【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて従来技術に比してパターン形成性をより向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターンを有する基板１２と、この凹凸パターンに沿ってこの凹凸パターンの表面に形成された離型層１４とを備えるモールドを用いて、基板２上に塗布されたレジスト３を押圧し、上記凹凸パターンが転写されたレジストパターンを形成するナノインプリント方法において、上記レジストパターンのラインの幅が所望の値となるように、上記離型層１４の厚さと、上記モールドを用いて上記レジスト３を押圧する際の押圧圧力の大きさとを調整する。これにより、レジストパターンのラインの幅を制御する。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】浸透性の高い活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて転写を行う場合でも、被転写体から容易に剥離できるレプリカモールド、およびこのレプリカモールドを用いて製造した微細凹凸構造を表面に有する成形体とその製造方法の提供。
【解決手段】本発明のレプリカモールド１０は、隣り合う凸部１６の平均間隔が４００ｎｍ以下の微細凹凸構造を表面に有し、前記微細凹凸構造が、硬化後の表面自由エネルギーが３９ｍＪ／ｍ^２以上である活性エネルギー線硬化性樹脂（α）を（１００−Ｙ）質量％と、シリコーンアクリレート（β）をＹ質量％含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（Ｉ）の硬化物１４からなり、前記活性エネルギー線硬化性樹脂（α）の硬化後の表面自由エネルギーをＸｍＪ／ｍ^２としたときに、ＸとＹが式（−０．６６Ｘ＋３０≦Ｙ（ただし、３９≦Ｘ＜４３．４））または（０．２≦Ｙ（ただし、４３．４≦Ｘ））を満たす。 （もっと読む）

【課題】インプリント領域に異物や凹凸が存在する場合に、モールドの交換を行うことなく、パターン形成時のモールドの破損を防止するインプリント装置を提供する。
【解決手段】モールド３は、パターンを形成するための凹凸パターンを有する第１押印部２０と、ダミー用の第２押印部２１との少なくとも２つの押印部を有する。制御手段は、異物検査手段の検査結果に基づいて、インプリント領域に異物、又は凹凸が存在するかどうかを判定し、存在しないと判定した場合には、第１押印部２０を選択し、一方、存在すると判定した場合には、第２押印部２１を選択し、第２押印部２１を選択した場合には、第２押印部２１が第１押印部２０よりも基板５との距離が近くなるように退避手段を制御した後、第２押印部２１と未硬化樹脂との接触を実行させる。 （もっと読む）

【課題】積層フィルムのカールを効率よく矯正する。
【解決手段】第１相転移工程ではカールした状態の積層フィルムのうち外側の支持層１０ｓへ水蒸気５６を接触させる。支持層１０ｓのガラス転移温度Ｔｇが下がる。支持層１０ｓでは、ガラス状態のゴム状態への相転移が起こる。第２相転移工程では支持層１０ｓへの水蒸気の供給を停止する。支持層１０ｓのガラス転移温度Ｔｇが上昇する。支持層１０ｓでは、ゴム状態からガラス状態への相転移が起こる。相転移により、当初のカールを矯正しうるカールが生じる。第１相転移工程と第２相転移工程とを連続して行うことにより、当初のカールを矯正することができる。第１相転移工程と並行して、ハードコート層１０ｈを冷却する冷却工程を行う。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、インプリント領域に存在する異物を効率良く検出するインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置は、モールド３を保持する保持手段４と、基板５上にて樹脂のパターンを形成するインプリント領域１５に、異物が存在するかどうかを検査する異物検査手段８ａと、インプリント領域１５に未硬化樹脂を塗布する塗布手段７ａと、保持手段４に対してインプリント領域１５を相対的に移動させる移動手段６と、各構成要素の動作を制御する制御手段とを備える。移動手段６は、異物検査手段８ａによる検査位置、塗布手段７ａによる塗布位置、及び保持手段４による押印位置のそれぞれにインプリント領域１５を移動可能である。また、制御手段は、移動手段６によるインプリント領域の動きと連動させて、異物検査手段８ａに対してインプリント領域の検査を実施させる。 （もっと読む）

【課題】反転パターンの寸法精度を向上させる。
【解決手段】本実施形態によれば、パターン形成方法は、基板上に第１パターンを形成する工程と、前記第１パターンの上部に紫外線を照射し、反転樹脂材料に対する撥液性を高める工程と、を備える。さらに、このパターン形成方法は、紫外線の照射後に、前記基板上に前記反転樹脂材料を塗布する工程と、前記反転樹脂材料の塗布後に前記第１パターンを除去し、前記反転樹脂材料を含む第２パターンを形成する工程と、前記第２パターンをマスクとして、前記基板を加工する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｅ）と、界面活性剤(Ｆ)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】離型性能の点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置は、基板１０上の未硬化樹脂をテンプレート７中の型７ａにより成形して硬化させ、硬化した樹脂１２からテンプレート７の撓みを伴う離型を行い、基板１０上に樹脂１２のパターンを形成する。この場合、インプリント装置は、型７ａの外縁７ｂの領域を引きつけてテンプレート７を保持するテンプレート保持部と、テンプレート保持部に対向し、基板１０を保持する基板保持部と、押型または離型を選択的に行うようにテンプレート保持部と基板保持部とを相対的に移動させる駆動機構とを有し、樹脂１２のパターンにおける離型の完了する領域が撓みによりパターンの中央の領域からずれるように、テンプレート保持部でテンプレート７を引きつけて離型を行う。 （もっと読む）

【課題】入射光の反射率及び回折光を低減できる微細構造体を提供すること。
【解決手段】本発明の微細構造体１は、基材１１と、基材１１主面から上方に突出する複数の凸部１３を含み基材１１上に設けられた微細構造層１２とを具備し、複数の凸部１３が基材１１主面内のＹ軸方向においてピッチＰ１で配列されて凸部列１３−１〜１３−Ｎを構成し、凸部列１３−１〜１３−ＮがＹ軸方向と直交するＸ軸方向にピッチＰ２で並設されており、隣接する第１凸部列１３−１及び第２凸部列１３−２間のＹ軸方向におけるシフト量α１と、第２凸部列１３−２及び第２凸部列１３−２に隣接する第３凸部列１３−２間のＹ軸方向におけるシフト量α２とが互いに異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ショット領域間の相対位置の計測を容易に行いうるインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、基準マークが形成されたモールドを保持する支持体と、各ショット領域に第１マーク及び第２マークが形成された基板を保持する基板ステージと、前記各ショット領域に形成された前記第１マーク及び前記第２マークと前記モールドに形成された前記基準マークとを検出することによって前記各ショット領域間の相対位置を計測する検出器とを備える。前記検出器は、隣接しあう２つのショット領域のそれぞれに形成された隣接しあう前記第１マーク及び前記第２マークそれぞれの前記基準マークに対する位置を検出することによって、隣接しあう前記２つのショット領域間の相対位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】 金属表面に形成された凹状又は凸状のパターンを有する印刷版面を短時間で、かつ、高精度に再現できるパターン形成体を提供する。
【解決手段】 第一の金属原版の凹状又は凸状パターンを転写するためのパターン形成体において、金属板上に形成される光硬化性のパターン形成材料と光硬化性のパターン形成材料中に埋没させるパターン形成材料を補強し、光硬化効率を高めるための光透過性の補強板と、光硬化性パターン形成材料の中に光透過性の補強板が第一の金属原版に接触しないように配置された支持体から成るパターン形成体及び複製方法である。 （もっと読む）

【課題】パターン形成不良を防止しつつ基板上に多くのショットパターンを形成する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法が提供される。前記パターン形成方法では、インプリントによって基板に回路パターンを形成する前の処理として、前記基板上でインプリントショットとなる領域の周囲を所定の高さで前記インプリントショット毎に囲うことによってインプリントショット間を遮断する壁パターンを形成する。そして、前記壁パターンで囲まれたインプリントショット内に、インプリント材を滴下する。そして、前記インプリント材にテンプレートを押し当てることにより、前記壁パターンで囲まれたインプリントショット内に、前記回路パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】インプリントレジスト特徴寸法の拡大を可能にするパターン化磁気記録ディスクの製作方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、インプリントレジストがＮＩＬによりパターン化された後インプリントレジスト特徴部の寸法を拡大する。インプリントレジスト材料の層は、ブランクディスク上に堆積される。インプリントレジスト層はＮＩＬによりパターン化され、上部から基部まで傾斜した側壁を有する複数の離間されたレジスト柱を生じる。被覆層が、傾斜したレジスト柱側壁の上を含むパターン化されたレジスト層の上に堆積される。被覆層は次に、レジスト柱間の空間部内にブランクディスクを露出する一方で傾斜したレジスト柱側壁上に被覆層を残すためにエッチングされる。レジスト柱は次に、ブランクディスクをエッチングするためのマスクとして使用され、ブランクディスク上に複数の個別のアイランドを残す。 （もっと読む）

【課題】離型時のテンプレートおよびレジストパターンへの衝撃を可及的に低減すること。
【解決手段】第１の硬化性樹脂材料を被処理基板に塗布して、前記第１の硬化性樹脂材料が塗布された被処理基板にテンプレートに作成された半導体集積回路のパターンを転写するインプリント方法であって、１回の転写によりパターンが形成される領域のうちの外周部のうちの少なくとも一部に前記第１の硬化性樹脂材料よりも離型性が高い第２の硬化性樹脂材料を塗布するステップを備える、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細凹凸構造が表面に形成された物品の製造を終了する際にモールドの表面に発生する表面欠陥が、物品の製造を再開した際に物品の表面に転写されることを抑制することができる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の硬化性樹脂組成物３９を、微細凹凸構造を表面に有するロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成し、物品４０を得る工程（Ｉ）、内部離型剤を含む第２の硬化性樹脂組成物３８をロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成する工程（II）、第１の硬化性樹脂組成物３９または第３の硬化性樹脂組成物をロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、硬化させて、物品４０を得る工程（III）を有する製造方法。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れたインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供、該材料組成物を含んでなる樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド並びにそれらの製造方法の提供。
【解決手段】インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂と、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）０．１〜１０重量％とを含む、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物。好ましくは、フッ素系ポリマー（Ａ）が、
（ａ１）炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート、および
（ａ２）ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が５０℃以上を示す高軟化点モノマー ５〜１２０重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が３，０００〜２０，０００であるフッ素系ポリマー（Ａ１）である材料組成物。 （もっと読む）

【課題】モールドの離型中における計測器による計測の正確さの点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】型を保持する保持部と、基板または前記型の位置決めに係る物体の位置を計測する計測器と、前記保持部を支持する第１支持体と、前記計測器を支持する第２支持体と、前記第１支持体および前記第２支持体を支持する第３支持体と、前記第３支持体の鉛直方向上方、かつ、前記第１支持体と前記第２支持体との間に設けられ、鉛直方向の剛性がそれ以外の方向の剛性より高い継手機構と、を有し、前記第３支持体は、前記第１支持体および前記第２支持体の一方および前記継手機構を介して前記第１支持体および前記第２支持体の他方を支持する。 （もっと読む）