【課題】洗浄槽から引き上げた基板の下端部に液滴が残って不純物やパーティクル等が基板に残留するのを抑制することができる基板処理方法及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留し、該洗浄液に対して基板を浸漬することができる洗浄槽と、前記洗浄槽の上方に配置され、前記基板を収容可能な乾燥室と、複数の基板を直立に保持し、前記洗浄槽と前記乾燥室とを往復可能に設けられる基板保持搬送部と、前記乾燥室に設けられ、前記乾燥室内へ有機溶剤の蒸気を供給する第１の供給部と、前記基板保持搬送部により前記乾燥室において保持される前記基板の下端部に乾燥ガスを供給可能な第２の供給部とを備える基板処理装置により上記課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】フッ素系溶剤の噴射打力を利用してワークから付着水分を高効率・高精度に除去できるワーク水切り乾燥装置の提供。
【解決手段】水系洗浄剤により被洗浄物として洗浄された後のワークを載置すべく槽本体１３内に配置されるワーク載置台１５と、該ワーク載置台１５のワークベースに向けて少なくとも上方または斜め上方から気化温度以下にまで冷却されたフッ素系溶剤４６を噴射する上部噴射ノズル１８とを少なくとも備えてなる溶剤噴射水切り槽１２と、槽本体２３内に貯溜させたフッ素系溶剤５８の沸点温度にまで加温して該槽本体２３の上部空間３４内に発生させたベーパー層３７により、水切り後に持ち込まれたワークをベーパー洗浄・乾燥させるベーパー洗浄・乾燥槽３２とで少なくとも構成した。 （もっと読む）

【課題】炉の形状設計に関する自由度が高く、被加熱物が付着しにくい竪型炉を提供することを課題とする。また、品質がばらつきにくい製造物を提供することを課題とする。
【解決手段】竪型炉１は、粉状の被加熱物９０を加熱する加熱室２００を径方向内側に区画する側周壁２０と、側周壁２０に全体的に配置され、側周壁２０の内周面に被加熱物９０が付着するのを抑制するために、ガス９１を加熱室２００に送風する複数の送風孔２１と、を有する炉体２を備える。 （もっと読む）

【課題】排ガス中の余剰窒素を有効利用し、微粉炭機で石炭を乾燥するのに要するエネルギーを低減することができる石炭ガス化複合発電システムを提供する。
【解決手段】石炭供給設備２より供給された石炭をガス化して石炭ガス化ガスを生成する石炭ガス化炉３と、石炭ガス化ガスを燃焼して発電機の動力を得るガスタービン５と、ガスタービン５から排出された排ガスより酸素及び窒素を分離する空気分離装置８とを備え、石炭ガス化炉３に、排ガス中の二酸化炭素及び空気分離装置８の酸素がガス化剤として供給されるように構成し、空気分離装置８から分離された窒素を用いて石炭供給設備２の石炭を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】超臨界状態を実現するために必要な圧力よりも低い圧力環境下で、基板Ｗに設けられたパターンを倒壊させることなく基板Ｗを乾燥できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】乾燥処理ユニット３０は、主に、乾燥処理チャンバ３１、二酸化炭素供給機構３２、第１窒素供給機構３３、液体窒素供給機構３４、第２窒素供給機構４４、及び排出機構３５を備える。置換液であるＩＰＡ液で覆われた基板Ｗが乾燥処理チャンバ３１内に保持された状態で、液体二酸化炭素が基板Ｗの表面を覆う。乾燥処理チャンバ３１内が、液体窒素供給機構３４により冷却されることで液体二酸化炭素は固体二酸化炭素へと凝固する。そして排出機構３５により、乾燥処理チャンバ３１内を大気圧に戻すとともに、第１窒素供給機構３３が気体窒素を供給することで昇温され、基板Ｗ表面の液体は昇華する。 （もっと読む）

【課題】原料を高エネルギー効率で粉末とする粉末製造装置を提供する。
【解決手段】容器２１から粉砕機２２及び粉砕機２２から容器２１へ接続された管路を備え、容器２１と粉砕機２２間に流体の循環路を形成する第１循環路１０１と、容器２１から粉末回収装置３０、排気処理装置４０、循環気流温度調節器５０へ接続された管路と、循環気流温度調節器５０から容器２１へ接続された管路とを備え、容器２１と粉末回収装置３０と排気処理装置４０と循環気流温度調節器５０間に流体の循環路を形成する第２の循環路２０１との２重の流体の循環路を備え、第１循環路１０１で原料を循環気流とともに粉砕機２２と容器２１間を循環させて粉末化し、第２循環路２１０で、第１循環路１０１から循環気流とともに導かれた粉末を粉末回収装置３０で捕捉・回収し、循環気流の温度を循環気流温度調節器５０により調節して容器２１に導入して第２循環路２０１に循環させる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板への影響を低減しつつ良好な洗浄、乾燥処理を実行可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】基板処理装置２に設けられた洗浄槽２２１では、洗浄液供給部から洗浄液を供給しながら当該洗浄液に被処理基板Ｗを縦向きの状態で浸漬して洗浄が行われ、この洗浄槽２２１の上方領域と連通する乾燥室２１では、洗浄槽２２１から引き上げられた被処理基板Ｗの乾燥が行われる。そして、第１の乾燥ガス供給部及び第２の乾燥ガス供給部からは、洗浄後の被処理基板Ｗの上端が洗浄液の液面より上方に引き上げられた後、少なくとも被処理基板が晒される領域に、前記洗浄槽の上方領域から乾燥室内に至るまでの雰囲気に液体除去用の溶剤蒸気を含む第１の乾燥ガスと、前記溶剤蒸気を含まない第２の乾燥ガスとが交互に供給される。 （もっと読む）

【課題】チャンバを用いずに乾燥可能な乾燥用冶具とそれを用いた乾燥装置とその乾燥方法を提供する。
【解決手段】複数の被乾燥物内へ気体の供給及び排出を行う給排気部２ａおよび前記給排気部２ａに連接される給排気接続ポート端子２ｃを有する給排気機構部２と、複数の被乾燥物が載置される載置部３ａおよび前記給排気機構部２を取外し可能に支持する支持部３ｂを有する支持機構部３と、前記載置部３ａ上に前記被乾燥物の各々をそれぞれ挟むように設置され、且つ前記被乾燥物の対向面にそれぞれ接触する複数のヒータ４とを備える。 （もっと読む）

【課題】貯留槽を効率よく不活性ガス置換することができ、乾燥中に粉粒体が劣化することを防止することができる乾燥装置、および、その乾燥装置に用いられる不活性ガス置換方法を提供すること。
【解決手段】
粉粒体を貯留する貯留槽１１を備え、粉粒体をほぼ常圧で乾燥する乾燥装置１に、貯留槽１１を減圧するポンプ４１と、貯留槽１１に窒素ガスを供給する窒素発生装置２１とを備え、ポンプ４１により貯留槽１１を減圧し、窒素発生装置２１からの窒素ガスを貯留槽１１に供給する。 （もっと読む）

【課題】電極の乾燥時の劣化を防止することができ、しかも効率よく電極を乾燥させることが可能な電極乾燥装置を提供する。
【解決手段】本発明の電極乾燥装置２は、赤外光を照射する第１の光源２２ａと、赤外光を透過する平面状の第１の遮熱材２１ａと、第１ガスを冷却して冷却ガスを供給する第１ガス供給装置２６と、第２ガスを乾燥して乾燥ガスを供給する第２ガス供給装置２７と、第１の電極搬送領域と、を備える。第１の光源２２ａと第１の遮熱材２１ａの一方の面との間に冷却ガスが流入され、第１の遮熱材２１ａの他方の面上の第１の電極搬送領域に乾燥ガスが流入される。 （もっと読む）

【課題】 物品の加熱、冷却、乾燥などの環境処理を連続的に行う場合、物品を環境槽内に搬入搬出する際、ドアを開けると槽内の環境が大幅に変化し、又、新搬入物品が隣にある物品に環境条件の影響を与えてきた。
【解決手段】 環境槽内に連続的に物品を移動させる循環機構を設け、本機構の進行方向に直角に複数の仕切り板を設け、又、該環境槽のドア付き開口部の周辺に、該仕切り板に直角且つ非接触に蓋部を固定する。仕切り板の間に設けた物品収容部が、開口部の前に来た時循環を止め、ドアを開けて物品を搬入搬出する。
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【課題】スリットノズルを使用するスピンレス塗布法において塗布処理直後に行われる減圧乾燥処理の効率性の向上および処理時間の短縮化を実現するとともに、減圧乾燥処理後のレジスト塗布膜の膜質均一性を向上させる。
【解決手段】レジスト塗布ユニットで当該基板Ｇに対して右辺Ｇ_Rから左辺Ｇ_Lに向かって塗布走査する第２モードが選択されたときは、減圧乾燥ユニット（ＶＤ）５２では、減圧乾燥処理中に左側のガス噴出部１０２を選択的に作動させて右側のガス噴出部１０４を止めておくような気流制御が行われる。この場合、手前（左側）の排気ポート１００ａ，１００ｂの排気流路が閉められ、向かい側（右側）の排気ポート１００ｃ，１００ｄを通じてチャンバ内の排気が行われる。 （もっと読む）

【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上の塗布膜に対する減圧乾燥処理を急速に行うプロセスと緩慢に行うプロセスとの選択的な切り換えを可能とする。
【解決手段】この減圧乾燥ユニット１４において、気流制御部６０は、Ｙ方向において下部チャンバ２４の相対向する側壁２４(2)，２４(4)の内側でステージ３０の両側に配置される第１の仕切板６２Ａ，６２Ｂと、この第１の仕切板６２Ａ，６２Ｂを第１の高さ位置と第２の高さ位置との間で昇降移動させる第１の昇降機構６４とを有している。さらに、気流制御部６０は、ステージ３０の周囲または傍らに配置される横断面コ字状の第２の仕切板７６と、この第２の仕切板７６を第３の高さ位置と第４の高さ位置との間で昇降移動させる第２の昇降機構７８とを有している。 （もっと読む）

【課題】処理条件の異なる複数の被処理基板に対し、それぞれ処理液の乾燥時間を短縮し、且つ良好な膜形成を行うことのできる減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｇを収容し、処理空間を形成するチャンバ９，１０と、前記チャンバ内に設けられ、前記被処理基板を保持する保持部１１と、前記保持部を昇降移動させる第１の昇降手段２５と、前記保持部の下方に設けられた整流手段２０，２１と、前記整流手段を昇降移動させる第２の昇降手段２６と、前記チャンバ内に形成された排気口１３と、前記排気口からチャンバ内の雰囲気を排気する排気手段１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】大幅な希釈を伴わずに気相成分を輸送し捕捉するための方法および装置の提供。
【解決手段】装置１０ａは、基材１２と制御表面１５との間に制御間隙Ｇを画定するように、基材１２の表面１４に密に近接して位置決めされた制御表面１５を有する。気体導入デバイス２１を有する第１のチャンバ１７が、制御表面１５の近くに位置決めされる。気体取出しデバイス１８ａを有する第２のチャンバ１６ａが、制御表面１５の近くに位置決めされる。制御表面１５および第１および第２のチャンバ１７、１６ａは、協働して、気体のマスフローが制御される領域を画定し、気相成分の希釈を著しく低減する。これは、制御された気体ストリームＭ１’を導入し、それにより、システム内の圧力勾配によって、制御されない周囲気体ストリームのフローを低減することによって達成される。 （もっと読む）

【課題】減圧噴霧乾燥において酸化を抑制し、また食品粉末等の製造の効率化を図る。
【解決手段】噴霧ガスとして窒素等の不活性ガスを用い、不活性ガスと液体原料とを二流体ノズルにより減圧噴霧乾燥塔内に噴霧し、該減圧噴霧乾燥塔内で上記液体原料を乾燥させた粉末を得る。また減圧噴霧乾燥塔に対する減圧のための吸引系で吸引される不活性ガスを、噴霧ガスとして循環再利用する。 （もっと読む）

【課題】比較的大きな試料であっても、その外観形態が損傷されること無く、試料の凍結乾燥を行う。
【解決手段】水の過冷却状態および気化熱を活用する、機能的な試料凍結制御方法および当該制御方法を実現する凍結乾燥装置を提供する。さらに、当該凍結乾燥装置を応用する電子顕微鏡用試料作製装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】環境への悪影響が少なく、被乾燥対象物を効率よく乾燥させることが可能な乾燥方法と乾燥装置を提供する。
【解決手段】乾燥装置１における乾燥方法は、繊維構造体１００に水と界面活性剤とを加える第１の行程と、第１の行程の後に、繊維構造体１００を液体状態または超臨界状態の二酸化炭素に浸漬させる第２の行程と、第２の行程において繊維構造体１００を浸漬させた液体状態または超臨界状態の二酸化炭素を蒸発させる第３の行程とを行なう。 （もっと読む）

【課題】基板乾燥炉の中を連続的に基板を搬送する連続炉では、基板搬送手段、例えば、搬送ロール、チェーンベルト、ウォーキングビーム等によって、基板との接触面から基板の温度ムラを発生させるという問題がある。他にも、搬送手段からの発塵や大型基板のたわみ等の問題が発生する場合もある。
【解決手段】搬送手段３０は、基板５が搬送方向に移動可能に載置される載置部３２と、載置部３２上で基板５を搬送方向に移動させる移動手段３４とを含んで構成されている。載置部３２は、平坦な水平面上に自由回転可能に配置された多数の球体２１を含んで構成されている。移動手段３４として、軸心が上下方向に向けられ基板搬送経路の両サイドから基板５を端面にて挟み込む様な対になる搬送ローラー２ｄが用いられる。 （もっと読む）