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Fターム[4E068AF00]の内容

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Fターム[4E068AF00]に分類される特許

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【課題】 ツーリングの運動に関する無駄時間を減らす装置と方法を提供する。
【解決手段】 軌道を制御する装置は、ツーリングが第1の形体の機械加工を開始する時点の入口速度と、ツーリングが第1の形体の機械加工を完了させる時点の出口速度とを有する第1のツーリング軌道を備える。ツーリング位置決めシステムはその軌道に沿って、コンポーネントの同型の複数の形体を機械加工するためのツーリングを移動させる。ツーリングが第2の形体の機械加工を開始する時点で、第2のツーリング軌道は入口速度を備え、ツーリングが第2の形体の機械加工を完了する時点で出口速度を備える。
第2のツーリング軌道の入口速度と出口速度は、第1のツーリング軌道の入口と速度とそれぞれ異なる。軌道の制御方法も教示される。
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【課題】レーザ照射の際に保護膜が剥離しにくく、デブリの基板への付着を確実に防止し、高い歩留まりや信頼性を維持できるSi基板のレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】Si基板のレーザ加工方法は、単結晶Si基板1の表面に、ポリビニルアルコールやポリビニルピロリドンなどの親水性樹脂の水溶液をスピンコータで塗布して、厚み250nm以下の保護膜2を形成する工程と、保護膜2を介してSi基板1にパルスレーザ光3を照射して、穴開け加工を行う工程と、保護膜2を、純水などの溶媒に溶解して除去する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】二つの異なる波長の励起光(レーザー等)を用いて、樹脂等の固体媒体を三次元的に加工する方法を提供する。
【解決手段】固体媒体中に金属ナノ粒子が形成された領域を形成する方法であって、(1)還元性ラジカル活性種の前駆体及び金属イオン又は金属錯体を含んだ固体媒体に、2種類の異なる波長を有する励起光L1及び励起光L2を照射して固体媒体中に金属ナノ粒子を形成し、(2)該金属ナノ粒子が形成された部位にL1又はL2を照射して、L1又はL2の入射方向に向けて金属ナノ粒子が形成された領域、或いはキャビティ又はトンネルを形成することを特徴とする形成方法。 (もっと読む)


【課題】 フェムト秒レーザーによる細管加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】フェムト秒レーザー装置、回転軸を有するチャック、およびビームスプリッタと反射鏡を有する光学系を具備するレーザー加工装置であって、被加工物をチャックの回転軸上に設置すると共に、1つのフェムト秒レーザー光を光学系によって複数に分割し、分割した各フェムト秒レーザー光を反射鏡によって被加工物に照射し、チャックを回転させながら回転軸に平行な方向に移動させることによって、加工を行うレーザー加工装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】レーザ加工を行わない待機中はレーザ発振を止めておきながらパルス状のファイバレーザ光の立ち上がりでの異常な高ピークパルスの発生を効果的に防止する。
【解決手段】このファイバレーザ加工装置では、ファイバレーザ光FBの出力が、実質的に零またはその近辺の値からレーザ加工に実質的に影響しない程度の前置レベルまで立ち上がり、該前置レベルまでへの立ち上がりを開始した時(図3の時点t1)から第1の時間(前置パルス幅TB)を経過した後(図3の時点t2)に前置レベルPBからレーザ加工用の所望レベル(PA)まで立ち上がるように、パワーフィードバック制御方式でLD駆動電流ILDを制御し(図3の(e))、これによってファイバレーザ光FBの立ち上がりに際して高ピークパルスHPの発生を効果的に防止する(図3の(f))。 (もっと読む)


孔開けされた外科用縫合針を応力緩和する方法が開示される。焼きなましすることなく応力緩和するために、少なくとも孔開けされたボアホール周辺の金属が加熱処理される。
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これらの問題によりよく対応するために、1つ又は複数の特性が、工作物(28)から測定される。前記測定情報は、ルックアップテーブルから好適な所定のレーザ加工レシピを選択するのに使用される。次に、レーザ加工レシピは、工作物(28)を加工するのに使用される。 レーザ加工レシピのルックアップテーブルは、理論的な計算から、操作者による試行錯誤から、後処理検査を有する自動化された組織的なレシピ修正プロセスから、あるいは、これらまたは他の方法のある組合せから構築することができる。自動化されたプロセスは、操作者エラーを低減することもでき、工作物特性の簡便な追跡に備えて測定値を保存してよい。 (もっと読む)


【課題】ミラーの倒れによる加工用の光の位置決め精度又は物品の加工精度の低下を抑制する。
【解決手段】ガルバノ装置は、ミラー2と、ミラー2を回転させるモータ1と、ミラー2の被検領域6の傾きを検出する検出器DT1と、検出器DT1によって検出された被検領域6の傾きとミラー2の回転角とに基づいて該回転角におけるミラー2の倒れ量を得る処理部50とを備える。 (もっと読む)


【課題】薄板の孔開け加工又はくり抜き加工で、破損等を可及的に抑え、しかも高精度な加工を高効率で行う。
【解決手段】ガラスの薄板12に対して丸孔30の孔開け加工を行う。レーザ光Lを、目的物の平面視である丸孔30の輪郭線40を基準とした内側で、該輪郭線40から加工幅Hの範囲内で、該輪郭線40と略平行に、走査線42a、42b、42c、42dの順に4重に走査する。このような順序で加工をすることにより、丸孔30の側面を高精度に形成することができる。くり抜き加工の場合には、加工されるくり抜き部品31の外側から内側へと、多重にレーザ光Lを走査する。 (もっと読む)


【課題】 微細加工を目的としたレーザー加工装置において、高アスペクト比5以上の穴加工は加工径が一定にならないことや、貫通しない穴加工など実現が容易で無い加工が課題であった。
【解決手段】 レーザービームを偏芯させる手法において、偏芯の基点と集光レンズの位置、および、集光レンズの焦点距離を一定の位置関係に配置することによる偏芯手法と、加工により生じる蒸散物を除去する手法により、貫通しない高アスペクト比の穴加工を実現するレーザー加工手法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高速なレーザの繰り返しオン−オフ動作を必要とせず、テクスチャ構造形成の際のレーザ照射時に、光入射側電極との接合部分にテクスチャ構造を形成しないというパターニングを行うことができる光起電力装置の製造方法を得ること。
【解決手段】テクスチャ構造を形成するための開口104を耐エッチング膜103上の凹部形成領域105aにレーザ照射によって形成する際に、レーザ光の1パルス分の周期の間に、レーザ光の照射位置を、パターンの第1の辺の長さだけx軸方向に移動させ、x軸方向の走査が終了すると、凹部形成領域105aと電極形成領域105bのy軸方向の長さだけ、y軸方向にレーザ光とシリコン基板101との間の位置をずらして、x軸方向に沿って前記レーザ光の走査を行う。 (もっと読む)


【課題】 加工開始直後のレーザ加工跡を良好にする。
【解決手段】 レーザ加工装置は、テーブル21を回転しながらレーザ光を加工対象物10の表面に照射することにより、テーブル21にセットされた加工対象物10の表面をレーザ加工開始位置からレーザ加工する。非加工用のレーザ光を加工用レーザ光源21から出射させているとき、オフセット信号発生回路62は、非加工用のレーザ光の入射時における対物レンズ35の焦点距離から加工用のレーザ光の入射時における対物レンズ35の焦点距離への変化分に対応したレベルのオフセット信号を発生して、レーザ光の焦点位置をオフセットしておく。非加工用のレーザ光の出射から加工用のレーザ光の出射の切換え時に、オフセット信号発生回路62からのオフセット信号の発生が停止され、レーザ光の焦点位置を加工対象物10の表面に一致させる。 (もっと読む)


【課題】レーザビーム(4)が部品表面に部品材料が気化され孔(2)が形成されるように照射される、部品(2)に孔(2)を製造する方法に関し、これを、レーザビームとの相互作用により孔壁面の損傷が生じないように改良する
【解決手段】複数の製造工程でそれぞれ孔(2)の部分体積(2a、2b)がレーザビーム(4)による孔(2)の孔壁面(3a、3b)の切除加工によって除去され、そのレーザビーム(4)は、レーザビーム(4)が被切除加工孔壁面(3a、3b)と8°以上の角度を成すように方向づけられている。 (もっと読む)


【課題】クラックなどの不具合を発生させることなく、薄板ガラス、フィルム貼り合わせ基板、あるいは、これらの基板を貼り合わせたパネルを効率よく、任意の形状に切断することができる。
【解決手段】ガラス基板あるいは、該ガラス基板にフィルムを貼り合わせて支持した複合基板を、パルス発振させたパルスレーザを照射することにより切断する方法であって、1回のパルスレーザ4の照射でガラス基板を貫通する穴1aを開け、かつ、連続するパルスレーザ4により加工される穴1aは、穴径以上の距離を隔てた位置に照射されて切断され、さらに任意の加工形状を切り出すために、該加工形状の周囲を、複数回のパルスレーザ4を照射させながら周回して穴1aを開けて切断し、n周回目で加工される穴1aは、それまでの周回で開けた穴1aの間にパルスレーザ4を照射することにより、最終的に該加工形状の周囲の穴1aが全て繋がり、切断される。 (もっと読む)


【課題】被加工体が透明であり、カメラなどの検知装置が検知する場合であっても、確実に検知することができるように、二次元コードなどの情報を形成すること。
【解決手段】レーザ加工装置は、透明な被加工体60を加工するために用いられる。レーザ加工装置は、被加工体60を保持する保持部40と、被加工体60にパルス状のレーザ光Lを照射して、複数の凹部66を形成するレーザ発振器1と、被加工体60を通過する光L,Pを検出する検出部10と、を備えている。光L,Pが、被加工体60の複数の凹部66を通過することによって、回折光が生成される。検出部10は、回折光によって生成される回折縞70を検出する。 (もっと読む)


【課題】 被穿孔物を貫通したレーザ反射光の影響を低減し、穿孔加工を精度良く行なうことができるレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】 レーザ加工装置に、レーザ加工によって穿孔される被穿孔物1が搭載され、被穿孔物1の穿孔3位置に貫通孔4aを有するステージ4と、このステージ4を保持する保持台5とを備え、貫通孔4aの外側の、レーザ光10が入射する側と反対側のレーザ光10が照射される位置にレーザ光吸収材6が設置されている。 (もっと読む)


レーザパルスを用いて加工対象物に先細り形状の穴を開ける方法および装置は、非集束レーザパルスを用いて特定の先細り形状(72,74)と仕上がり面(76)を有する穴を開け、一方で特定の射出直径(74)と改善したシステムスループットを維持する。非集束レーザパルスを要することなく所望の先細り形状と仕上がり面を有する穴を開けることができるシステム(100)が開示される。 (もっと読む)


レーザパルス(160、170、172、180、190、192)を用いて、電子基板にビア(30)を穴あけする改善された方法及び装置は、1つ以上のテイラードパルス(160、180)を用いて、システムスループットを維持し、基板へのダメージを回避しながら、ビア内に残るデブリを減少させる。テイラードパルスは、パルスの継続時間の50%未満の継続時間を有し、パルスの平均パワーより10%高いピークパワーを有するパワースパイク(166、186)を特徴とするレーザパルスである。より長い継続時間のパルスを切り取ることによってテイラードパルスを生成する方法及び装置を開示する。 (もっと読む)


パターン形成されたシリコンウエハに加工しあるいは特徴を形成する方法および装置であって、パルス幅が1psから1000psの間の第1のパルス状レーザビーム(4)を用いてウエハ上の表面層の一部を除去し、波長が200nmから1100nmの間の第2のパルス状レーザビーム(5)を用いて表面層の下にあるバルクシリコン(1)の一部をウエハから除去することを含む。再付着したシリコンはエッチングによってウエハから除去することができる。 (もっと読む)


【課題】レーザ加工により形成される孔のテーパ角を自在に制御できるレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置11は、互いに平行な第1入射面43及び第1出射面44を有する第1透明部材41と、第1回動軸を中心として第1透明部材41を回動させる第1モータ42を有し、第1入射面43の入射光と平行に第1出射面44から出射されるレーザ光Lを第1方向へシフトする第1シフト機構31を備えた。また、互いに平行な第2入射面48及び第2出射面49を有する第2透明部材46と、第2回動軸を中心にして第2透明部材46を回動させる第2モータ47を有し、第2入射面48の入射光と平行に第2出射面49から出射されるレーザ光Lを第2方向へシフトする第2シフト機構32を備えた。そして、第2シフト機構32によりシフトされたレーザ光Lを集光レンズ22にて集光しワークW1を加工するようにした。 (もっと読む)


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