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Fターム[4G030AA37]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 成分 (15,407) | 第3b〜6b族元素酸化物 (4,166) | 酸化珪素 (1,063)

Fターム[4G030AA37]に分類される特許

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【課題】優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の成膜を可能にする酸化物焼結体および酸化物混合体を提供する。
【解決手段】酸化物焼結体は、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である。酸化物混合体は、実質的に酸化亜鉛と酸化チタンとからなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である。 (もっと読む)


【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第1酸化物粉末がSiO粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がZnO、MgO及びCaOからなる群より選ばれた1種の粉末又は2種以上の混合粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物とのモル比が5〜85:95〜15であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 従来、専ら管理型埋立て処分対象とされてきたボトムアッシュ(クリンカアッシュ)を出発原料の一部として、有害重金属類溶出の危険性のない、透水・保水性材料、濾過材料、微生物を担持する水浄化材料、吸音材料、保湿材料、耐火断熱材料、植栽用材料等として用いられるセラミック多孔質体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 重量で、フライアッシュ:10%〜60%、廃ガラス:15%〜50%、ボトムアッシュ(クリンカアッシュ):10%〜70%の配合比率の原料を粒粉体とし、該原料を混合して空気遮断状態下に、600℃〜1100℃の温度域で10分間〜120分間の焼成を行った後、空気遮断状態下に冷却する。 (もっと読む)


【課題】付加元素を水に溶出させることができ、かつ、付加元素が短期間に消尽することを抑制できるセラミックスを製造する方法を提供すること。
【解決手段】熱水保持装置用セラミックスの製造方法において、ケイ素酸化物とケイ素含有酸化物とから選ばれる少なくとも一種のケイ素材料粉末と、アルカリ土類金属、アルカリ金属、バナジウム、亜鉛、セレン、リン、硫黄、塩素、鉄、ホウ素、フッ素、アルミニウム、ケイ素、クロム、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、ヒ素、モリブデン、ヨウ素、炭素から選ばれる少なくとも一種の付加元素と、を含む混合物を、付加元素が非酸化物状体で含まれるような雰囲気で焼成・冷却する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、例えば船底塗料に添加して使用されて静電気を帯電、放電等することにより、海棲生物が船底に付着するのを防止できる静電気吸収帯電放電剤及びその製造方法を提供する。
【解決手段】静電気吸収帯電放電剤は粉体のセラミックス体と、このセラミックス体の表面及び微細孔の内面に結合された炭素から構成されている。前記セラミックス体はマグネシウム、アルミニウム、珪素、鉄等を含有している。前記セラミックス体は直径が300μm〜600μmの粉体状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】
電気・電子用途の放熱用部材に要求される性能である熱伝導性と放熱性並びに価格のバランスに優れた高熱伝導性セラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】
高熱伝導性セラミックス焼結体は、酸化マグネシウム94〜99.9重量%、二酸化ケイ素0.3〜5重量%を含み、酸化マグネシウム及び二酸化ケイ素の合計量が96重量%以上であり、気孔率が1%以下である高熱伝導性セラミックス焼結体である。二酸化ケイ素は焼結助剤として酸化マグネシウムに添加される。 (もっと読む)


【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第1酸化物粉末がSiO2粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がZnO、MgO及びCaOからなる群より選ばれた1種の粉末又は2種以上の混合粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物とのモル比が5〜85:95〜15であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】必要量のコバルト酸化物が残存し、スパッタ時のパーティクル発生が少ない十分な焼結密度を有するスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Crが20mol%以下、残余がCoである強磁性合金と非金属無機材料からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、前記非金属無機材料が占める体積率が40vol%以下で、前記非金属無機材料が少なくともコバルト酸化物とホウ素酸化物を含むことを特徴とするスパッタリングターゲット。金属粉末と少なくともコバルト酸化物とホウ素酸化物を含む非金属無機材料粉末を粉砕・混合して得られた混合粉末を保持温度は800°C以下で加圧焼結装置により成型・焼結するスパッタリングターゲット用焼結体の製造法。 (もっと読む)


【課題】 たわみ試験においてクラックの発生が無く機械的信頼性に優れたガラスセラミック配線基板を提供する。
【解決手段】 ガラスセラミックスからなる絶縁層が複数積層された絶縁基体1と、該絶縁基体1の表面に形成された表面配線層2とを具備するガラスセラミック配線基板であって、前記絶縁基体1がセラミックフィラーとしてアルミナ粒子を含有するとともに、少なくともアルミナ(Al)、ケイ素(Si)およびカルシウム(Ca)を元素として含むガラス相とから構成されており、前記表面配線層1が銀を主成分とし、ロジウム(Rh)および酸化銅を含有するとともに、前記絶縁基体1の表面にアノーサイト相を主結晶相とするセラミック層7を有し、抗折強度が190MPa以上である。 (もっと読む)


【課題】低温焼結特性を備え、純銀を内部電極に使用した多層チップ型ZnOバリスタの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のZnOバリスタの製造方法は、十分な半導性を有するドープZnO粒子を調製するステップと、高インピーダンス焼結材料(またはガラス粉末)を別に調製するステップと、最後に前記ドープZnO粒子と前記高インピーダンス焼結材料を所定の比率でよく混合し、多層ZnOバリスタ(または積層バリスタ(Multilayer varistor、MLV)とも呼ばれる)の従来の作製手法に従って、850℃〜900℃の低温焼結温度下で純銀を内部電極として使用したZnOバリスタを作製するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】 小型化が可能な高反射率の発光素子搭載用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 互いに焼結温度が異なる絶縁層用ガラスセラミック材料および拘束層用ガラスセラミック材料を準備し、それぞれ平板状に形成するとともに積層して、絶縁層11と拘束層12とが交互に、最上層が拘束層12となるように積層された平板状積層体を作製する工程と、平板状積層体の上面に発光素子の搭載部となる領域17を設けるとともに、絶縁層用ガラスセラミック材料を平板状積層体の上面に、搭載部となる領域17を取り囲む枠状に積層して積層体を作製し焼成する工程とを備える発光素子搭載用基板の製造方法である。枠部3の上部と下部との収縮差を利用して枠部3の内側面を傾斜させることができるため、凹部の内側面を破断面とせずに傾斜させることができ、小型化が可能で高反射率の発光素子搭載用基板9の製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の信号雑音比が向上され及び面記録密度が増強された記録層を得る為のスパッタリングターゲット、及び該スパッタリングターゲットから形成された磁気記録媒体の記録材料を提供する。
【解決手段】CoPt又はCoCrPt又はCoCrPtBに基づく合金及び酸化物組合せを含み、前記酸化物組合せが、酸化銅(CuO)と、二酸化チタン(TiO2)、酸化クロム(Cr2O3)、酸化タンタル(Ta2O5)、酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、及び酸化ハフニウム(HfO2)からなる群から選択される少なくとも1つの酸化物とを含むスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】耐リチウム反応性に優れ、かつ、軽量の炉材を提供すること。
【解決手段】MgOの含有率が33〜99.5質量%、MgO と Al23 との合計含有率がMgO +Al23=95〜99.9質量%、MgO とAl23との含有比率が、各質量%比で、Al23 / MgO= 0.003 〜 2.1、嵩比重が1.0〜2.5とする。 (もっと読む)


【課題】低抵抗率で、かつ、抵抗率の膜厚依存性及び基板上での抵抗率分布が少ない酸化亜鉛を母材とする透明導電膜およびその製造用技術並びに薄膜製造用酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】本発明のある態様の酸化亜鉛系透明導電膜は、実質的に亜鉛、ガリウム、スズおよび酸素からなり、ガリウムをGa/(Zn+Ga+Sn)の原子比で1%を超え8%未満の割合で含有し、且つスズをSn/(Zn+Ga+Sn)の原子比で0.1%を超え1%未満の割合で含有する。 (もっと読む)


【課題】誘導加熱方式のホットプレス用焼成炉を用いたセラミック焼結体の製造において、セラミック焼結体の品質のバラツキを抑制すること。
【解決手段】誘導加熱方式の焼成炉1内に設けられた焼成室5内にセラミック粉末からなる被焼成物を配置し、一対の加圧部3により被焼成物の加圧を行いつつ加熱して焼成物を得るセラミック焼結体の製造方法に関する。該加熱は、一対の加圧部3から選ばれる少なくとも一方の加圧部3における加圧軸方向の両端部および中間部から選ばれるいずれかの部分に、加圧軸方向における常温での熱伝導率が焼成室5を構成する部材の熱伝導率の10%以下となる低熱伝導材8を配置して行う。 (もっと読む)


【課題】バックライニング層に発生する亀裂の貫通を抑制、防止し、かつ、耐火材を短い時間で施工することが可能な高炉主樋および高炉主樋の構築方法を提供する。
【解決手段】鉄皮40の内側に耐火材を施工することにより形成された高炉主樋において、溶銑に接するウエアーライニング層10と、ウエアーライニング層の外側に設けられたバックライニング層20とを備え、バックライニング層を構成する底面側バックライニング層22と側面側バックライニング層21のうち、少なくとも側面側バックライニング層が、(a)鉄皮側に位置する湿式吹付け耐火材層21aと、(b)湿式吹付け耐火材層よりも溶銑側に位置する、湿式吹付け耐火材層とは異なる1層以上の耐火材層21bとを備えた構成とする。
バックライニング層と鉄皮との間に断熱層30を備えた構成とする。 (もっと読む)


【課題】乾燥時のグリーンハニカム成形体の外周面の変形を抑制できるグリーンハニカム成形体の乾燥方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム源、チタニウム源、ケイ素源、バインダ、極性溶媒、及び、疎水性樹脂粒子を含むグリーンハニカム成形体を提供する。アルミニウム源、チタニウム源、ケイ素源、バインダ、極性溶媒、及び、疎水性樹脂粒子を含むグリーンハニカム成形体をマイクロ波により加熱して乾燥させる工程を備える、ハニカム成形体の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、Bi成分を5〜95%の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Bi結晶、BiWO結晶、Bi結晶、Bi12結晶、BiMoO結晶、BiMo結晶、BiMo12結晶、BiTi結晶、BiTi11結晶、BiTi12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO結晶、BiFe結晶、BiVO結晶、LiBiO結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される1種以上を含有していてもよい。 (もっと読む)


【課題】発明は低熱膨張性、寸法の経時安定性、及び高剛性(高弾性率)をもったコーディエライト質焼結体の精密研磨特性を大幅に向上させること。
【解決手段】コーディエライトを主成分とし、その他の結晶相を含まず、La,Ce,Sm,Gd,Dy,Er,Yb,Yの一種以上を酸化物換算で1〜8質量%含むコーディエライト質焼結体焼結体である。その主成分の質量比は、3.85≦SiO/MgO≦4.60、2.50≦Al/MgO≦ 2.70の範囲であり、その精密研磨面の平均表面粗さ(Ra)は1nm以下である。 (もっと読む)


【課題】 噴射されたディーゼル燃料(HC)が、排気ガス中の窒素酸化物と反応が良好に行われ、排気ガス中の窒素酸化物を効率良く低減することが可能であり、排気ガスがHC−SCR触媒を通過する際の圧力損失を低く維持できるセラミックハニカム構造体及びその製造方法を得る
【解決手段】 多孔質の隔壁により仕切られた流路を有する複数のセラミックハニカム部材が、前記セラミックハニカム部材の端面において流路方向に接合されたセラミックハニカム構造体であって、前記複数のセラミックハニカム部材は、前記流路が、流路方向に直交する断面において、前記隔壁の交点部にR部を有し、前記複数のセラミックハニカム部材の隔壁同士が、少なくとも一方の端面において、隔壁ピッチの0.3倍〜0.7倍の位置でずれて接合されており、前記隔壁の表面粗さが最大高さRyで20μm以上、前記隔壁厚さが0.2〜0.4mm、セル数が100〜300cpsiであるセラミックハニカム構造体。 (もっと読む)


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