【課題】塗液の脈動による塗膜の膜厚ばらつきを低減させる。
【解決手段】塗液を供給する塗液供給ポンプ２と、基材に塗工するコーティングヘッド７と、塗液供給ポンプ２からコーティングヘッド７までを接続するメイン配管３と、メイン配管３に設けられた間欠塗工に使用できる塗液流路切替えバルブ４とを有した塗工装置１００において、塗液供給ポンプ２から塗液流路切替えバルブ４までの間に、一時的に塗液を蓄えることのできるアキュムレータ５を設け、さらにこのアキュムレータ５のガス空間領域の上端の位置が、コーティングヘッド７の吐出口の位置よりも高い位置となるように、アキュムレータ５を配置することで、配管圧力の経時変化にも耐え、塗液供給ポンプ２から発生する吐出脈動による膜厚ばらつきを低減させる。 （もっと読む）

【課題】液膜の幅を安定させることができるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４の長手方向Ｘ１の両端にそれぞれ配置された一対のガイド部４６とを含む。一対のガイド部４６は、長手方向Ｘ１に間隔を空けて対向する一対のガイド面６６をそれぞれ含む。一対のガイド部４６のそれぞれには、ガイド面６６より凹んだ凹部６８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】バックアップローラに巻き掛けられて走行するウェブと塗布ヘッド先端との間のクリアランスに塗布液ビードを形成して塗布する塗布装置を用いて、ナノサイズの紐状フィラーを含む塗布液をウェブに塗布しても塗布スジ故障が発生しない。
【解決手段】バックアップローラ２０に巻き掛けられて走行するウェブ１２と塗布ヘッド先端１８Ａとの間のクリアランスｄに塗布液ビード２２Ａを形成して塗布する塗布装置を用いて、金属ナノワイヤー２６Ａを多数本含む塗布液２２をウェブ１２に塗布する塗布工程と、塗布された塗布層２２Ｂを乾燥する乾燥工程とを少なくとも備えた紐状フィラー含有塗布物の製造方法において、塗布工程では、塗布液２２のウエット膜厚をｈとし、クリアランスをｄとしたときに、ｈ＜ｄ≦３ｈを満足するようにクリアランスを設定する。 （もっと読む）

【課題】低い粘度の塗布液を使用しても良好に製膜可能な塗布装置及び多層膜付きフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】ダイ先端部の空間を減圧するための吸引装置と、前記塗布液を貯留するためのポケットと、を備え、前記ポケットは、塗布点よりも下の位置に配置され、下流リップと、前記ウエブと、の最短距離をｄ１とし、隣接リップと、前記ウエブと、の最短距離をｄ２とし、前記隣接リップの前記走行方向の幅をＬ２とし、最上層の膜厚をｈ１とし、最上層を除く全ての膜の総膜厚をｈ２としたとき、式１〜式４の全てを満たすように前記ブロックが設置されて前記ダイが構成された塗布装置。
10μｍ≦（ｄ１−ｄ２）≦200μｍ 式１
ｄ２≦３×ｈ２ 式２
５０μｍ≦Ｌ２≦２００μｍ 式３
dP/dX＞０ 式４ （もっと読む）

【課題】塗工域の塗工始端部又は塗工終端部に生じる盛り上がり部の盛り上がり高さ寸法を小さくする。
【解決手段】基材走行路Ｒの途中に設けられた間欠塗工装置２で、基材走行路Ｒを走行する基材Ｗの表面に基材走行方向に沿って塗工域Ｃと非塗工域Ｄを交互に形成するときに、塗工域Ｃの塗工始端部Ｃａ又は塗工終端部Ｃｂに形成される盛り上がり部Ｑが生じる場合に、盛り上がり部Ｑが通過する基材走行路Ｒの所定箇所Ｒａに向かってガスをＧを噴出させるガス噴出用スリット１３を備えたガス噴出装置７と、ガス噴出用スリット１３から噴出させるガスＧをガス噴出装置７へ設定時間だけ供給するガス供給装置８を備えたこと。 （もっと読む）

【課題】 基材上に良好に塗布膜を形成することができる塗布装置、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システム、塗布方法および塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】 ノズル１１が塗布液を吐出する吐出位置において、基材５を他方主面から支持しつつ、搬送経路８に沿って基材５を走行させる支持ローラ１２に対して、振動付与部１３が振動を付与することで、支持ローラ１２に支持された基材５を介して、基材５の一方主面に塗布された塗布液に振動を付与することができる。これにより、基材５上に塗布された塗布液によって形成される塗布膜の膜厚のばらつきを平坦化することで塗布ムラを軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】基材の幅方向において均一な塗工厚さで塗工液を塗工できる塗工装置を提供する。
【解決手段】前後ヘッド部１６，１８とバー支持部１４の間に幅方向に沿ってそれぞれ形成され、かつ、前後液溜部３２，４２から上部まで延びたスリット状の前後一対の前後流出路３４，４４を有し、前後流出路３４，４４が、下流出路３６，４６と上流出路３８，４８とから形成され、下流出路３６，４６の間隙が、上流出路３８，４８よりも狭い。 （もっと読む）

【課題】 吐出口に連通する全ての流路からの流入量を均一にすることができ、塗布ギャップの影響を最小限とし、従来よりも精度良く膜状塗布を行う技術の提供。
【解決手段】 分岐路構造を有する分岐ブロックと、長手方向に幅広に形成された吐出口を有する先端部材と、分岐路構造に連通する細管流入口および先端部材の吐出口に連通する細管流出口を有する細管を複数本設けてなる管部と、を備え、分岐ブロックは、流入口に連通する流路を分岐させる室からなる分岐部を複数段備え、同一段に設けられた分岐部で分岐された流路の流出口までの長さは等しく構成されており、先端部材は、吐出口を構成する溝部を有しており、吐出口の端面の短手方向の長さＳが細管流出口の内径Ｄより長く構成されており、細管流出口が溝部の最奥面に略等間隔に配設されている膜状塗布ノズル。 （もっと読む）

【課題】
塗布膜厚ムラが小さなウェブを得ることができる塗料塗布装置を提供すること。
【解決手段】
ウェブ上の塗布膜厚を検出する塗布膜厚計と、その結果に基づいて塗布装置上流側にある搬送ロールの高さを調整して塗布膜厚を自動制御する塗布装置からなる構成を有する。 （もっと読む）

【課題】スリット状の吐出口から被処理基板に対して処理液を吐出し、塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、ノズル吐出口のビード量およびノズル吐出口からの吐出圧力の変化に拘わらず、現場オペレータの熟練度に依存することなく、安定した膜厚形成を行うことができ、基板に形成される塗布膜の有効面積を広範囲なものとする。
【解決手段】経過時間Ｔｓにおける推定膜厚Ｔｈは、式（１）により規定され、前記式（１）の推定膜厚Ｔｈに目標膜厚を代入し、基板Ｇの相対的移動速度Ｖを変数とすることにより、時間Ｔｓごとに前記基板の相対的移動速度Ｖを求めるステップと、前記時間Ｔｓごとに求められた前記基板の相対的移動速度Ｖに従い、ノズル吐出口に対する前記基板の相対的移動速度を制御するステップとを含む。
Ｔｈ＝（ΔＢ＋Ｑ）・β／（Ｔｓ・Ｖ・Ｌ） ・・・（１） （もっと読む）

【課題】基板の姿勢を安定に保ちつつ浮上搬送のゆらぎやうねりを補償して塗布膜の膜厚均一性を改善する。
【解決手段】このレジスト塗布装置では、浮上ステージ上で基板の左右両側の縁部を保持する各吸着パッド４２から見てパッド支持部材４０の反対側つまり外側の面に、各吸着パッド４２と同じ形状および同じ材質を有する被測定部材としてのダミーパッド４６を同じ高さ位置に取り付けている。そして、搬送方向（Ｘ方向）においてレジストノズル１８の吐出口１８ａ付近に監視点が設けられ、この監視点を通過する吸着パッド４２の吸着面高さ位置のプロファイルを光学的に監視するための監視部４８が備えられている。 （もっと読む）

【課題】支持体の厚み分布による影響を抑えることで、最終的に製造しようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に制御できる塗布装置、塗布方法、及び塗布製品の製造方法を提供する。
【解決手段】搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布部と、塗布部よりも支持体の搬送方向の上流側に配された厚み調整部と、を備え、厚み調整部は、支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成し、厚み調整層は、最終的に得ようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布である。 （もっと読む）

【課題】塗布層の面の乱れの発生を安定して抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】搬送される帯状のウェブに塗布装置を用いて塗布を行う塗布方法であって、塗布装置は、ウェブの片面に、最終的に得ようとする所望の塗布厚みよりも過剰量の塗布液を塗布するプレコート部と、プレコート部に対してウェブの搬送する方向の下流側に位置し、塗布液の一部を掻き落とす掻き落とし部と、掻き落とし部によって掻き落とされた塗布液を回収する回収ラインとを、備え、プレコート部で塗布する塗布液の量の変化に対する液溜まり部の圧力変化を抵抗係数Ｒとし、液溜まり部の抵抗係数をＲ１とし、回収ラインがないときの抵抗係数をＲ０としたとき、１＜Ｒ１／Ｒ０≦１．７を満たす。 （もっと読む）

【課題】 塗工装置では紙走行の随伴空気流で供給される塗料の挙動が不安定となり、特にカーテンコーターの場合にはカーテン状の塗料膜が容易に揺らいでしまうから、随伴空気に対抗させる対抗空気を吹き付けて随伴空気の風圧を相殺しているが、下流側で周辺空気の滞留が生じ、蒸発した塗料が塗料供給口の周壁面に結露し、水滴が落下して紙の表面を損なうことになることに鑑み、周辺空気の滞留をなくして塗料の結露を生じさせない塗工装置の結露防止装置を提供する。
【解決手段】 前記対抗空気を吹き出すエアカット装置４の上部に、紙Ｐの走行方向Ｑの下流側を指向した吸込口6aが形成された吸引ダクト６を有する排気装置を配設し、周辺空気を吸引させる。このとき、塗料供給口3aから供給される塗料の挙動を乱さない程度の大きさに吸引力を調整する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚制御、特に塗布膜の周縁部の膜厚均一化を容易に行うこと。
【解決手段】この面状塗布ユニット（ＡＣＴ）４０では、ステージ８０の上に基板Ｇを載置して、レジスト液供給機構８６およびノズル移動機構８８を動作させると、長尺ノズル８２の塗布走査により基板Ｇ上に基板の一端から他端に向ってレジスト液の面状塗布膜１００が形成されていく。その際、面状レジスト塗布膜１００が基板Ｇの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜７６と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜７６によって面状レジスト塗布膜１００の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 （もっと読む）

【課題】厚みムラが大きい基板に対しても、口金と基板とが衝突すること防止し、かつ塗布膜に膜切れが発生することのない安定した塗布を行うことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板表面計測部３０は、塗布動作を行う前に、基板Ｗの塗布領域内の各計測設定位置の高さを計測することにより、各計測設定位置の高さ情報をあらかじめ取得し、吐出部高さ調節部２０は、各計測設定位置の高さ情報に基づいて、基板Ｗの最も高い点よりも所定距離分上方に口金１１が位置するよう、塗布動作前に口金１１の高さを調節し、吐出部１０は、基板Ｗに対し水平方向に相対的に移動しながら塗布動作を行い、吐出量調節部４０は、各計測設定位置の高さ情報に基づいて、吐出部１０と基板Ｗとの距離に応じて吐出部１０から塗布領域内の各位置へ吐出すべき塗布液の吐出量を塗布動作中に調節しながら、塗布を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】、本発明は、基板の搬送に関して、非接触型の搬送が可能となる新たな技術的手段を備えた塗布システムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを浮上させる浮上ユニット１０及び浮上させた基板Ｗを搬送する搬送ユニット２０を有する搬送装置１と、搬送される前記基板Ｗの上面に対して塗布液を吐出するノズル３１を有している塗布装置３とを備えている。浮上ユニット１０は、振動子６と、この振動子６の動作に起因して振動し当該振動による放射圧によって基板Ｗを浮上させる振動板７とを有しており、この振動板７は、ノズル３１の直下位置に設けられていること。 （もっと読む）

【課題】基材両面を一対の塗工用ダイで塗工して乾燥させるときに、塗工状態を同一又は希望する状態にできるようにする。
【解決手段】基材走行路Ｒの上流側に配置した基材案内ロール２と、基材走行路Ｒの下流側に配置した浮揚式乾燥装置３と、基材案内ロール２と浮揚式乾燥装置３の間に基材走行路Ｒを挟んで対向配置した一方面側塗工用ダイ７及び他方面側塗工用ダイ８からなり、これら塗工用ダイ７，８の間に塗工間隙Ｓを形成した一対の塗工用ダイ４とを備え、基材走行路Ｒが塗工間隙Ｓにおける厚み方向の基準位置Ｓａを通過するように、塗工隙間Ｓの厚み寸法Ｔを維持させつつ一対の塗工用ダイ４を基材走行路Ｒの一方面側から他方面側へ向かう方向に沿って移動・停止させるダイ移動調節装置５を備えたこと。 （もっと読む）

【課題】塗布膜厚分布の高さ検出を所定精度でいつでも検出を可能にし、膜厚分布測定ができない時は、塗布を停止して不良製品流出を回避する。常に検出器の較正を行い膜厚分布の測定を可能とし、生産性・稼働率で高品質製品の生産を可能とする塗布方法および塗布装置を提供する。更にこの方法および装置を用い高品質で高生産性を維持したプラズマディスプレイ用部材の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】塗布前に被塗布部材９の表面高さを検知するステップと、被塗布部材に塗布膜を形成するステップと、塗布後に被塗布部材の表面高さ９ａを検知するステップと、塗布前後の被塗布部材の高さより塗布膜の厚さを演算して求めるステップと、を有する塗布方法で、塗布前後の表面高さを検知するステップの前、中または後に連続して、異なる高さの２以上の基準面を持つ基準器６を用い基準器高さを測定する塗布方法。 （もっと読む）