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Fターム[4F202AJ06]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 装置又は装置部材の材料の特徴 (5,523) | 材質の特徴 (3,074) | セラミックス (547)

Fターム[4F202AJ06]に分類される特許

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【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板2上にハードマスク層3を有するマスクブランクス1において、前記ハードマスク層1は、前記基板2の側から第一層5と第二層6とが配される積層構造を有する。前記第一層5は、前記基板2に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層6は、前記第一層5に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層3上に形成されるレジストパターン4をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層5に対するエッチングの間は前記第二層6が当該第一層5のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層6を形成する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリント方法において、光硬化性組成物の揮発を抑制しつつ、残留気体を低減する。
【解決手段】凹凸を有するモールドと、基板上に形成した光硬化性組成物層とを密着させて凹凸の形状を光硬化性組成物層に転写するナノインプリント方法において、モールドおよび基板のいずれか一方または両方が石英からなり、モールドと光硬化性組成物とを、それらの間に、10kPa以上90kPa以下の気圧を有し、かつ、少なくとも70体積%がHeからなる気体を介在させた状態で密着させる。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置の構成の複雑化を抑えながらインプリント処理のスループットおよび/または収率を向上させる。
【解決手段】インプリント装置は、基板に樹脂を塗布し該樹脂に型を押し付けた状態で該樹脂を硬化させる。前記型は、ポーラス層を有する。前記インプリント装置は、前記型を保持するチャックと、前記チャックによって保持された前記型の前記ポーラス層から気体が排出されるように前記ポーラス層に気体を供給する供給部とを備える。 (もっと読む)


【課題】成形材料の加熱に要する所要時間を短縮すると共に、そのエネルギー効率を改善し、装置の小型化を可能とすることを目的としている。
【解決手段】熱可塑性材料を成形加工して光学素子とする成形型1のうち、光学素子の少なくとも光学的有効面を成形する成形部2a及び3aを電流の供給により発熱する導電性材料で形成すると共に、成形部2a及び3aに電流を供給するための一対の電極2c及び3cを成形部2a及び3aにそれぞれ電気的に接続させて設けている。 (もっと読む)


【課題】被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】乾燥工程にて、基部13の一方の面から突出する凸構造部14を有する基材12の凸構造部14が突出している側の面に、濡れ性変化樹脂材料塗布液を塗布して被覆し、その後、乾燥処理を施して、表面の水接触角が90°以上、かつ、硬度が400以上である樹脂層15を形成し、濡れ性変化工程にて、基部13上に位置する樹脂層15に光を照射して、表面の水接触角が10°以下の樹脂層15aとし、遮光膜形成工程にて、樹脂層15、15a上に遮光膜形成用組成液を塗布して、乾燥、硬化することにより、基部13上に位置する樹脂層15a上に遮光膜17を形成し、凹部形成工程にて、凸構造部14上に位置する樹脂層15とマスターモールド21とを圧着し、その後、離間して、樹脂層15に凹部16を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、金属部材と合成樹脂材との密着性が高くかつ金型の加熱から冷却に至る成形サイクルの時間を短縮できる射出成形方法およびその射出成形用金型を提供する。
【解決手段】本発明は、高周波磁気誘導コイルにて溶融合成樹脂の溶融温度よりも高い温度の状態で金型のキャビティで金属部材を予備加熱して後、前記キャビティに溶融合成樹脂を射出し注入することにより前記金属部材を合成樹脂材と一体に成形する方法で、その射出成形用金型は金型本体2に形成したキャビティ22の表面に磁気誘導を受けやすい導電材からなる磁気誘導層22Aを形成して、溶融合成樹脂をキャビティ22に射出し注入する前に高周波磁気誘導コイル23にて発生する磁力線Lがキャビティ22を通過し磁気誘導層22Aに渦電流を発生させるようにした。 (もっと読む)


本発明は、光硬化性ポリマー組成物を硬化させるための一体型照射ユニット、一体型照射ユニットを用いて硬化ポリマー成形体又は硬化ポリマーで被覆した物体を製造する方法、及び硬化ポリマー成形体又は硬化ポリマーで被覆した物体を製造するための一体型照射ユニットの使用に関する。 (もっと読む)


【課題】石膏鋳造法による鋳造製品は、石膏鋳型の勘合の僅かなずれ及び鋳造時の押湯高さの違いにより、後加工となる機械加工原点のばらつきを生じ製品寸法がばらつくという問題があった。
【解決手段】製品寸法に収縮率を付与したマスターモデルにさらに加工代を追加した上で、加工代に冷却促進作用を有する加工基準部材15a〜15dを挿入したマスターモデル1を元に石膏鋳型3を作成する。この石膏鋳型を用いて鋳造製品4を製作した場合、加工基準部材が鋳造後の鋳物の収縮状態を把握する点と点をなし一連の加工基準となり、精密な構造の製品が製造可能となる。 (もっと読む)


高コントラスト材料の位置合わせマークを有するテンプレートを形成するためのシステム及び方法を説明する。高コントラスト材料は、位置合わせマークの凹部内に位置することができる。 (もっと読む)


【課題】モールドを用いて繰り返しパターン転写を行っても、離型性に優れ、かつ、モールドの劣化が抑制できる離型剤を提供する。
【解決手段】モールドの材料と化学的に反応する官能基を1つまたは2つ有する化合物をインプリント用モールド離型剤として用いる。 (もっと読む)


【課題】インプリントモールドの離型(剥離)を容易にするための凹部を精度良く形成でき、且つそのような加工の工程負荷が小さくて済み、さらに凹部を形成することによるモールドの強度や剛性の低下を抑えたインプリントモールドの作製に用いるマスクブランク用基板を提供する。
【解決手段】基板と該基板の表側主表面上に形成された薄膜とを有してなり、前記薄膜及び基板をエッチング加工してインプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いる基板である。この基板1は、所定の形状の孔2を穿設してなる基材1aを含む少なくとも2枚の基材を接合することにより基板の裏側主表面にその少なくとも外周部を除く領域に上記孔2からなる凹部3を形成したものである。 (もっと読む)


【課題】反射防止構造体を有するマスター型を用いて、レンズアレイ基材の光学面転写予定面のレジスト層に反射防止構造体を転写し、均一な反射防止構造体を成形可能として高精度なレンズアレイを得る。
【解決手段】光学面に反射防止構造体14を有する複数のレンズを共通の基材に二次元的に配置したレンズアレイの製造方法であって、光学面形成面12が形成されたマスター型10を準備する工程(S1)と、マスター型10の光学面形成面12に反射防止構造体14を形成する工程(S2)と、光学面転写予定面24を有するレンズアレイ基材23を準備する工程(S3)と、レンズアレイ基材23の光学面転写予定面24にマスター型10を用いて反射防止構造体14を転写する工程(S7)とを含む。 (もっと読む)


【課題】バリの発生を抑制することのできるレンズアレイ用成形型を提供する。
【解決手段】上型及び下型を備え、複数の貫通孔が配設された基板及び複数の前記貫通孔の各々に供給される樹脂材料を該上型及び該下型で挟み、前記基板と一体に複数の前記貫通孔の各々にレンズを形成するレンズアレイ用成形型であって、前記上型及び前記下型は、前記基板を支持する支持面と、前記基板における複数の前記貫通孔と同じ並びで該支持面に配設された複数のレンズ成形部とをそれぞれ有しており、前記下型の複数の前記レンズ成形部の各々は、その全体が対応する前記貫通孔に収容され、前記下型の前記支持面は、複数の前記貫通孔の各々の縁に全周に亘って密接する。 (もっと読む)


【課題】熱ナノインプリントリソグラフィ用モールドを提供する。
【解決手段】第1主面22、および第2主面23と、スルーキャビティ24を有し、基板21と、熱伝導層33と、任意で、前記熱伝導性機械的支持層33の下方に位置する絶縁層と、前記第2開口28の上方32における前記第2の膜30の領域内において前記第2の膜30の他方の側35に位置する加熱手段34と、前記加熱手段34を覆い、前記第2の膜30を少なくとも部分的に覆う絶縁断熱層36と、前記第2開口28の上方における前記絶縁断熱層36の領域内において前記絶縁断熱層36上に位置するインプリントパターン37と、前記加熱手段34に電流を供給するための手段38とを備える。 (もっと読む)


【課題】インプリントにおいて、モールドと被加工基板上の樹脂とを離型するに際して、離型速度を制御して離型時の欠陥発生を低減したモールドおよびそのモールドを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】凹凸のパターンを形成したモールドを被加工基板上の樹脂に押し付け、前記樹脂を硬化させるとともに前記樹脂に前記パターンを転写した後、前記モールドを前記樹脂から離型するインプリント法に用いるインプリント用モールドであって、前記モールド上の前記パターンが、転写すべき主パターンと、離型する際の離型力調節用のダミーパターンとを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、複合積層材料体に接する磁性材料体を用いて高周波誘導加熱により、複合積層材料体を加熱してプレス成形することを目的とする。
【解決手段】本発明による複合積層材料体の成形装置及び方法は、加熱手段(4)が上部金型(1)及び下部金型(5)の一方又は両方の表面に形成されるか、又は、複合積層材料体(6)に貼り付けられた磁性材料体(13,14)と、各金型(1,5)の外部に配設され高周波電源(15)に接続されたコイル群(16)と、からなり、前記複合積層材料体(6)は高周波電源(15)及びコイル群(16)による磁性材料体(13,14)の高周波誘導加熱により加熱され、磁性材料体(13,14)のキュリー温度が熱可塑性樹脂の溶融温度あるいは熱硬化性樹脂の硬化温度以上とした構成と方法である。 (もっと読む)


【課題】加工性に優れたインプリント用ブランクス、インプリント用テンプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のインプリント用ブランクス10は、下地層11と、下地層11上に積層され、sp混成軌道を形成する炭素とsp混成軌道を形成する炭素との混合比が、積層方向に隣接する層間で異なる複数のダイヤモンドライクカーボン層12、13と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】耐熱性及び耐摩耗性に優れた金型を実現できるようにする。
【解決手段】金型は、金型本体と、金型本体を覆い且つ硅素を含むダイヤモンド様薄膜とを備えている。耐熱性のダイヤモンド様薄膜は、基材の表面に形成され、硅素を含み、基材との界面における硅素濃度が、表面における硅素濃度よりも高く、基材との界面と表面との間における硅素濃度の変化が連続的である。 (もっと読む)


【課題】小さな型に形成されている微細な転写パターンを用いて複数回の転写を行い、多数個型を製造する多数個型の製造方法において、多数個型に形成されている微細な転写パターンの間隔を小さくする。
【解決手段】スピンオンガラスW2を、基材W1の面に膜状に設けるスピンオンガラス設置工程と、スピンオンガラス設置面よりも面積が小さい平面状の部位に微細な転写パターンが形成されている型M1で、スピンオンガラス設置面を押圧する動作を複数回繰り返して行い、スピンオンガラスW2の複数箇所に、型M1に形成されている微細な転写パターンを転写する転写工程と、スピンオンガラスW2に微細な転写パターンが転写された基材を用い、電鋳により、インプリント用型Mを生成するインプリント用型生成工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】 保護層を有する金型を形成する方法を提供する。
【解決手段】 保護層を有する金型を形成する方法が、少なくとも1つの実質的に平坦な面を有する金型基板を形成することと、少なくとも1つの実質的に平坦な面の上に金型保護材料の層を堆積させることと、金型保護層を通って、少なくとも1つの実質的に平坦な面内に複数のキャビティをエッチングすることとを含む。 (もっと読む)


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