【課題】計画した線量分布と実際の線量分布とを一致させ、患部内に均一な線量分布を得ることができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、照射対象の患部を粒子線ビームの軸方向に分割したスライスに対して、そのスライスに設定された所定の軌跡パターンに沿って粒子線ビームが走査されるよう、粒子線ビームの位置を２次元で順次指示するビーム走査指示部と、ビーム走査指示部からの指示信号に基づいて粒子線ビームを２次元で走査するビーム走査部と、を備え、ビーム走査指示部は、軌跡パターンを順方向に辿って走査した後、その軌跡パターンを逆方向に辿って走査するよう前記走査位置を指示する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

医療施設において使用するための患者支持デバイス。患者支持デバイスは、ベースと、ベースに結合されるテーブル・アセンブリとを備える。テーブル・アセンブリは、下側支持部と、下側支持部に結合され且つ下側支持部に対して移動可能な上側支持部とを備える。上側支持部および下側支持部の少なくとも一方は、上側支持部が下側支持部に対して移動する際の患者支持デバイスの性能を向上させることが可能なベアリング層を備える。
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放射線療法用治療システムの患者支持デバイスは、電気機械式モータと、Ｚ方向に支持デバイスを上下させるための制御システムとを備える。この制御システムは、再生型制動コンセプトを採用し、如何なる負荷であっても支持デバイスが一定の速度で下降されるように、支持デバイスが下降される際にモータを発電機へと変換する。また、電力オフ状態において（即ち、支持デバイスに対する電力がないとき）、制御システムにより支持デバイスを下降させることが可能となる。
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【課題】スポットスキャニング法による粒子線治療に好適な照射ビームが得られ、しかも、安価な粒子線治療システムを提供することにある。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成される。制御装置６００は、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する際に、出射装置２６に印加する高周波電磁場をＯＮし、照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断する際に、出射装置に印加する高周波電磁場をＯＦＦするとともに、ビーム輸送系３００あるいはシンクロトロン２００に設置した電磁石で荷電粒子ビームの供給を遮断し、さらに、出射装置２６に印加する高周波電磁場のＯＮからＯＦＦに同期して、加速空胴２５に印加する高周波加速電圧をＯＮからＯＦＦにする。 （もっと読む）

【課題】呼吸や脈拍などの生体活動による反復的な位置の変動に伴って照射領域が動いてしまう場合であっても、予め設定された形状および線量に基づいて正確な照射を行うことのできる、３次元スキャニング法を用いたスキャニング照射方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るスキャニング照射方法は、線量算出ステップＳ２と、差分線量算出ステップＳ３と、照射線量設定ステップＳ４と、を含み、所定の条件を満たすまで差分線量算出ステップＳ３および照射線量設定ステップＳ４を繰り返して行う。 （もっと読む）

【課題】積層原体照射において、照射線量分布を従来よりも均一化することが可能な積層原体照射システムを提供する。
【解決手段】加速器２ａで加速された粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッド４を備え、照射ヘッド４は、粒子線の偏向走査用のワブラ電磁石４２ａ，４２ｂを有し、照射制御手段５は、ワブラ電磁石４２ａ，４２ｂを励磁制御して粒子線を偏向走査して積層原体照射を行う際に、粒子線が始点から開始して始点に戻るような一筆書の周回軌道を描くようにワブラ電磁石４２ａ，４２ｂを励磁制御するとともに、照射ヘッド４から出力される粒子線の照射期間Ｔｂが、粒子線が周回軌道を一周するのに要するワブラ周期Ｔｗの整数倍になるように制御する。 （もっと読む）

【課題】 レンジシフターでの散乱による荷電粒子線のビーム径の増加を低減して、被照射体への空間的に精密な照射が可能な小さなビーム径の荷電粒子線を供給できるとともに、レンジシフターを患者から離れた位置に配置して、その移動音等による威圧感を無くすることができる粒子線照射装置及び粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 荷電粒子線のエネルギーを低下させる可変レンジシフター４と、可変レンジシフター４で低下した荷電粒子線のエネルギーに応じて励磁量が制御されて、可変レンジシフター４での散乱による前記荷電粒子線の発散を収束させる４極電磁石６と、荷電粒子線のビーム軌道を変化させるスキャニング電磁石８とを備えた。 （もっと読む）

【課題】製作の容易なリッジフィルタを有する荷電粒子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム照射装置は、荷電粒子ビーム発生装置と、照射野形成装置とを有する。照射野形成装置がビームのエネルギー分布を拡大するエネルギー分布拡大装置であるリッジフィルタ２４を有する。リッジフィルタ２４のリッジフィルタ要素３２は、ビームの上流側の面とビーム下流側の面において、共に階段状の構造を備える。そして、階段状の構造は、ビームの上流側の面と前記ビーム下流側の面において対称である。 （もっと読む）

【課題】粒子線照射期間中でも、多葉コリメータ形状を監視する粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 粒子線照射期間中に照射ヘッド１の多葉コリメータ形状を設定変更して積層原体照射を行い、多葉コリメータ１４に対向しその形状を監視する形状監視ミラー３２ａを有し、多葉コリメータ１４の下流のスノート部に着脱可能に装着された光学的形状監視ユニット３１、形状監視ミラー３２ａで反射した多葉コリメータ形状を撮影するビデオカメラ１５ａ、及び、多葉コリメータ形状を撮影するビデオカメラ１５ａの映像を表示する画像モニタ１７ａを備えた。 （もっと読む）

【解決手段】 本開示は、一般に垂直な患者支持面と、患者を患者支持面と固定された関係に確保するように配置された患者固定メカニズムと、患者支持面の一端に固定され患者支持面を一般に垂直な軸の回りに回転させ選択的に患者支持面を一般に垂直な軸に直交する面に対して少なくとも部分的に平行移動するように配置された回転プラットフォームと、撮影装置が固定ビーム照射源からの照射を遮断する第一のモードと撮影装置が固定ビーム照射源からの照射を可能にする第二のモードを示す撮影装置と、患者支持面と連通され、患者支持面を一般に垂直な軸に沿って搭載位置から照射位置まで平行移動するように配置された垂直平行移動メカニズムとを、有する照射治療装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、陽子ビーム等の粒子ビームを走査する走査電磁石の電源容量を大きくすることなく、患部に線量を均一に照射できる粒子線治療システムの照射装置を提供することにある。
【解決手段】
陽子ビームの１スピル（１回のビーム取出し時間）で標的領域（患部）に対して陽子ビームを一往復走査する際に、陽子ビームを照射するスピルの回数に応じて、一定間隔で順番に各スピルの照射開始位置をずらして照射する。また、陽子ビームを照射するスピルの回数に応じて、一定間隔で定めた複数の位置からランダムに順番を選び、選ばれた順番に各スピルの照射開始位置をずらして照射する。 （もっと読む）

【課題】患者に心的ストレスを与えることの無いレンジシフタ及び粒子線照射装置を提供すること。
【解決手段】患者の患部に粒子線を照射して治療する粒子線照射装置に設けられ、前記粒子線の拡大ブラッグピークを移動させるレンジシフタ１６であって、前記粒子線のエネルギーを吸収する基板２２と、前記基板２２を前記粒子線の経路上に出没可能に移動させる基板駆動機構２３とを具備することを特徴とするレンジシフタ。 （もっと読む）

【課題】標準の照射条件による標準校正深測定の頻度を少なくすることができる粒子線治療装置を得る。
【解決手段】標準の照射条件により不定期または所定の間隔で実施された標準校正深測定結果及び患者の治療照射条件により実施された患者校正深測定結果をメモリおよびデータベース１４に保存しておき、データ処理計算機１３は、メモリおよびデータベース１４に保存された患者校正深測定結果及びこの患者校正深測定が実施された日を基準としたときの直近の標準校正深測定結果並びに治療照射日を基準としたときの直近の標準校正深測定結果を用いて、患者への粒子線の治療照射時の照射線量を算出し、この算出された照射線量によって、患者への粒子線の治療照射を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】機能の特化と分散により効率よく採算性のよい粒子線治療装置の導入を可能にする粒子線治療ネットワークシステムを得る。
【解決手段】粒子線治療装置本体２４を有する粒子線治療センター５と、この粒子線治療センター５と提携する窓口病院１ａ、１ｂ、１ｃに、それぞれ粒子線治療装置本体２４の線源データ及びジオメトリデータを有する放射線治療計画装置１６、２１を設置し、窓口病院１ａ、１ｂ、１ｃの放射線治療計画装置１６にて治療計画を立案し、この立案した治療計画を粒子線治療センター５に送り、粒子線治療センター５では、放射線治療計画装置２１にて、送られた治療計画を確認し、確認された治療計画に基づき、粒子線治療を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】患者校正深測定の頻度を少なくすることができる粒子線治療装置を得る。
【解決手段】標準の照射条件により不定期または所定の間隔で実施された標準校正深測定結果及び種々の患者の治療照射条件に合うように複数の照射パラメータを変化させて予め測定された患者校正深基準データをデータベース１４に保存しておき、データ処理計算機１３は、このデータベース１４に保存された患者校正深基準データ及び標準校正深測定結果を用いて、患者への粒子線の治療照射時の照射線量を算出し、この算出された照射線量に基づいて、患者への粒子線の治療照射が行われるようにして、患者校正深測定の頻度を少なくしたものである。このデータベース１４に登録される患者校正深基準データとしては、過去の患者校正深測定結果が適切なデータであれば、これを登録することも可能である。 （もっと読む）

本発明は、特定の患者の特定の解剖学的組織内にある標的組織の被視認性を高めるのに効果的なシステム及び方法に提供する。例示的な実施例において、本発明に関連するシステムは、（ａ）標的組織領域にアブレーションのマーキングを作成するためのＭＲＩガイド下ＨＩＦＵシステムであり、ＨＩＦＵを前記標的組織領域に送達するためであり、前記送達されたＨＩＦＵは前記標的組織に前記アブレーションのマーキングを作成する、トランスデューサと、前記ＨＩＦＵの前記標的組織領域への送達を誘導するための、ＨＩＦＵ送達中の前記標的組織領域の三次元画像を作成するＭＲＩ撮像システムとを含むＭＲＩガイド下ＨＩＦＵシステム、（ｂ）放射線治療を前記標的組織領域に送達するための放射線治療送達システム、及び（ｃ）前記標的組織領域の三次元画像を作成するための、前記放射線治療送達システム内において動作可能であるＸ線、ＣＴ撮像システム、を含んでいる。前記ＭＲＩガイド下ＨＩＦＵにより前記標的組織領域に作成された前記マーキングは、ＣＴ撮像システムにより作成された画像に見ることができる。ＣＴ撮像システムにより作成された画像は、前記標的組織領域に送達される放射線治療の位置を誘導する。 （もっと読む）

【課題】放射線治療装置の多分割絞り装置においてリーフを駆動するモータの配置に対する自由度を増し、リーフの枚数を増やすこと。
【解決手段】複数枚のリーフを密に配列して形成された絞り体要素の一対からなる絞り体が放射線の照射軸を間にして絞り体要素が対峙するように配置され、各リーフ１４１を各別に移動させることにより、所望の照射範囲を設定する多分割絞り装置を備えた放射線治療装置は、各リーフ１４１の歯１４１ａに噛み合わせた駆動歯車１４３ａと、駆動歯車１４３ａの軸芯に結合されたトルクワイヤ１４３ｂと、トルクワイヤ１４３ｂを介して駆動歯車１４３ａを駆動する駆動手段１４３ｃとを具備する。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療施設のモダリティ割り当て時間を確保しつつ、総合病院のモダリティ割り当て時間を増やすことができるモダリティ使用スケジュール調整システムを得る。
【解決手段】治療プロトコルごとに使用するモダリティを治療プロトコルテーブル６に定義し、粒子線治療ＲＩＳ７から取得した治療を開始する患者数と、治療プロトコルテーブル６に基づき、モダリティ予想使用時間算出手段１０により、モダリティごとに今後発生するモダリティ予想使用時間を予測し、さらにモダリティ使用可能時間割り当て手段１２により、予測したモダリティ予想使用時間を用いて、モダリティごとに粒子線治療施設及び総合病院に使用可能時間を割り当てるようにした。 （もっと読む）

【課題】患者の患部情報を入力することにより個々の放射線治療装置の情報を照会し、治療に利用可能な放射線治療装置を提示する放射線治療連携システムを得ることを目的とする。
【解決手段】放射線による患部の治療を行う放射線治療装置１１３を備えた複数の各病院１０１〜１０３がネットワーク１０５にて接続された放射線治療連携システムにおいて、各放射線治療装置が照射可能な放射線の線種、照射可能な最大照射野、照射可能なＳＯＢＰ幅の装置情報１１６がそれぞれ格納された第１のデータベース１０６と、患部の種別および大きさの患部情報を入力する入力手段を有し入力手段により入力された患部情報の患部の種別が骨軟部患部種か否かの判断、患部の大きさから第１のデータベース１０６にて利用可能な放射線治療装置を選択して治療計画情報を作成する治療計画装置１１１を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】粒子線照射装置を回転ガントリー構造にしないで粒子線を患部に多方向照射でき、位置精度よく粒子線を照射できる粒子線照射システムを提供する。
【解決手段】一方向から粒子線を照射する粒子線照射装置１、患部３ａの位置確認をするＣＴスキャナー２、ＣＴスキャナー２の検出範囲２ａから粒子線照射装置１の照射範囲まで患者３を移動させる駆動部５、患者３を固定し、駆動部５に患者３の頭尾方向を軸ｙとして回転可能に装着される患者固定装置４、駆動部５とＣＴスキャナー２を収納し、粒子線照射装置１の照射方向ｘと駆動部５の移動方向を含む平面に直交する軸ｚで回転可能な収納ユニット６を備えた粒子線照射システムＡ。 （もっと読む）