【課題】 一般的な基材であるガラスに成膜され、且つ良好なパターン形状と優れた発光特性の両方を兼ね備えた薄膜蛍光体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材と結晶性の薄膜蛍光体からなり、前記薄膜蛍光体は、前記基材上に成膜されて薄膜蛍光体層が形成されており、前記薄膜蛍光体層にパターンが形成されており、前記結晶がナノ構造であることを特徴とするパターン形成された薄膜蛍光体とする。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のニオブ化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびニオブ化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】電波透過性、耐擦傷性、および可視光透過性に優れる電波透過部材を提供すること。
【解決手段】透明基板２に電波透過性を有する導電層４が形成された電波透過部材１であって、前記導電層４は、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、およびＳｂから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有するＳｎ酸化物主成分層であり、かつシート抵抗が１５００Ω／□以上６０００Ω／□以下であるもの。 （もっと読む）

【課題】安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置を実現する成膜装置を提供することを課題の一とする。また、マザーガラスのような大きな基板を用いて、信頼性の高い半導体装置の大量生産を行うことの出来る成膜装置を提供することを課題の一とする。また、上記成膜装置を用いて安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置の作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】基板の搬送機構と、搬送機構が送る基板の進行方向に沿って、酸化物半導体を成膜する第１の成膜室と、第１の熱処理を行う第１の加熱室とを有し、基板は、該基板の成膜面と鉛直方向との成す角が１°以上３０°以内に収まるよう保持され、大気に曝すことなく、基板に第１の膜を成膜した後に第１の熱処理を施すことのできる成膜装置を用いて、酸化物半導体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】塵、汚れあるいは傷等のないＦＰＤに有用なシートガラスを製造することができるシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの製造方法は、成形された薄板状のガラスの表面に第１の水溶性保護膜を形成する工程と、前記第１の水溶性保護膜が形成された前記ガラスを切断して、シートガラスを作製する工程と、前記シートガラスから前記第１の水溶性保護膜を除去する工程と、前記第１の水溶性保護膜が除去されたシートガラスの表面を検査する工程と、検査された適合品のシートガラスの表面に第２の水溶性保護膜を形成する工程と、を有する。前記第２の水溶性保護膜は、前記第１の水溶性保護膜に対して厚さが厚く、前記第２の水溶性保護膜は、前記第１の水溶性保護膜に対して、ガラス表面に対する密着度（ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６）が低い。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板とモリブデン層との密着力の向上が図られた成膜基板を製造する方法、成膜基板、及び成膜装置を提供すること。
【解決手段】所定量の酸素を含有する第１の雰囲気中で、ガラス基板２の表面に第１のモリブデン層３ａを成膜し、第１の雰囲気よりも酸素の含有率が低い第２の雰囲気中で、第１のモリブデン層３ａの表面に第２のモリブデン層３ｂを成膜する。これにより、酸化モリブデンを含む密着層３ａをガラス基板２上に成膜し、この密着層３ａの上にモリブデン層３ｂを成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】入射角の変化による色調変化を抑制する。
【解決手段】反射層３の積層膜における各層の膜厚に応じて決定される比率αおよび比率βに対して、可視光線透過率、遮蔽係数、青み指標および赤み指標の条件を満足する領域を抽出する。この領域に含まれる比率αおよび比率βに基づき、反射層３の積層膜における各層の膜厚を決定する。 （もっと読む）

【課題】赤外線放射を反射する熱安定性の透明ガラス又はガラスセラミック製窓ガラスを製造する方法に関し、オーブン又は暖炉のための前面窓ガラス、及び防火ガラスのような、高温において利用するためののぞき窓ガラスに用いるガラスセラミック製窓ガラスを提供する。
【解決手段】透明ガラス又はガラスセラミック製窓ガラス１は、４．２未満の熱膨張係数αを有するガラス又はガラスセラミック基板２と、単層反射層として形成され、２．２よりも大きな屈折率を有する赤外線放射反射層３とを含む。 （もっと読む）

【課題】一般ガラスに赤外線反射物質をコーティングされたガラスを使用して赤外線を一次的に反射した後、遮断されない残りの赤外線を二次的にＬｏｗ−Ｅガラスまたは熱変色性物質がコーティングされたガラスで反射させて、室内に流入または室外に流出される熱エネルギーを遮断できる二重窓システムを提供する。
【解決手段】本発明は第１ガラス部材、第２ガラス部材及び第１ガラス部材と前記第２ガラス部材間に設けられて前記第１ガラス部材と前記第２ガラス部材の間隔を維持するスペース部材を有する赤外線遮断のための二重窓システムであって、第１ガラス部材の一表面には近赤外線反射用ナノ物質コーティング膜が形成されており、第２ガラス部材の一表面には熱変色性物質コーティング膜が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光透過性と異方導電性とを高いレベルで両立し、種々の電気機器に好適に用いることができる透明異方導電性膜、及び、そのような透明異方導電性膜を簡易かつ安価に製造することができる透明異方導電性膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 導電物質を含む導電性線部が間隔を空けて複数並ぶ透明異方導電性膜であって、該透明異方導電性膜は、導電性線部の長軸方向における電気抵抗率が、１×１０^−２Ω・ｃｍ以下であり、導電性線部の長軸方向と直交する方向における電気抵抗率が、１×１０^２Ω・ｃｍであり、全光線透過率が５０％以上である透明異方導電性膜。 （もっと読む）

【課題】低放射率コーティングされたガラス物品を提供する。
【解決手段】ニオブをドープした酸化錫コーティングをガラス基板に設け、それにより低放射（Low E）ガラスを製造する。コーティングは所望によりニオブと、フッ素などの別のドーパントとの両方を用いてもよい。この低放射ガラスは、フッ素をドープした酸化錫コーティングを備えた従来の低放射ガラスと同等若しくはそれ以上の特性を有している。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、見た目に美しい金色の外観を有するコーティングされたガラス製品を提供することである。
【解決手段】 本発明は、ガラス製品上に酸化鉄コーティングを施す方法を定める。製品は、建築用グレイジングとして用いられるのが好ましい。上記方法には、コーティングが蒸着される表面を有する加熱ガラス基材を供給する過程が含まれる。コーティングされる表面に向けてかつその表面に沿って、フェロセン及びオキシダントが送り出され、フェロセン及びオキシダントはガラス基材の表面またはその付近で反応して酸化鉄コーティングを形成する。 （もっと読む）

【課題】耐候性が高く、より軽量で、且つ低コストで製造可能な熱線遮蔽複層ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス板及びその表面に設けられた熱線遮蔽層を有する熱線遮蔽ガラスと、別のガラス板とが、間隙をおいて、前記熱線遮蔽層が当該別のガラス板に対向するように配置され、その間隙により中空層が形成されており、且つ前記熱線遮蔽層が、タングステン酸化物及び／又は複合タングステン酸化物を含むことを特徴とする熱線遮蔽複層ガラス。 （もっと読む）

【課題】凝集を抑制した有機アルミニウム化合物を含む酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いることにより、良好な反射防止性能を有する光学用部材を提供する。
【解決手段】アルミニウムアルコキシドまたはアルミニウム塩化合物を加水分解して得られた重縮合物、溶媒と、一般式（１）で表される有機アルミニウム化合物を含むことを特徴とする酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いる。


Ｒ１、Ｒ２は炭素数１以上６以下のアルキル基、パーフルオロアルキル基、またはアリル基であり、Ｒ３は炭素数１以上６以下のアルキル基、パーフルオロアルキル基、アリル基、またはアリール基であり、ｎは１以上３以下の整数である。 （もっと読む）

【課題】ガラス・タイプの透明基板をコートするのに用いることができる新しい薄膜材料、新しい堆積・プロセスおよび新しい装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板（１）、例えばガラス基板。誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および／または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源（４）からの少なくとも一つのイオンビーム（３）への曝露と、堆積される。イオンビームに曝露された誘電体層が結晶化することもできる。 （もっと読む）

【課題】ガラス・タイプの透明基板をコートするのに用いることができる新しい薄膜材料、新しい堆積・プロセスおよび新しい装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板（１）、例えばガラス基板。誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および／または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源（４）からの少なくとも一つのイオンビーム（３）への曝露と、堆積される。イオンビームに曝露された誘電体層がイオン源のパラメータに基づいて調整できる屈折率を有し、前記イオン源が線状源であることができる。 （もっと読む）

【課題】多湿気施設に面したガラスが曇らないようにすると共に、一時的にガラスが曇ったとしても、その曇りを直ちに除去できる防曇ガラス装置を提供する。
【解決手段】監視カメラの前側に配置したガラス５の親水性処理が施された処理面５ａに対して、水Ｗを供給するための細長状の吐出口１２を有する吐出部１０が備えられている。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属のガラス基板の表面への拡散を確実に防止することができるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスクを提供すること。
【解決手段】マスクブランクス１０は、アルカリ金属を含有するガラス基板１、このガラス基板の表面上に形成された拡散防止層２、拡散防止層２上に形成された遮光層３、遮光層３上に形成された反射防止層４を備える。ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。表面粗さＲａが２ｎｍ以下であっても、拡散防止層２が設けられることにより、ガラス基板１からアルカリ金属が他の層へ拡散することを抑制し、マウスニップ欠陥の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜のヘイズ率を高くしても、その表面の表面粗さの上昇を抑制できる透明導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１と、ガラス板１１上に形成された透明導電膜１５と、を備え、透明導電膜１５が透明導電層（透明導電層Ａ）１３と透明導電層（透明導電層Ｂ）１４を有し、透明導電層Ｂ１４が透明導電層Ａ１３の上に形成され、透明導電膜１５が複数の空孔１３ａ（１３ｂ）を含み、複数の空孔１３ａ（１３ｂ）の各々が、透明導電層Ａ１３の表面における凹部１３ｈを透明導電層Ｂ１４塞いだものである、透明導電膜付きガラス板１０、を提供する。透明導電膜ガラス板１０は、透明導電層Ａ１３の表面の一部の領域をエッチングによって膜厚方向に後退させるとともに、当該一部の領域を塞ぐように透明導電層Ａ１３の上に透明導電層Ｂ１４を形成することで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】成膜処理を施すことによってガラス基板の一方の面全域に所定の薄膜を形成するに際し、ガラス基板の他方の面に余剰薄膜が形成されるのを可及的に防止する。
【解決手段】一方の面である表面１ａ全域に、紫外線遮断膜７が形成されたガラス基板１を製造するための方法である。成膜処理、例えばスパッタリングによって紫外線遮断膜７を形成する際、ガラス基板１の裏面１ｂを、該裏面１ｂ全域を覆う支持ガラス基板１７の支持面１８に対して剥離可能に直接接着させる。これにより、成膜処理中にはガラス基板１を安定的に支持することができて高精度の紫外線遮断膜７を形成することができる一方で、成膜処理後にはガラス基板１を支持ガラス基板１７から容易に取り外すことができる。しかも、成膜処理に伴って、ガラス基板１の裏面１ｂに余剰薄膜が形成されることもない。 （もっと読む）