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Fターム[4D075BB46]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 処理方法 (13,909) | 放射線の照射(赤外線を除く) (2,434) | 紫外線の照射 (735)

Fターム[4D075BB46]に分類される特許

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【課題】複数の不良ノズルが存在する場合でも、容易に制御可能で、かつ、確実に描画可能なインクジェット記録装置およびその描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の描画方法は、不良ノズルの検出情報を取得する不良情報取得工程と、副走査における記録媒体のホーム位置からの、相対的な逆移動の移動規制量情報を取得する規制量取得工程と、取得した不良ノズルを外して、描画ラインを短くした短描画ラインを設定する短ライン設定工程と、記録媒体を相対的に逆移動させる逆移動量が、移動規制量以内である否かを判定する判定工程と、移動規制量以内であると判定された場合に、描画ラインを構成する主走査吐出データを、短縮描画ラインに合せて副走査方向に位置ずらしするように各ノズルに割り当てるデータずらし工程と、移動規制量以内であると判定された場合に、副走査改行データを変更するデータ変更工程と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基材の表面が疎水性乃至撥水性であっても、金属光沢膜を強固に付着形成でき、曲げおよびねじれにより金属光沢膜割れ剥離ずに復元する、金属光沢を有するシリコンゴム製品とその製造方法を提供すること。
【解決手段】金属光沢を有するシリコンゴム製品1は、基材2の表面にベースコート層4金属光沢膜層5ミドルコート層及び/又はトップコート層6が順に形成された金属光沢を有する製品1において、基材2がシリコンゴム製であり、ベースコート層4が弾性を有する樹脂で構成されると共に、ミドルコート層及び/又はトップコート層6が透光性と弾性を有する樹脂で構成され、かつ、シリコンゴム製の基材2の表面とベースコート層4との間にシリコンゴム製の基材2の弾性変形を許容するベースコート層4の付着力改善処理層3が介在し、付着力改善処理層が二酸化ケイ素被膜層である。 (もっと読む)


【課題】ポリシラザンからなり、耐擦傷性、透明性、基材との密着性に優れるとともに、上高屈折率膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材12と、前記基材12上に形成されたシリコン含有膜16と、を備える積層体であって、前記シリコン含有膜16は、珪素原子と窒素原子、または珪素原子と窒素原子と酸素原子とからなる窒素高濃度領域18を有し、前記窒素高濃度領域は、基材12上に形成されたと遷移金属化合物を混合した膜14に酸素または水蒸気を実質的に含まない雰囲気下でエネルギー線照射を行い、当該膜の少なくとも一部を変性することにより形成される、積層体。 (もっと読む)


【課題】機能液を正確な塗布量を先端部に高密度で、より位置精度良く塗布する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも基材と、この基材の片面上に配置された複数の突起と、前記複数の突起上に被膜された機能液層を備えた微細突起アレイの製造方法であって、
複数のノズルを備えたインクジェットヘッドを前記突起に対して相対的に走査し、前記基材の前記複数の突起が設けられた面に対し、機能液を吐出して供給し、機能液層を形成する工程、を含むことを特徴とする微細突起アレイの製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】表面保護フィルムが剥がされた金属体表面からの糊残りの除去を比較的簡単に又は低コストで達成することができる糊残り除去方法並びに、金属体表面の清浄化方法、塗装前処理方法及び塗装方法に係る技術を提供すること。
【解決手段】紫外線照射処理装置1を用いて、表面保護フィルムを剥離した金属体2の表面を、紫外線が発生している環境に晒すことにより、表面保護フィルムに由来する糊残りを金属体2の表面から除去する。 (もっと読む)


【課題】基板表面に塗布液を塗布しこれを光硬化させることにより所定のパターンを形成するパターン形成技術において、品質の良好なパターンを効率よく形成する。
【解決手段】吐出ノズル先端の吐出口521から基板Wに向けて塗布液を吐出するとともに、基板Wに塗布された直後の塗布液Pに対して第1の照射光源551,552から波長365nmのUV光L1を照射する。これにより塗布液の表面が硬化する。続いて、第2の照射光源561,562から、より長波長(例えば385nmまたは395nm)のUV光L2を、先のUV光L1の照射を受けた塗布液に照射する。長波長の光L2はより塗布液の内部まで浸透するので、内部の硬化が促進される。 (もっと読む)


【課題】高屈折率を有するとともに、耐擦傷性、透明性、基材との密着性に優れ、さらに、生産性に優れた、上記特性の安定性に優れる水蒸気バリア性・酸素バリア性を有するガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、 前記基材上に形成されたシリコン含有膜と、を備える積層体であって、
前記シリコン含有膜は、珪素原子と窒素原子、または珪素原子と窒素原子と酸素原子とからなる窒素高濃度領域を有し、
前記窒素高濃度領域は、基材上に形成されたポリシラザン膜に酸素または水蒸気を実質的に含まない雰囲気下で波長150nm以下の光照射を行うことで、当該膜の少なくとも一部を変性することにより形成される、積層体。 (もっと読む)


【課題】プラスチック素材等に対する密着性が良好で、更に再塗装する場合にリコート性が良好な塗膜を形成する紫外線硬化型塗料組成物及び紫外線硬化塗膜の再塗装方法を提供することである。
【解決手段】(A)紫外線硬化性オリゴマー 10〜50質量%
(B)不飽和二重結合含有化合物 1〜20質量%
(C)アクリル樹脂 1〜30質量%
(D)光重合開始剤 0.01〜2質量%
(E)有機溶剤 20〜70質量%
を含有することを特徴とする紫外線硬化型塗料組成物及びその再塗装方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、紙基材面または印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化性ワニスを塗工し、繰返し使用できる美粧性を有するポリオレフィンフィルムを塗工面に重ね合わせた後、活性エネルギー線にて塗膜を硬化させ、該転写フィルムを剥離させる表面加工方法において、優れた基材・印刷インキ密着性、硬化性、美粧性を有する活性エネルギー線硬化型ワニス組成物を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線硬化型ワニスが、(A)スチレン−アクリル樹脂、(B)光重合性単量体、(C)光重合開始剤、(D)シリコーン系および/または高分子系ワックス添加剤からなり、該活性エネルギー線硬化型ワニスの降伏値が150〜250mN/m2となることを特徴とする活性エネルギー線硬化型ワニス組成物。 (もっと読む)


【課題】 高効率でパターン描画を行う。
【解決手段】 表側の第1の面及び裏側の第2の面を備える一方向に長い描画対象物を保持し、描画対象物の長さ方向に沿って搬送する搬送機構と、搬送機構に保持された描画対象物の第1の面に向けて液滴を吐出する第1の吐出部と、搬送機構に保持された描画対象物の第2の面に向けて液滴を吐出する第2の吐出部と、搬送機構に保持された描画対象物の第1の面及び第2の面の所定領域に液滴が塗布されるように、第1、第2の吐出部からの液滴の吐出、及び搬送機構による描画対象物の搬送を制御する制御装置とを有する描画装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】支持基材上に基材を仮固定して基材を加工する際に、これら支持基材と基材との間に仮固定剤を用いて均一な膜厚の薄膜を形成して精度に優れた基材の加工を行い得る基材の加工方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基材の加工方法は、仮固定剤を基材および支持基材のうちの少なくとも一方にスピンコート法を用いて供給したのち乾燥させて薄膜を形成する第1の工程と、薄膜を介して、基材と支持基材とを貼り合わせる第2の工程と、基材の支持基材と反対側の面を加工する第3の工程と、薄膜を加熱して樹脂成分を熱分解させることで、基材を支持基材から脱離させる第4の工程とを有し、第1の工程において、仮固定剤の粘度(25℃)を3000〜30000mPa・sとし、かつ仮固定剤を供給する基材および/または支持基材の回転数を400〜4000rpmとすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光の照射ムラによる未硬化部分の発生や過剰照射による着色、炭化の発生を抑制可能な構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一部が延伸用透明部材により覆われた光源に光硬化性接着剤組成物を衝突させ、該延伸用透明部材の表面で該組成物を膜化させると同時に該組成物に対し光を照射し、該光源下に配置された塗布前構造体の塗布領域に該組成物を滴下して塗布し、硬化させる構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】印刷パターンの密着性を向上させる印刷方法を提供する。
【解決手段】基材を加熱した状態で活性光線を照射する第1工程S2と、第1工程の後に、基材を冷却する第2工程S3と、第2工程の後に、冷却された基材に対して液滴を吐出して所定パターンを印刷する第3工程S4と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ロール・トゥー・ロール方式の生産適性を有し、ガスバリア性能に優れるガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】張力を印加されながら搬送される樹脂基材1上に、無機前駆体化合物を含む溶液を塗布して塗膜を作製し、該塗膜に対してエキシマランプ2を用いて真空紫外線を照射することにより改質処理して形成された、少なくとも1層のガスバリア性層を有するガスバリア性フィルムの製造方法において、前記エキシマランプの表面温度が150℃以下であり、前記エキシマランプ表面と前記樹脂基材との最短距離が10mm以下であって、前記樹脂基材の厚さをA(μm)、前記真空紫外線を照射時のm幅あたりの張力をB(N)としたときに、下式[1]を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。0.3≦B/A≦4.0・・・・[1] (もっと読む)


【課題】動画性能を向上させられる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a4)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)Nの隣のCに−CN基を有するオキシムスルホネート化合物、及び、(成分C)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】最表面層を高硬度にすることによる、耐傷性、耐摩耗性、クリーニング性向上と転写性向上を達成すると共に、構成層間の接着性を高め耐クラック性を向上させ、かつ紙質の違いなど転写材への対応性も十分高い中間転写ベルトと、その製造方法、それを用いた画像形成装置を提供する。
【解決手段】電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写し、これを記録材に2次転写するための中間転写ベルトの製造方法において、該表面層と基体の間にノズル吐出物により中間層を形成し、該中間層により十点平均表面粗さ(Rz)が0.3μm以上、3.0μm以下の凹凸を形成させることを特徴とする中間転写ベルトの製造方法。 (もっと読む)


【課題】基材フィルム上に微粒子含有層を備える光学フィルムであって、微粒子含有層の厚膜化を伴わずに粗大な粒子に起因する凸状欠陥の発生が十分に抑制または防止されており、良好な表面均質性を有する微粒子含有層を備えた光学フィルムおよびこのような光学フィルムを効率的にかつ低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】基材フィルム101上に、微粒子104を含有する樹脂液より形成される微粒子含有層102を備える光学フィルムであって、微粒子含有層102の平均膜厚hより大きい粒子径を有する微粒子である粗大粒子の割合が、樹脂液に含有される微粒子104全体の2%以下であり、微粒子含有層102の表面が、鋳型の表面を押し当ててなる形状を有する光学フィルム、ならびにこれを適用した偏光板および画像表示装置である。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式により塗工される硬化性組成物であって、露光量が少なくても、効率的に光硬化させることができ、更に光硬化後の熱硬化性を良好にすることができ、従って微細なレジストパターンを精度よく形成することができるインクジェット用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、インクジェット方式により塗工され、かつ光の照射と熱の付与とにより硬化するインクジェット用硬化性組成物に関する。本発明に係るインクジェット用硬化性組成物は、(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能化合物と、光重合開始剤と、環状エーテル基を有する化合物とを含む。上記光重合開始剤は、ジメチルアミノ基を有するα−アミノアルキルフェノン型光重合開始剤である。 (もっと読む)


【課題】曲面を有する各種成形品、立体物をインクジェット塗装により、優れた画質レベルの塗装物が得られる塗装方法を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線硬化型インクジェットインクをピエゾ素子により、オリフィス径10μm以上100μm以下、駆動周波数2000Hz以上50000Hz以下、駆動電圧10V以上200V以下、インク吐出温度20℃以上90℃以下、インク液滴速度5m/sec以上15m/sec以下の条件で塗装対象物に吐出する工程を含み、インク吐出時はインクジェットヘッドと被塗装部との距離が0.5mm以上15mm以下であることを特徴とする塗装方法。 (もっと読む)


【課題】構成材料の材質や層厚にかかわらず、割れや亀裂跡(白濁)を発生させることなく、打抜き加工処理を適用できるカバーフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】コート層3Aを基体シート2A上に流体状に形成するコート層形成(工程P2)と、コート層3Aが形成された基体シート2Aをロール状に巻いたときにコート層3Aが相対する部材に貼り付かず且つ刃4で抜き加工したときにコート層3Aにクラックが入らない硬度である第1硬度にコート層3Aを硬化させる第1硬化工程(P3)と、第1硬化工程(P3)の後、基体シート2A及びコート層3Aを含むフィルム(6)を抜き加工によって所望の形状に形成する抜き加工工程(P4)と、抜き加工工程(P4)後のコート層3Aを第1硬度よりも高い第2硬度に硬化させる第2硬化工程(P5)とを有するカバーフィルムの製造方法である。 (もっと読む)


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