【課題】ナノインプリント等の転写成形による、基板表面に屈折率の高い微細構造を有した光学デバイスを提供する。
【解決手段】基板表面に微細構造が形成された光学デバイスであって、一般式（１）で表わされるエピスルフィド化合物と光塩基発生剤を含有する光硬化性組成物を用いることを特徴とする光学デバイス。


（式中、ｍは０から６の整数、ｎは０から４の整数であり、Ｒ^１，Ｒ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはＣ１〜Ｃ１０の炭化水素であり、Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立にＣ１〜Ｃ１０の炭化水素である。） （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、レジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体によるインプリント欠陥の発生を抑制する。
【解決手段】インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、インクジェット法における主走査方向Ｓｍとライン状凹凸パターンＰ２のライン方向Ｌｄとの交差角度であって、モールド２を押し付ける際の交差角度が３０〜９０°となるように、レジスト材料の粘度が８〜２０ｃＰであり、レジスト材料の表面エネルギーが２５〜３５ｍＮ／ｍであり、複数の液滴Ｄそれぞれの液滴量が１〜１０ｐｌであり、複数の液滴Ｄの配置間隔が１０〜１０００μｍである条件の下で、上記液滴Ｄを塗布し、雰囲気がＨｅ雰囲気および／または減圧雰囲気である条件の下で、上記モールド２を押し付ける。 （もっと読む）

【課題】化学増幅レジストの性能を引き出すことにより、高い解像性能と良好なパターン品質を有するレジストパターンが得られるレジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】基体上に化学増幅レジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程後、レジスト塗布基体に対してベークを行うパターン露光前ベーク工程と、を有し、前記パターン露光前ベーク工程後に形成されることになるパターン未露光のレジスト層に対して現像剤による減膜処理を行うとすると前記レジスト層の残膜率が９５％以上となる時間及び温度条件にて、前記パターン露光前ベーク工程を行う。 （もっと読む）

【課題】被転写基板の局所的な突起に追従し、パターン転写不良領域を低減することが可能で、耐久性のあるスタンパおよび転写方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されたインプリント用スタンパにおいて、前記凹凸形状が形成された樹脂製のパターン層と、前記パターン層の裏面に配置された樹脂製の緩衝層と、前記緩衝層の裏面に配置された基材層とを有し、前記緩衝層のヤング率が前記パターン層のヤング率よりも小さく、前記基材層のヤング率が前記緩衝層のヤング率よりも大きいことを特徴とするインプリント用スタンパ。 （もっと読む）

【課題】被成形対象に押し当てることによって前記被成形対象に微細なパターンを転写する転写用の型であって、製造が容易である転写用の型を提供する。
【解決手段】被成形対象１３に押し当てることによって被成形対象１３に微細なパターンを転写する転写用の型４１において、転写を行うための転写装置１に着脱自在であると共に、転写装置１に取り付けられた状態で受ける力、転写装置１に取り付けられ押し当てがされたときに受ける力に対して、剛性を備えたベース部材１０３と、微細な転写パターンが形成されベース部材１０３に一体的に貼り付けられている剛性の小さい型部材１０４とを有する。 （もっと読む）

【課題】被転写基板からテンプレートを離型する際の被転写基板の脱離を抑制することが可能なインプリント装置及び方法を提供する。
【解決手段】インプリント装置は、インプリント用のテンプレート１０１を保持するテンプレート保持部と、前記テンプレートを、被転写基板２０１上の光硬化樹脂２０２に押印するよう移動させる、又は前記光硬化樹脂から離型するよう移動させるテンプレート移動部を備える。更に、前記装置は、前記光硬化樹脂に光を照射して、前記光硬化樹脂を硬化する光源１１４を備える。更に、前記装置は、前記テンプレートを前記光硬化樹脂から離型する際に、前記テンプレートの離型速度又は離型角度を、前記テンプレートが離型されるショット領域の位置に基づいて制御する離型制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】ＴＡＴ（turn around time）の向上に対して有利なパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、基板上にパターンが形成された複数のパターン領域が配置されるテンプレート２１を用いて、前記複数のパターン領域のうちの第１パターン領域Ｓ１０１を被加工基板に転写する第１ステップＳＴ１１と、前記第１パターン領域の転写回数をカウントアップし、前記転写回数を保存する第２ステップＳＴ１２と、前記保存された第１パターン領域のパターン転写回数が、規定回数を超えたか否かを判定する第３ステップＳＴ１３と、前記第３ステップの際に、前記規定回数を越えた判定された場合に、前記複数のパターン領域のうちの第２パターン領域Ｓ１０３に切り替えて、前記第２パターン領域を前記被加工基板に転写する第４ステップＳＴ１４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】放射線照射による微細パターン形成方法において、大型サイズの基材に微細パターンを一括で形成する簡便、且つ高スループットの微細構造体の製造方法を実現し、且つ、パターン形成後に干渉縞の発生しない均一な塗膜が得られる微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯＯ−などと、放射線硬化性官能基と、環状エーテル基などから成る単位を有する感放射線硬化性ポリマー（Ｐ）と、放射線硬化性モノマー（Ｍ）と、放射線重合開始剤（Ｉ）とを有し、組成物中の放射線硬化性成分全量に対して、感放射線硬化性ポリマー（Ｐ）の割合が５５〜９５重量％、放射線硬化性モノマー（Ｍ）の割合が５〜４５重量％である。 （もっと読む）

【課題】環境特性、離型性に優れた硬化物を形成でき、フッ素界面活性剤と他の成分との相溶性に優れた光硬化性組成物、およびモールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有し、かつ表面の組成が均一な成形体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】メタ）アクリロイルオキシ基を１個以上有する化合物を主成分とするインプリント用光硬化性組成物であって下記重合体（Ｄ）を含む光硬化性組成物。CH₂=C(R¹¹)-C(O)O-Q-R^fの単位２０〜４５質量％とCH₂=C(R²¹)-C(O)O-(CH₂CH(R²²)O)_n-H（数平均分子量３５０以下）単位の２０〜６５質量％とCH₂=C(R³¹)-C(O)O-R³²の単位５〜４０質量％とを含む、質量平均分子量１０００〜５０００の重合体（Ｄ）。Ｒ^１１、Ｒ^２１、Ｒ^３１＝水素原子、メチル基、Ｑ＝２価の連結基等、Ｒ^ｆ＝炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基等、Ｒ^２２＝水素原子等、ｎ＝３〜６、Ｒ^３２＝炭素数２〜１５の脂肪族炭化水素基。 （もっと読む）

【課題】高解像度インプリントを可能にするリソグラフィの提供。
【解決手段】インプリント方法が開示されており、一例では、基板上のインプリント可能媒体から成る離隔した第一および第二ターゲット領域を、第一および第二テンプレートにそれぞれ接触させて、インプリント可能媒体に第一および第二インプリントをそれぞれ形成し、かつ、第一および第二テンプレートをインプリント済み媒体から分離する。 （もっと読む）

【課題】モールドのパターン内部への樹脂充填性と、樹脂層に対するモールドの離型性を確保したパターン形成方法と、このパターン形成方法を利用したナノインプリント転写に使用するナノインプリントモールドとナノインプリント用転写基材とを提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド１を、基体２と、この基体２の一方の面２ａに位置する転写形状部３と、少なくとも転写形状部３上に位置する濡れ性変化層４とを備えたものとし、濡れ性変化層４は第１の波長の光を照射することによる水に対する接触角の減少と、第２の波長の光を照射することによる水に対する接触角の増加が可逆的に起こるものとする。 （もっと読む）

【課題】ホログラムの微細凹凸を高い精度で形成することができ、しかも効率良く生産することができるホログラムシート材の製造方法を提供する。
【解決手段】シート状基材１上に、光硬化樹脂を塗布して光硬化樹脂層２を形成する光硬化樹脂層形成工程と、前記した光硬化樹脂層上に、表面にホログラムの微細凹凸４が形成された透光性の版フィルム５を該微細凹凸が光硬化樹脂層に密着する状態で被せ、この状態で版フィルムを通して光照射することにより前記ホログラムの微細凹凸を前記光硬化樹脂層の表面に転写するとともに当該光硬化樹脂層を硬化させるホログラム微細凹凸転写工程と、該ホログラム微細凹凸転写工程の後、版フィルムを剥離する剥離工程と、前記基材の光硬化樹脂層側の面に光輝性を有する物質を少なくともホログラム微細凹凸４´の部分に蒸着させて光輝層を微細凹凸の凹凸に沿って形成する光輝層形成工程と、を経て処理する。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性に優れた光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性単量体と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）シランカップリング剤と、（Ｄ）重量平均分子量が３０〜１０００である酸とを含む、光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】微細構造が転写成形された被成形体を付着基体から剥離する際に、剥離の部分や順序を制御し、転写成形された微細構造に損傷を与えることなく迅速に被成形体を付着基体から剥離することができる剥離治具本体、剥離治具及び剥離方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る剥離治具本体は、プレス式の微細構造転写成形装置により、前記微細構造が転写成形された被成形体をこれが付着したスタンパ、上金型又は下金型から剥離する剥離治具本体であって、前記被成形体の開放面側の縁部を保持固定する保持手段と、前記保持手段の前記被成形体を保持固定する保持部15を前記スタンパ、上金型又は下金型に対して垂直方向に上下動させるアクチュエータ20と、前記被成形体の縁部に空気を吹き付ける空気噴射手段と、前記保持手段、アクチュエータ20及び空気噴射手段の作動を制御する制御手段と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】干渉計の光路へのガス漏れを抑制しつつ、インプリント処理時に基板とモールドとの隙間にガスを迅速に高い濃度に充填させるインプリント装置を提供する。
【解決手段】モールド１１を保持するヘッドと、ウエハ２１を保持するウエハステージ２３と、樹脂を前記ウエハに供給する樹脂供給口３２と、前記ウエハステージの第１方向における位置を計測する干渉計と、型と前記ウエハとの間の空間に空気と置換するためのガスを供給する第１ガス供給口４１ａを前記ウエハステージの上に有する第１ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第２ガス供給口４１ｂを前記ウエハステージの上に有する第２ガス供給部と、前記空間に前記ガスを供給する第３ガス供給口４３を前記ウエハステージの前記干渉計側の縁部に有する第３ガス供給部と、制御部６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】良好なスループットを維持できるように十分な光透過性を有すると共に、被転写体に対する微細パターンの転写精度に優れ、しかも繰り返し転写性にも優れるナノインプリント用樹脂スタンパ及びこれを使用したナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】複数の重合性官能基を有する主成分としてのシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有し、前記シルセスキオキサン誘導体とは別の重合性樹脂成分と、光重合開始剤とを含有する樹脂組成物の重合体からなる微細構造体層を、光透過性の支持基材上に備えるナノインプリント用樹脂スタンパ３であって、前記光重合開始剤は、前記シルセスキオキサン誘導体、及び前記重合性樹脂成分の合計の質量に対して、０．３質量％以上、３質量％以下であり、前記微細構造体層は、波長３６５ｎｍの光を８０％以上透過することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成性に優れたインプリントを行うためのメンテナンス液を開示する。
【解決手段】エステルおよび／またはエーテル官能基を有する化合物を含有するインプリントを行うためのインクジェット装置のメンテナンス液。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性、インプリント性、モールドとの離型性に優れ、表面硬度が高いパターンガ提供できる光インプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性単量体と（Ｂ）光重合開始剤と（Ｃ）３級アミノ基含有化合物を含むことを特徴とする光インプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】単純な構造であり、製造が容易でありかつ保守性が良く、簡易な設備で運用できる転写ロールを提供すること。
【解決手段】本発明の転写ロールは、被転写物に外周面形状を転写する転写ロール１であって、外周面上に凹凸形状パターンが形成され、内部に中空部を有する略円筒状の本体と、中空部内に配置され前記本体の内周面に熱媒体を噴射する熱媒体噴射手段１０とを備え、熱媒体噴射手段が、少なくとも一端が熱媒体供給装置に接続され、本体外部から中空部内まで延びるように配置された中空管を備え、中空管は、熱媒体供給手段から供給された熱媒体を、所定の回転角度方向に噴射して本体２の内周面に衝突させる複数の噴射手段１４を有している。 （もっと読む）

【課題】生産性が高いモールドシートの製造方法を提供する。
【解決手段】複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備し、転写シートの転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する。未硬化層が形成された転写シートを巻き取りロール１０５に巻き取る。未硬化層が巻き取られた巻き取りロール１０５を熱キュア装置２００で熱処理する。このとき、未硬化層が熱硬化してモールドシートが製造される。 （もっと読む）