状の３次元構造のポリマー又はレジストパターン、金属薄膜パターン、金属パターン構造、ポリマーモールドを簡便に形成できる。
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本発明はサブミクロンのデカール転写リソグラフィの方法を提供する。この方法は、第１のシリコン含有エラストマー２００の表面内に第１のパターンを形成する段階と、第１のパターンの少なくとも一部分を基板２１０に接着する段階と、第１のシリコン含有エラストマー及び基板のうちの少なくとも１つの一部分をエッチング２２０する段階とを含む。
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メモリ装置は、区別可能な双安定状態を振幅変調下で呈するメカニカル素子を備える。これらの状態は、所定周波数の駆動信号の適用によって、動的に双安定性となるか多安定性となる。ヒステリシス効果に関連した素子の固有共振は、区別可能な複数の状態を特定の周波数範囲に亘って生じる。共通コンタクト上に設けられた異なる周波数範囲に対応する多様な素子を持つ複数の装置は、改良された密度で形成される。これらの装置は、起磁式、容量式、圧電式及び／又は光学式方法によって励起され、そして読み取られる。これらの装置は、平面方位付けされるか面外方位付けされて、３次元メモリ構造を可能にする。ＤＣバイアスが、周波数応答をシフトして、素子の状態を弁別するための代替法を可能にすることに使用される。 （もっと読む）