選択的透過性積層体の製造方法を提供する。種々の実施形態において、本発明の積層体は、保護物品としての製造に有用であり、有害な化学物質および生物学的物質に対しては実質的に不透過性であるが、保護服として着用した場合に、保護と着心地の良さとの両方を得るのに十分な水蒸気透過性である。
（もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜、その製法、およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 脂環式炭化水素構造を有する化合物を含む膜形成用組成物を塗布し、乾燥して形成される膜であって、形成過程においてマイクロウエーブを照射して形成されることを特徴とする膜。 （もっと読む）

【課題】白ボケが低減され、正面コントラストと斜め方向のコントラストが良好な反射防止フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に少なくとも内部散乱性を有する層を有し、ＪＩＳ K７１０５に準じた像鮮明性が光学くし幅０．５ｍｍで測定したときに３０．０％〜９９．９％であり、表面散乱に起因するヘイズ値が３％未満であり、内部散乱に起因するヘイズ値が１５〜４０％であることを特徴とする光学フィルム。とくに、透明支持体上に少なくとも内部散乱層と低屈折率層とがこの順に積層されてなり、特定の積分反射率、積分反射率と鏡面反射率の差、−６０°傾斜して入射した光量Ｉ₀に対する＋４５°傾斜した方向へ反射した光量I⁴⁵°、並びに表面及び内部ヘイズ値を有する反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、耐摩耗性、耐擦傷性に優れ、かつ生産性、保存信頼性の高い光ディスクに適したハードコート剤、光ディスクとその製造方法を提供すること。
【解決手段】分子内に水酸基を含有する（メタ）アクリレート化合物（Ａ）、導電性金属酸化物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および低沸点アルコール溶剤（Ｄ）を含むハードコート剤を、光ディスクのレーザ光入射側表面に、室温で回転数１０００〜７０００ｒｐｍにてスピンコート法により塗布した後、低沸点アルコール溶剤（Ｄ）を除去する工程を経ずに、紫外線照射によりハードコート剤を硬化させる光ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性をより向上した光学フィルムおよび反射防止フィルムを提供すること。そのような光学フィルムおよび反射防止フィルムを具備した偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に塗布された層が、少なくとも１種のフッ素化光重合開始剤と電離放射線硬化性化合物とを含有する組成物の硬化物からなることを特徴とする光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】 未硬化の多層皮膜を同時に乾燥させる際に，混層を防止することに加えて，樹脂モノマーなどの反応物質の層間移動をも防止することが可能な多層被覆金属板の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る多層被覆金属板は，金属板の少なくとも一方の面に，表層皮膜と紫外線硬化性樹脂を含む下層皮膜とをウエット状態で順次または同時に被覆する多層被覆工程と，表層皮膜を介して下層皮膜に紫外線を照射する紫外線照射工程と，表層皮膜と下層皮膜とを同時に乾燥させる乾燥工程と，を含む。 （もっと読む）

【課題】 導電性能の面内均一性に優れ、近年大面積での使用が増大している、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極や電磁波シールド材などの用途分野に好適に使用することができる導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化１】


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）
で表される繰返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンと、ポリアニオンとからなる導電性高分子を０．５〜１．５重量％、フッ素系界面活性剤を１００〜１０００ｐｐｍおよび水と相溶性のある溶媒からなる濡れ剤を１〜１０重量％含有する水系塗料を塗布して、平均表面抵抗値が１〜１×１０^５Ω／□で、その変動誤差が３％以下である導電性フィルムを得る。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、
− 基体を、アミノセルロースの少なくとも１種類の誘導体を含有する及び／又は
− ＮＨ_２−（オルガノ）ポリシロキサンの少なくとも１種類の誘導体を含有する変性用溶液と接触させ、
− 基体とアミノセルロース誘導体とよりなる及び／又は基体とＮＨ_２−（オルガノ）ポリシロキサンとよりなる基体複合材料を生成する
各段階のある基体の変性方法に関する。
この様に製造された基体複合材料はインプラント、センサー又はラスターゾンデ−ティップの製造に使用できる。 （もっと読む）

パターン化されたコーティングを形成する方法が開示される。方法は、基材上に組成物を配置して基材上に液体コーティングを形成するステップと、被覆されたフィルム上の第１のパターン領域を通じてエネルギーを提供または除去して、モルフォロジー的にパターン化されたコーティングを形成するステップと、を含み、モルフォロジー的パターンは第１のパターン領域に対応する。
（もっと読む）

【課題】
ポリオレフィン系樹脂成形品の塗装において、基材および上塗塗料の双方に対し良好な付着性を有する新規な水性下塗塗料を用いる方法を提供する。
【解決手段】
塩素含有量が５〜４０重量％、α、β−不飽和多価カルボン酸またはその無水物の変性量が１〜５重量％、重量平均分子量が５０，０００〜３００，０００であるカルボキシル基含有塩素化ポリプロピレン系ランダム共重合体水分散液、およびアミノ樹脂からなる架橋剤を含有する下塗塗料を用いることを特徴とするポリオレフィン系樹脂成形品の塗装方法。 （もっと読む）

表面にある不連続な分散した欠陥を検出する。性能を危うくしうる不連続な欠陥は、修復することができる。本発明は、基材上の表面被膜中の欠陥を修復する方法であって、基材に対する親和性は発揮するが被膜に対する親和性はない部分を含む材料と；該被膜のための修復材料と、該部分および該修復材料を結合するテザーとを提供する工程と、該修復材料を欠陥に送達するために、該材料を使用する工程と、該修復材料を表面被膜に取り込む工程と、を含む、方法を提供する。 （もっと読む）

酸化法を使用してシリコーンへの接着剤の塗布を可能にする。この方法は、制御され、シリコーン構造への選択的酸化処理を可能にし、管状構造の内側への処理を可能にする。
（もっと読む）

本発明は、１種以上の成分として、ａ）１．酸化反応を介して配合される陰イオンを含有し、かつ２．非傷害化状態でのデポー物質の酸化還元電位と金属表面の腐蝕電位との間の電位変化で、又はそれに比べてより少ない損傷での電位変化で既に、この陰イオンの少なくとも一部分を遊離させる（この際、陰イオンは腐蝕の陽極又は／及び陰極部分反応を抑制することができ、又は／及び付着補助作用をし、この際、陰イオンは各々、その移動を妨げないイオン半径を有する）少なくとも１種のデポー物質を含有し、かつ場合により、ｂ）少なくとも１種のマトリックス物質を含有する、腐蝕抑制組成物を含む被覆で金属表面を保護するための方法に関し、この際、１種以上のデポー物質は、被覆の非傷害化範囲で少なくとも部分的に酸化され又は少なくとも部分的に陰イオンを添加されて存在し、かつこの際、少なくとも１種のデポー物質は、被覆の傷害化範囲で少なくとも部分的に還元され、又は添加陰イオンを少なくとも部分的に遊離させ、この際、被覆は、含有される成分及びその含量の選択によって、強い離層が起こる前に、少なくとも部分的に早期又は適時に、離層の発生又は進行を押えるように調整される。デポー物質は、場合により選択的に、陽イオンの比較的低い陽イオン輸送率を有する。 （もっと読む）

【課題】植え込み可能な医療装置を被覆するための改善された方法を提供する。
【解決手段】植え込み可能な医療装置を被覆する方法は、被膜の中に含まれている治療剤の安定性を改善する工程を含む。 （もっと読む）

銅触媒による１，３−双極性付加環化によって多価アジドおよびアルキンが架橋ポリマー網目構造中に組み込まれる場合に、接着性ポリマーが形成される。金属表面から浸出するか、モノマー混合物に加えられるかのいずれかであるＣｕイオンによって、この縮合重合が効率的に促進され、複数のトリアゾール結合要素が生成されることによって金属表面との強い相互作用が得られる。この接着性ポリマーは、接着性ポリマーコーティングとして、または接着性ポリマー接合剤として形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 向上した水準のカルボキシレート官能価を有し、適切な架橋剤により架橋すると、膜硬さ、柔軟性、良好な耐水性及び耐摩耗性、並びに優れた耐溶剤性を有する被覆を与えるポリウレタン分散体を含む被覆組成物を提供する。
【解決手段】 第１成分（ｉ）としての、カルボン酸官能基を有するポリオールを含むポリオールとポリイソシアネートを反応させて調製した、酸官能基を有するイソシアネート官能性プレポリマーを含有する水性ポリウレタン分散体、及び遊離イソシアネート基を含まないポリウレタン用架橋剤を含む第２成分（ii）を含んでなり、該ポリオールは、１００〜１００００の分子量（Ｍｎ）、２５〜５００mgKOH/gの酸価、及び２５〜５００gKOH/gのヒドロキシル価を有する、２成分被覆組成物 （もっと読む）

下記の工程を含むことを特徴とする、少なくとも0.1m²の面積を有する無機材料製の表面の微生物による汚染性を低下させる方法：
a) 処理すべき前記表面上に、親水性高分子物質の溶液または水性懸濁液の層を適用する工程；および、
b) 工程a)で処理した表面を乾燥させて、前記親水性高分子物質の層で被覆した前記表面を得る工程。 （もっと読む）

本発明は、無機又は有機の基材に強く付着している金属コーティングを製造する方法であって、（ａ）無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し；（ｂ）無機又は有機の基材に、１種類以上の光開始剤、又は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは／及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し；（ｃ）ステップ（ｂ）の層を場合により乾燥させ、そして、ステップ（ｂ）の層に電磁波を照射し；そして（ｄ）光開始剤でプレコーティングした基材に、気相から、金属、半金属又は金属酸化物を堆積させる方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、無機又は有機の金属化基材に強く付着しているコーティングを製造する方法であって、第一のステップにおいて、（ａ）無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し；第二のステップにおいて、（ｂ）無機又は有機の金属化基材に、１種類以上の光開始剤、又は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは／及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し；そして、第三のステップにおいて、（ｃ）適切な方法を用いて、前記物質を乾燥させ、及び／又は、前記物質に電磁波を照射し、場合により第四のステップにおいて、（ｄ）このように前処理した基材にコーティングを付し、コーティングを硬化させ及び／又は乾燥させる方法。 （もっと読む）

本発明は、ナノ構造化および／またはナノポーラス表面の新規作製方法、ナノ構造化および／またはナノポーラス表面を有するコーティング、および、前記コーティングを含む物品に関する。本発明はまた、特に反射防止膜としての、本発明のコーティングの使用に関する。表面ナノ構造化および／またはナノポーラスコーティングの作製方法は、ａ）ｉ）反応性ナノ粒子と、ｉｉ）少なくとも１種の溶媒と、ｉｉｉ）場合によって、少なくとも１つの重合可能な基を有する化合物とを含む混合物を、前記混合物が透明基材に塗布され、その表面で硬化した後、コーティングを有さない同じ基材と比較して、４００〜８００ｎｍの電磁スペクトルの少なくとも一部分について透過率を少なくとも０．５％増大させる量で基材に塗布するステップと、ｂ）基材に塗布された前記混合物において架橋および／または重合を誘導するステップとを含む方法である。 （もっと読む）