【課題】環境汚染がなく、且つ低融点低抵抗金属と同時焼成可能で基板の反りが少なく、白色性が強い無鉛ガラスセラミックス組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は40〜55重量%のガラス粉末と45〜60重量%の無機フィラーを配合・焼成されてなり、該ガラス粉末のガラス組成が、重量%でSiO₂を55〜60%、Al₂O₃を11〜12%、CaOを16〜18%、ZnOを0〜4%含有しており、且つ実質的にPbO、MgOおよびAs₂O₃、Sb₂O₃を含有しないことを特徴とする無鉛白色ガラスセラミックス組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 直流電界の印加による比誘電率の低下が抑制されるとともに，高い比誘電率を有するセラミック組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の一実施形態に係るセラミック組成物は、コアシェル構造を有するセラミック粒子を含む。一実施形態において，当該セラミック組成物は，反強誘電体から成るコアと、強誘電体又は常誘電体から成り前記コアを取り囲むシェルと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ハニカム構造体の気孔率を容易に制御することが可能なグリーン成形体を提供すること。
【解決手段】 互いに略平行な複数の貫通孔７０ａが形成されたハニカム状の柱状体７０からなるグリーン成形体であって、柱状体７０がセラミックス原料粉末及びフッ素源を含み、セラミックス原料粉末が、焼成によりチタン酸アルミニウム系セラミックス及びコージェライト系セラミックスの少なくとも一方を形成するものである、グリーン成形体。 （もっと読む）

【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性、耐熱性等の化学的耐久性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜形成材料は、酸化亜鉛を主成分とし、フッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムのうち少なくとも一方を含み、さらにチタンを含む酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であり、全金属原子数に対するチタンの原子数の割合が２％超１０％以下であり、全金属原子数に対するフッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムの一方または両方の金属原子数の割合が０．１％以上５％以下であり、かつチタン源として、一般式：ＴｉＯ_2-X（Ｘ＝０．１〜１）で表される低原子価酸化チタンを用いた酸化物焼結体である。 （もっと読む）

【課題】付加元素を水に溶出させることができ、かつ、付加元素が短期間に消尽することを抑制できるセラミックスを製造する方法を提供すること。
【解決手段】熱水保持装置用セラミックスの製造方法において、ケイ素酸化物とケイ素含有酸化物とから選ばれる少なくとも一種のケイ素材料粉末と、アルカリ土類金属、アルカリ金属、バナジウム、亜鉛、セレン、リン、硫黄、塩素、鉄、ホウ素、フッ素、アルミニウム、ケイ素、クロム、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、ヒ素、モリブデン、ヨウ素、炭素から選ばれる少なくとも一種の付加元素と、を含む混合物を、付加元素が非酸化物状体で含まれるような雰囲気で焼成・冷却する。 （もっと読む）

【課題】シリコン半導体および化合物半導体などを製造する装置内で高い耐プラズマ性、高い機械的強度や耐衝撃性を要求される部品に好適なCaF₂−MgF₂二元系焼結体の提供。
【解決手段】MgF₂を１．５〜１０wt.％含有するCaF₂−MgF₂焼結体からなり、該焼結体の嵩密度が３．００g/cm³以上の緻密な構造を有する。 （もっと読む）

【課題】フッ素含量が１００ｐｐｍより少ないにも関わらず、フッ素を１００ｐｐｍより多く含む酸化マグネシウムと同程度以上の紫外光発光強度を持つフッ素含有酸化マグネシウム発光体を提供すること。
【解決手段】電子線又は紫外線による励起に基づいて紫外線領域２００〜３００ｎｍに発光ピークを有する酸化マグネシウム発光体であって、マグネシウムに対するフッ素含量が１００ｐｐｍ未満で、かつ、励起光ランプの反射ピーク（波長９８０ｎｍ近傍）に対する、前記発光ピークの強度比が、２０以上である。当該発光体は、酸化マグネシウム前駆体に、マグネシウムに対しフッ素が０．０６〜１．２５ｍｏｌ％となる量でフッ素化合物を添加して焼成し、一旦冷却した後、再度焼成することにより得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＳ灰の再資源化方法を提供する。
【解決手段】ＰＳ灰を含む焼却灰に粘性土成分を含む汚泥、例えば建設汚泥を加えて混練造形し、その造形物を焼結する。凹凸状のＰＳ灰の凸部が汚泥をバインダーとして互いに連結されて三次元状に組立てられた形状になっている。ＰＳ灰の有用構成成分はそのまま残され、しかもＰＳ灰どうしの間には大きな空隙があり、ＰＳ灰の表面の細孔は開口している。この特性を生かして、各種成分の捕捉剤や人工土壌等、様々なものに利用可能である。 （もっと読む）

【課題】耐熱衝撃係数の改良された多孔質ムライト組成物の提供。
【解決手段】多孔質ムライト組成物は、ムライト（例えば、クレー、アルミナ、シリカ）中に存在する元素及び特性増進性化合物を有する、１種又はそれ以上の先駆体化合物の混合物を形成させることにより製造する。前記特性増進性化合物は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｂ、Ｙ、Ｓｃ、Ｌａ及びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれる元素を有する化合物である。この混合物は賦形されて多孔質の生の造形物を形成し、その造形物は、フッ素含有ガスを有する雰囲気下で、本質的に化学的に結合した、針状ムライト粒状物から実質的になるムライト組成物を形成するのに十分な温度に加熱する。 （もっと読む）

【課題】一般的なアルミナ粉末で作製された成形体を低温で焼結する。
【解決手段】本発明のアルミナ焼結体の製法は、（ａ）少なくともＡｌ₂Ｏ₃とＭｇＦ₂との混合粉末又はＡｌ₂Ｏ₃とＭｇＦ₂とＭｇＯとの混合粉末を所定形状の成形体に成形する工程と、（ｂ）該成形体を真空雰囲気下又は非酸化性雰囲気下でホットプレス焼成してアルミナ焼結体とする工程であって、Ａｌ₂Ｏ₃１００重量部に対するＭｇＦ₂の使用量をＸ（重量部）、ホットプレス焼成温度をＹ（℃）としたときに下記式（１）〜（４）を満たすようにホットプレス焼成温度を設定する工程と、を含む。
１１２０≦Ｙ≦１３００ …（１），０．１５≦Ｘ≦１．８９ …（２）
Ｙ≦−７８．７Ｘ＋１３４９ …（３），Ｙ≧−２００Ｘ＋１２１２ …（４） （もっと読む）

【課題】シリコン半導体および化合物半導体などを製造する装置内で高い耐プラズマ性を要求される部品に好適なフッ化物焼結体を提供する。
【解決手段】MgF₂を１〜５wt.％含有するCaF₂−MgF₂焼結体からなり、該焼結体の嵩密度が３．００g/cm³以上の緻密な構造を有している。 （もっと読む）

【課題】鉛を含むものにおいて、多面体形状の結晶粒子をより容易に作製する。
【解決手段】本発明の結晶粒子の製造方法は、リチウムとホウ素とを含む添加材料と鉛を含む材料とを混合した混合材料を作製する混合工程と、混合材料を所定の焼成温度で焼成することにより多面体形状の結晶粒子を生成させる第１焼成工程と、を含むものである。また、混合工程のあと、混合材料によって構成される成形体を作製する成形工程を含むものとしてもよく、焼成工程のあと、焼成後の仮焼体を解砕して結晶粒子を得るものとしてもよい。この結晶粒子を基体上に固着させることにより、結晶方位を所定方向に揃えたテンプレート層を準備し、リチウムとホウ素とを含む添加材料と鉛を含む材料とを混合した混合材料によって構成されるマトリックス層をテンプレート層上に形成し、これを焼成して結晶配向セラミックスを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】蛍石と同程度の高いアッベ数を有すると共に、蛍石より高い屈折率を有するＣａ−Ｇｄ−Ｆ系材料を、透光性セラミックスとして提供する。
【解決手段】ＣａＦ_２微粒子と、該ＣａＦ_２微粒子とは別に作製されたＧｄＦ_３微粒子とを混合して微粒子混合物を調整し、前記微粒子混合物を焼結し、透明化することで透光性セラミックスを製造する。 （もっと読む）

【課題】実質的に酸素を含まない不活性雰囲気下で加熱することにより吸熱分解する吸熱分解型高分子バインダーを含む焼結セラミックス成形用組成物を提供すること。
【解決手段】セラミックス粉末と吸熱分解型高分子バインダーとを含んでなる焼結セラミックス成形用組成物であって、上記吸熱分解型高分子バインダーが、一般式（１）で表されるエポキシドと二酸化炭素とが交互に結合して得られたポリカーボネートであって、¹Ｈ−ＮＭＲ分析により検出可能なエーテル結合成分を含まないポリカーボネートであることを特徴とする組成物。 （もっと読む）

【課題】シリコン半導体および化合物半導体などを製造する装置内で高い耐プラズマ性を要求される部品に好適なフッ化物焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】高純度CaF₂粉末に高純度MgF₂粉末を１〜５wt.％混合し、さらに焼結助剤を０．１〜１wt.％添加して混合する工程、金型及びプレス成形機を用いてプレス圧０．２MPa/cm²以上で成形する工程、その成形品を大気雰囲気中で６００〜７００℃に加熱して仮焼結を行う工程、大気雰囲気中で１２５０〜１３７０℃の温度範囲で６〜１２時間加熱して緻密な構造のCaF₂−MgF₂二元系焼結体を形成する工程、を含むフッ化物焼結体の製造方法とする。 （もっと読む）

イットリア、水性シリカバインダ系または水性炭酸ジルコニウムアンモニウムバインダ系、およびフッ化化合物を含むスラリー組成物であり、上記フッ素化合物が、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化水素ナトリウムおよび／またはフッ化水素カリウムから選択されることを特徴とするスラリー組成物、並びに、イットリア、および、水性シリカバインダ系または水性炭酸ジルコニウムアンモニウムバインダ系を含むイットリアベースのスラリー組成物を安定化する方法であり、上記方法は上述の選択されたフッ素化合物を用いて上記組成物を処理することを含み、好ましくは上記バインダ系を処理することを含む方法。
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【課題】耐食性、耐熱衝撃抵抗性及び耐久性に優れたアルミナ質焼結体、その製造方法及び該アルミナ質焼結体よりなる熱処理用部材の提供。
【解決手段】（ａ）アルミナ含有量が９９．５重量％以上からなるアルミナ質焼結体であって、（ｂ）かさ密度が３．７ｇ／ｃｍ^３以上であり、（ｃ）平均結晶粒径が２０〜７０μｍで、（ｄ）焼結体のひとつの面とその面に垂直な面の結晶粒子の長径／短径が共に２．０以上であり、（ｅ）ひとつの面とその面に垂直な面で結晶粒子の長径／短径が大きい方の面の長径／短径：Ｒ１と小さい方の面の長径／短径：Ｒ２の比：Ｒ１／Ｒ２が１．０〜２．０であることを特徴とする耐食性、耐熱衝撃抵抗性及び耐久性に優れたアルミナ質焼結体、その製造方法及び該アルミナ質焼結体よりなる熱処理用部材。 （もっと読む）

【課題】クーロン型とジョンソン・ラーベック型の中間の体積抵抗率に調整することができ、しかも耐食性に優れた酸化アルミニウム焼結体を提供する。
【解決手段】本発明の酸化アルミニウム焼結体は、主成分である酸化アルミニウムの粒子同士の間に希土類元素とフッ素とを含む相が層状に存在するもの、又は、主成分である酸化アルミニウムの粒子同士の稜に沿って希土類元素とフッ素とを含む相が存在するものである。この酸化アルミニウム焼結体は、ＳＥＭ画像を見たときに、酸化アルミニウムの粒子同士の間に希土類元素とフッ素元素とを含む相が局所的に点となって存在するのではなく、線分をなすように存在している。また、本発明の酸化アルミニウム焼結体は、室温において２ｋＶ／ｍｍの電圧を印加して１分経過後の電流値から算出した体積抵抗率を１×１０¹³〜１×１０¹⁶Ω・ｃｍの範囲に容易に調整することができる。 （もっと読む）

【課題】結晶化度が高いにもかかわらず、緻密な焼結体を得ることが可能な配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】焼成すると主結晶としてディオプサイド（ＣａＭｇＳｉＯ_６）、コージェライト（Ｍｇ_２Ａｌ_４Ｓｉ_５Ｏ_１８）、又はフォルステライト（Ｍｇ_２ＳｉＯ_４）を析出する性質を有する結晶性ガラス粉末を含む配線基板用ガラスセラミックス組成物であって、ガラス組成中にアニオン成分としてフッ素（Ｆ）を０．１〜３モル％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】機械的強度をより高めた酸化イットリウム材料を提供する。
【解決手段】半導体製造装置用部材である静電チャック２０は、酸化イットリウムに固溶・析出可能であり酸化イットリウムの粒内に存在する第１無機粒子と、第１無機粒子には固溶可能であり酸化イットリウムには固溶しにくい酸化イットリウムの粒界に存在する第２無機粒子と、を含む酸化イットリウム材料により構成されている。この第１無機粒子は、ＺｒＯ₂及びＨｆＯ₂のうち少なくとも１以上であり、第２無機粒子は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのうち少なくとも１以上である。この酸化イットリウム材料は、第１無機粒子と第２無機粒子とを混合・焼成して固溶粒子を作製し、作製した固溶粒子と酸化イットリウムとを混合・焼成することにより、第１無機粒子を酸化イットリウムの粒内に存在させると共に、第２無機粒子を酸化イットリウムの粒界に存在させて作製することができる。 （もっと読む）