【課題】光方向変換物品およびその形成方法を提供する。
【解決手段】光方向変換物品を形成する方法が提供され、基体の表面が埋め込み物質の層を適用することによりコンディショニングされる。マイクロ球体の最密充填層が、乾燥支援自己組織化を用いて組織化され、コンディショニングされた表面に適用される。マイクロ球体は、次いで、埋め込み物質の層の表面に中間的に埋め込まれる。 （もっと読む）

【課題】 成形時の側面形成ブロックとコアブロックの間でのカジリの発生を防止するとともに成形品への問題となるバリの形成を防止することができる射出圧縮成形金型を提供する。
【解決手段】 金型本体部１５と一体に設けられるコアブロック１８と、コアブロック１８に対して型開閉方向に相対位置変更される側面形成ブロック２９，３０，３１とが第１の金型１２に設けられ、側面形成ブロック２９，３０，３１と第２の金型１３とが面当接されて容積可変のキャビティＣ１，Ｃ２が形成される射出圧縮成形金型１１において、側面形成ブロック２９，３０はコアブロック１８に向けて押圧されるとともに、側面形成ブロック２９，３０，３１の内側面２９ｂ，３０ｂ，３１ｂおよびコアブロック１８の外側面１８ｂの少なくとも一方には耐摩耗加工Ｗがなされている。 （もっと読む）

【課題】被転写基板の形状の波長が大きく異なる反り及び表面突起（異物）の双方に同時に追従し、欠陥が少なく均一な転写を行うことができる新規な構造を有するナノインプリント用スタンパを提供する。
【解決手段】ナノインプリント用スタンパ１であって、光透過性硬質基板７と、光透過性弾性体プレート９と、光透過性で可撓性の硬質スタンパベース１１と、光透過性スタンパ緩衝層１３と、光透過性スタンプパターン層１５とから構成されており、前記スタンパ緩衝層のヤング率が前記スタンプパターン層のヤング率よりも低いことを特徴とするナノインプリント用スタンパ。 （もっと読む）

【課題】 電鋳液中における電鋳層の形成と、予め母型（又は他部材）の表面に付着させた粒子の電鋳液中への溶け出しとが同時進行することによって、工程数や製造時間の軽減を図り、通気孔の形成位置を安定化することのできる多孔質電鋳殻の製造方法を提供する。
【解決手段】 電鋳処理が開始されると、ホウ酸粒子２の存在部分を除く銀めっき膜５の表面にスルファミン酸ニッケル水溶液から析出したニッケルが電着してニッケル析出層９を形成する。それと同時進行する形で、ホウ酸粒子２はスルファミン酸ニッケル水溶液中に徐々に溶け出していく。やがて、ホウ酸粒子２はほぼ全部がスルファミン酸ニッケル水溶液中に溶け出し、それに置き換わる形で、通気孔１０がニッケル析出層９に形成される。その後もニッケル析出層９及び通気孔１０は銀めっき膜５上に成長を続け、多孔質電鋳殻１１が完成する。 （もっと読む）

テンプレート、およびリソグラフィを目的とした、ナノ構造を用いてナノスケールで高アスペクト比テンプレート、スタンプおよびインプリンティングを製造する方法、ならびに材料および製品に穿孔するためのテンプレートの使用。
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【課題】 本発明は、超微小サイズのパターン及び異物の検査について、高感度、高速及び高スループットを実現できるインプリント用ガラス基板、レジストパターン形成方法、インプリント用ガラス基板の検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 インプリント用の微細パターン１５が形成されたパターン面１１を有するガラス基板１０を備えたインプリント用ガラス基板３０であって、
該パターン面に、透明導電膜２０が被覆されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】内圧成形法で複雑な形状を有する中空成形品を成形するのに好適な方法及び装置を提供する。
【解決手段】中空成形基材１の中空部２ｂに袋状体２２を挿入し、次いで中空部２ｂに充填材１４を充填する。そして、成形型１１のキャビティ空間部内で袋状体２２に加圧流体を供給して袋状体２２を膨張させる。これにより、充填材１４を介して袋状体２２の押圧力を中空成形基材１に伝達し、中空成形基材１を成形型１１のキャビティ面１２ａ、１３ａに押圧して中空成形品を成形する。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンが形成された基板から、容易に他の基板等に正確なパターン転写を行うことができる微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも片側に凹凸パターンが形成された第一の基板１１上に、誘電体膜１５を形成する。第一の基板１１とパターン転写先の第二の基板１４とを、第一の基板１１側から順にフッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２及びフッ素未含有の第二の紫外線硬化性樹脂１３を介して結合させる。第一の基板１１と第二の基板１４とを、誘電体膜１５とフッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２との境界で分離し、フッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２に凹凸パターンを転写する。 （もっと読む）

【課題】成形面の修復を容易に行うことができる光学素子成形用の金型等を提供する。
【解決手段】光学素子をプレス成形により製造するために用いられる光学素子成形用の金型であって、母材１１と、母材１１に接触して形成され、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｔｉから選ばれる少なくとも一種の元素を含む第１被膜層１２と、第１被膜層１２に接触して形成され、ＣおよびＳｉを含む第２被膜層１３と、を有することを特徴とする光学素子成形用の金型１０。 （もっと読む）

（Ａ）少なくとも１つの支持体材料、
（Ｂ）少なくとも１層の結合層、及び
（Ｃ）その層厚さ全体を通る毛細管を含む、少なくとも１層のポリウレタン層、
を含む複数層の複合体を連続的に製造するための方法であって、
型を使用してポリウレタン層（Ｃ）を製造し、及び前記結合層（Ｂ）に変換される材料を使用して、前記ポリウレタン層（Ｃ）を、前記支持体材料（Ａ）の上に取り付けることを含み、前記型は、８０〜１７０℃の温度を有し、及び熱容量が１００〜２００００Ｊ／Ｋ・ｍ²の範囲であることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】好適に所望するマイクロレンズを形成することの出来るマイクロレンズモールド製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、マスクを形成し、基板に異方性エッチングを行った後、等方性エッチングを行うことを特徴とする。本発明の構成によれば、異方性エッチングを行う工程によりパターンの深さを制御することが出来、等方性エッチングを行う工程にり曲面構造にすることが出来る。このとき、深さ方向への加工と曲面を成す加工とが別工程であるため、形状制御を行うことが容易であり、所望するアスペクト比の曲面構造パターンを好適に基板に形成することが出来る。 （もっと読む）

【課題】生タイヤおよびタイヤ加硫用ゴムブラダーのいずれにも離型剤を塗布等する必要なしに、製品タイヤを加硫用ゴムブラダーから容易に、かつ確実に離型させることができるタイヤ加硫用ゴムブラダーを提供する。
【解決手段】加硫金型の内側に配設されて、生タイヤを加硫金型の成型表面に押圧し、ゴムブラダー１の、タイヤとの接触表面に不織布からなる離型層３を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】炭素を含む材料に、表面を平滑に保持しつつ、微細な凹凸構造を形成可能な表面加工方法等を提供する。
【解決手段】処理装置３０で、炭素を含む材料である被処理物３１の表面を、水素が体積含有比率で５０％以上含むガスまたはフルオロカーボンと酸素とからなりフルオロカーボンと酸素との体積含有比率が１：４〜１：１であるガスを処理ガスとし、この処理ガスから生成したプラズマを用いて反応性イオンエッチング等の乾式エッチングを行い加工することにより、突起状の凹凸または孔状の凹凸を含む微細構造を作製する表面処理方法等を製造する。 （もっと読む）

【課題】被転写基板の局所的な突起に追従し、パターン転写不良領域を低減することが可能で、耐久性のあるスタンパおよび転写方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されたインプリント用スタンパ１０１において、前記凹凸形状が形成された樹脂製のパターン層１０２と、前記パターン層１０２の裏面に配置された樹脂製の緩衝層１０３と、前記緩衝層１０３の裏面に配置された基材層１０４とを有し、前記緩衝層１０３のヤング率が前記パターン層１０２のヤング率よりも小さく、前記基材層１０４のヤング率が前記緩衝層１０３のヤング率よりも大きいことを特徴とするインプリント用スタンパ１０１。 （もっと読む）

【課題】離型剤をモールド本体の表面に十分に定着させることができるモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ｉ）表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体１６を作製する工程と、（II）モールド本体１６の微細凹凸構造が形成された側の表面に、官能基（Ａ）を導入する工程と、（III）工程（II）の後、モールド本体１６の微細凹凸構造が形成された側の表面を、官能基（Ａ）と反応し得る官能基（Ｂ）を有する離型剤で処理する工程とを有するモールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】成形型と転写層の剥離工程における成形型の破損を抑制し、かつ成形時における反りが小さい成形型を提供する。
【解決手段】成形型１は、一方の面側に凹凸パターンを有する第１の基板１１と、前記第１の基板１１の前記凹凸パターン形成面の反対側に接合された第２の基板１２と、前記第２の基板１２を前記第１の基板１１とで挟持して配置され、前記第２の基板１２と接合された第３の基板１３と、を具備し、前記第１の基板１１と前記第３の基板１３は熱膨張係数が同一あるいは略同一の材料からなる。 （もっと読む）

【課題】成形品の品質を十分に向上させることができ、成形サイクルを十分に短くすることができるようにする。
【解決手段】第１の金型と、第１の金型との間にキャビティ空間Ｃ１、Ｃ２を形成する第２の金型と、第１、第２の金型のうちの少なくとも一方におけるキャビティ空間Ｃ１、Ｃ２の内周面に配設され、所定のタイミングで成形材料を加熱する加熱部とを有する。所定のタイミングで、第１、第２の金型のうちの少なくとも一方におけるキャビティ空間Ｃ１、Ｃ２の内周面に配設された加熱部によって成形材料が加熱されるので、成形材料の流動性を高くすることができる。その結果、成形品の品質を十分に向上させることができる。成形材料は、加熱が終了した後、冷却されるので、固化させるのに必要な時間を一層短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の金型を用いて、輝度ムラを解消して高輝度特性を達成した光学フィルムのインプリント成形品を提供する。
【解決手段】表面に直線状の複数本の溝が平行に接して並んだ金型であって、各溝の長手方向に垂直な任意の切断面における断面凹形状が線対称な曲線の一部分で、線対称軸から離れるに従い曲線上の点における接線と線対称軸に平行な線とのなす鋭角の角度が漸減する曲線であり、前記各断面凹形状の線対称軸が平行であり、隣り合う溝の断面凹形状の交点部において、一方の断面凹形状の該交点部における接線と線対称軸に平行な直線とのなす鋭角の角度をθ_１、他方の断面凹形状の交点部における接線と線対称軸に平行な直線とのなす鋭角の角度をθ_２とすると、全ての交点部の少なくとも一方の角度が２５°以下で、かつ各々が異なっており、前記任意の隣り合う溝において、切断面が該溝の長手方向に沿って移動するにつれて交点部の角度が変動する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント材料層に転写されたパターンの位置精度を高めることが可能なテンプレート及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】テンプレート１１０は、基板１１１と、基板に形成された素子パターンと、基板上又は基板内部に形成された光吸収部１１５とを備える。ナノインプリント材料層に素子パターンを転写する工程の前又は最中に、前記光吸収部に照射光を照射して前記テンプレートを熱膨張させることで前記素子パターンの位置を変位させることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

（a）第一の面上に規定のインプリント表面パターンおよび第一の面と反対側の第二の面上に規定のインプリント表面パターンを有するインプリント基板金型を提供する段階;（b）ポリマー構造をインプリント基板金型の第一の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階;ならびに（c）別のポリマー構造をインプリント基板金型の第二の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階を含む、ポリマー構造上にインプリントを作製する方法が開示される。

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