本発明の主題は、レーザアブレーションにもとづくコーティング方法であって、基材とアブレーションされるターゲットとの間の距離が例外的に小さいコーティング方法に関する。この短い距離は、基材のコーティングを、工業的規模においても、好ましくは低真空あるいは非真空の雰囲気のもとですら可能にする。本発明は、あらゆる大型サイズの物体または種々の形状を有する物体の最適なコーティングに関して好ましい。
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【課題】優れたガスバリア性を有しつつ透明性を備え、耐衝撃性にも優れる、ガスバリア性積層フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に無機酸化物の蒸着膜が設けられ、その蒸着膜上にガスバリア性塗布膜が設けられてなるガスバリア性積層フィルムであって、基材の、蒸着膜が形成される面側には、前処理またはプライマーコート処理が施されてなり、前記ガスバリア性塗布膜は、前記無機酸化物膜上にガスバリア性塗工液を塗布した後、加熱することにより形成する。 （もっと読む）

【課題】アクリル系ゴム強化樹脂組成物からなる薄肉体上にアンカーコート層を有する機能性シートにおいて、このアンカーコート層の接着性に優れ、アンカーコート層の表面における印刷性に優れる機能性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の機能性シート１は、アクリル系ゴム強化樹脂組成物からなる薄肉体１１と、薄肉体１１の少なくとも一方の面に形成されたコロナ処理層１２と、コロナ処理層１２の表面に配設されたアンカーコート層１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 透明樹脂層をロール状にして運搬や保管を行っても、巻き芯部分やその他の部分がブロッキングして使用できなくなることがなく、しかも、コロナ処理などの易接着処理を行なわずに表面処理剤を塗布しても、易接着処理をしたときと同等の密着性を得ることができ、さらに、塗布後の表面処理層にキズや部分剥離が生じにくい化粧シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 下から順に基材層４、印刷層２、ポリオレフィン系透明樹脂層１、表面処理層５を少なくとも有する化粧シート１０の製造方法であって、透明樹脂層１の裏面を前処理する第１工程、第１工程で得た前処理面に印刷層２を設ける第２工程、第２工程で得た印刷層２を下面にして透明樹脂層１と基材層４とを積層する第３工程、透明樹脂層１の表面に表面処理剤を塗布後、直ちに１２０〜１８０℃にて前記処理剤を初期乾燥する第４工程、さらに、前記処理剤を１８０〜２４０℃で加熱して表面処理層５を形成する第５工程、を含む。
基材層４が発泡性合成樹脂層を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】液滴が基板に着弾した際の位置精度を改善した液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。選択的に形成した親液性領域を撥液性で挟むことで、着弾後の液滴は着弾位置から移動せず形成することができる。 （もっと読む）

化粧紙層（１４、Ｓ２ａ）を有し、前記可視顔面に設けられているベース・ボード（１２）を備え、前記化粧紙層（１４）が少なくとも１つの樹脂含浸紙層（１４ａ、Ｓ１）を備え、フローリング・パネル、壁張り部材、家具顔面部材のような外装部材（１０）を製作する方法であって、最初に、前記化粧紙層（１４）の可視表面が表面処理（２０、Ｓ３）を受け、続いて、この少なくとも１つの表面上にニス層（１４ｅ、Ｓ４）が塗布される、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水系塗液を塗布する塗布工程において、塗布条件や材料の種類に影響を受けることなく、塗膜の耳高を効果的に抑制する。
【解決手段】ウェブＷに水系塗液を塗布する方法であって、水系塗液塗布前に、ウェブＷにおいて塗膜Ｃが形成される領域の縁部Ｔのみにプラズマを照射する。 （もっと読む）

【課題】基材表面の均一且つ持続性に優れた改質を簡易に行える基材表面改質方法を提供する。
【解決手段】（１）プラズマ処理、コロナ放電処理、ＵＶ処理、及び電子線処理から選択された物理的方法により処理された基材表面に、重合性不飽和二重結合を側鎖に有する高分子化合物を接触させる工程と、（２）基材に露光を行い、露光により基材表面に発生したラジカルを起点として、重合性不飽和二重結合を側鎖に有する高分子化合物をグラフト重合して、基材に直接結合したグラフトポリマーを生成させる工程と、を有することを特徴とする基材表面改質方法。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエッチング性に優れる溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、イットリア粒子及びアルミナ粒子を含有してなる。溶射用粉末中のアルミナ粒子の含有量は５０〜３０００質量ｐｐｍである。イットリア粒子はイットリア造粒−焼結粒子であることが好ましく、イットリア粒子の平均粒子径は２０〜６０μｍであることが好ましい。アルミナ粒子は遷移アルミナからなることが好ましく、アルミナ粒子の平均粒子径は１μｍ以下であることが好ましい。この溶射用粉末は大気圧プラズマ溶射用途で用いられることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエッチング性に優れる溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、イットリア造粒−焼結粒子及びイットリア微粒子を含有してなる。溶射用粉末に含まれるイットリア微粒子の平均粒子径は１μｍ以下であり、溶射用粉末中のイットリア微粒子の含有量は１０００〜１００００質量ｐｐｍである。溶射用粉末に含まれるイットリア造粒−焼結粒子の平均粒子径は２０〜６０μｍであることが好ましい。この溶射用粉末は大気圧プラズマ溶射用途で用いられることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＡＤ法によって基板上に形成された膜を熱処理する際に、膜の剥離やヒロックの発生を抑制できる複合構造物の製造方法を用いた成膜装置を提供する。
【解決手段】この成膜装置は、原料粉２０をガスによって分散させることによりエアロゾル状態とするエアロゾル生成手段１〜４と、エアロゾル生成手段１〜４によってエアロゾル状態とされた原料粉２０に付着している又は含有されている不純物であって、加熱されることによりガスを発生する不純物の量を低減するために、原料粉２０を処理する処理手段６と、処理手段６によって処理されたエアロゾル状態の原料粉２０を基板３０に向けて吹き付けることにより、基板３０上に原料粉２０を堆積させる噴射ノズル９とを具備する。 （もっと読む）

【課題】膜厚ムラや塗布ムラの無い平坦な膜を形成することが可能な膜形成方法及び電気
光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基体上の有機ＥＬ素子内に親液性領域７０及び撥液性領域８０のパターンを
形成する工程の後、不活性気体の雰囲気において、親液性領域に紫外線を照射する工程を
有しているので、撥液性領域を形成する際、親液性領域の一部に撥液性のフッ素原子が結
合した場合であっても、紫外線によって当該フッ素原子を除去することができる。これに
より、親液性領域の親液性が低下することは無く、良好な状態の正孔注入層を形成するこ
とが可能となる。 （もっと読む）

被覆された物体は、耐水性被覆を含む1またはそれ以上の被覆層を具備し得る。方法は、火炎処理、コロナ処理、イオン化空気処理、プラズマ空気処理およびプラズマアーク処理およびディップ、スプレーまたはフロー被覆から選択される1またはそれ以上の方法により物体基材を処理することによりそのような被覆層を塗布することを具備する。さらに、方法は第１の基材材料を成形して物体を形成し、火炎処理、コロナ処理、イオン化空気処理、プラズマ空気処理およびプラズマアーク処理から選ばれる１またはそれ以上の方法により物体表面を処理し、1またはそれ以上のバリア材料で物体基材をオーバーモールドする注入を含む。
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【課題】耐久性の優れた撥水、撥油性樹脂基体を提供することを目的とする。
【解決手段】表面に加水分解可能な樹脂層を有する樹脂基板表面にシロキサン結合を有する膜を設けた樹脂基体としたもので、この構成によると、加水分解可能な樹脂層とシロキサン結合を有する膜が強固に結合し、また、加水分解可能な樹脂層と樹脂基板は熱膨張の差が小さいため密着力に優れるため、耐久性の優れたシロキサン結合を有する膜が設けられた基体を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 被乾燥体を減圧下で乾燥するときに、収容室内に残留した溶媒成分の影響を低減させて、膜の品質劣化を防ぐことが可能な乾燥方法、乾燥機、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 乾燥機１００は、被乾燥体Ｑを収容可能な収容室１１８（１１９）と、第１の減圧過程で、収容室１１８を減圧する第１の減圧部としての第１減圧ポンプ１０２と、被乾燥体Ｑを乾燥するための乾燥部１１０とを備えている。第２の減圧過程で、収容室１１９内を減圧する第２の減圧部としての第２減圧ポンプ１０３、被乾燥体Ｑを乾燥した後に、収容室１１９内をクリーニングするための除去部１２０とを備えている。さらに、第１減圧ポンプ１０２と、乾燥部１１０と、第２減圧ポンプ１０３と、除去部１２０と、を制御する制御部１４２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ放電処理装置において、基材の種類（基材幅）の変更があっても、高品質の放電処理が可能な、簡易な構成で、複雑な制御を必要としない、コスト的にも、生産性的にも優れた表面処理や薄膜形成を可能とするプラズマ放電処理装置及びプラズマ放電処理方法の提供。
【解決手段】主電極１０１と第１の副電極１０２間に第１の高周波電源５１と第２の高周波電源５２とにより対向領域３１に発生した高周波電界及び第１のガス供給手段４１により供給された混合ガスにより対向領域３１で発生した大気圧プラズマ放電により基材Ｆ表面に薄膜形成する。基材Ｆより狭幅の基材Ｆ’に対しては、主電極１０１と第２の副電極１０３間に第１の高周波電源５１と第３の高周波電源５３とにより対向領域３２に発生した高周波電界及び第２のガス供給手段４３により供給された混合ガスにより対向領域３２で発生した大気圧プラズマ放電により基材Ｆ’表面に薄膜形成する。 （もっと読む）

【課題】下地表面に液滴を配置して良好なべた状パターンを設ける方法を提供すること。
【解決手段】層形成方法が、下地表面上で互いから孤立した２つのドット状パターンが得られるように、前記下地表面の２つの部位のそれぞれに、第１の液滴を配置する第１の工程と、前記２つのドット状パターンを前記下地表面に対して固定させる第２の工程と、少なくとも前記２つのドット状パターンの間の前記下地表面を第２の液滴に対して親液化する第３の工程と、前記第３の工程の後で、前記２つのドット状パターンの間の前記下地表面に、前記２つのドット状パターンを繋げる前記第２の液滴を配置する第４の工程と、を包含している。 （もっと読む）

【課題】 低い比誘電率を有し、かつ、有機系膜と無機系膜との密着性に優れた積層体およびその形成方法、絶縁膜、ならびに半導体装置を提供する。
【解決手段】 積層体の形成方法は、基材の上に、無機系膜のための第１の塗膜を形成し、前記第１の塗膜の表面に対して、紫外線照射処理、電子線照射処理、およびプラズマ処理から選ばれる少なくとも１種の処理を行ない、前記処理後の前記第１の塗膜の上に、反応性シラン化合物および有機溶媒を含む密着促進用組成物を塗布した後、有機系膜のための第２の塗膜を連続的に形成することにより、積層膜を形成し、前記積層膜を硬化すること、を含む。前記反応性シラン化合物は、（Ｒｉ）_ｎＳｉ（Ｘｊ）_４−ｎ，ｉ＝１〜ｎ，ｎ＝１〜３，ｊ＝１〜４−ｎ，で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物。 （もっと読む）

【課題】密着性及び良好な視野角特性を両立した光学機能材料（特に、光学補償シート）を提供すること。該光学補償シートを偏光膜の少なくとも一方に配置した偏光板、および該光学補償シートを具備した表示品位の高い液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に配向膜を形成した後に、その上に液晶性化合物を含む液晶層塗布液を塗布して液晶層を形成してなる光学機能材料において、配向膜上に気相法による表面処理を施してから後に液晶層塗布液を塗布して形成されたことを特徴とする光学機能材料。 （もっと読む）

【課題】 液滴吐出装置を用いて良好なべた状パターンを形成すること。
【解決手段】 複数のノズルを備えたヘッドに対して、表面を第１の方向に相対移動させながら前記複数のノズルから液滴を吐出する液滴吐出装置が用いられる場合に、層形成方法は、前記表面上の２つの基準領域のそれぞれに第１の液滴をそれぞれ配置して、前記２つの基準領域に対応して孤立した２つのパターンを設ける第１の工程と、前記２つのパターンを固定する第２の工程と、前記第２の工程の後で、前記表面を親液化する第３の工程と、前記第３の工程の後で、前記２つの基準領域の間に第２の液滴を配置して、前記２つのパターンを繋げる第４の工程と、を包含している。 （もっと読む）