【課題】未融解珪砂の発生が少なく均質性に優れ、しかもガラス中に泡が少ない無アルカリガラスを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源を含有するガラス原料を溶融し、ガラスを得る無アルカリガラスの製造方法において、無アルカリガラスは、所定の組成を含有し、ガラス原料は、ＳｒＣＯ_３およびＳｒＣｌ_２を混合して、粒径Ｄ_５０が４０〜１８０μｍ、かつ粒径Ｄ_９０が４００〜５７０μｍとなるように粉砕した粉砕原料と、他の原料と、を混合したガラス原料を用いる無アルカリガラスの製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】保護パネルに十分な強度が得られ、然も、保護パネルの厚さの影響を受ける特性を良好に維持することが出来る光学パネル装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学パネル装置は、光学パネルと、該光学パネルの前面を覆う透光性の保護パネル２と、光硬化性樹脂を硬化させてなり前記光学パネルと保護パネルとの間に介在するボンディング層３を具え、前記保護パネル２は強化ガラス板21によって構成され、該強化ガラス板21の厚さは、２.５ｍｍ以上、６ｍｍ以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 ガラスのエッチング速度と耐失透性を両立させ、生産性を向上させることが可能なカバーガラスを提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法により製造される化学強化用ガラス基板を化学強化し、表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス基板からなり、該化学強化用ガラス基板は、質量％表示で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｎａ_２Ｏ ６〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ２％超〜２０％およびＺｒＯ_２ ０〜４．８％を含み、かつ（１）ＳｉＯ_２含有率−1/2Ａｌ_２Ｏ_３含有率が４６．５〜５９％、（２）ＣａＯ／ＲＯ（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０．３超である、（３）ＳｒＯ含有率＋ＢａＯ含有率が１０％未満である、（４）（ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２）／ＳｉＯ_２含有量比が０〜０．０７未満である、および（５）Ｂ_２Ｏ_３／Ｒ^１_２Ｏ（ただし、Ｒ^１はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０〜０．１未満である、ことを特徴とするカバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂ、Ｇｅ、Ｇａ等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Ｓｎ、Ｃｕの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の膨張係数を実現でき、Ｔｇが４５０℃以下の封着等に適したガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準のモル％表示で、３０％〜５５％のＰ_２Ｏ_５、１０％〜４０％のＺｎＯ、０．０１％〜３０％のＡｌ_２Ｏ_３、０％〜３０％のＲ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓから選ばれる一種以上）の各成分を含有し、酸化物基準のモル％で表されたＡｌ_２Ｏ_３／ Ｐ_２Ｏ_５の比の値が０．０１以上１以下であることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】乗り物のグレイジングを開示する
【解決手段】乗り物のグレイジングは色付きガラスのペインを備え、少なくとも1.0から1.8重量%までの全鉄によって色付けられ、その内面上に低放射(反射)率被膜を持つ。被膜は、0.05から0.4までの放射率を持ち、及び透明な導電性酸化物(及び随意にドーパント)、又は金属層及び少なくとも1種の誘電体層を含んでよい。好ましくは、ガラスは強化ガラスである。また、ガラスの2種のプライを備える積層グレイジングを開示し、これはそれらの間を中間層物質によって積層され、そこでは、ガラスの少なくとも1種のプライ又は中間層物質のシートが色付き本体であり、前記グレイジングはその内面上に低放射率被膜を持つ。内側プライは、清澄なガラスか、又は色付きガラスでよい。中間層物質は、清澄なPVBか、又は色付きPVBでよく、及びそれは更に赤外(線)反射性であってよい。いずれのグレイジングも、ルーフのか、又は他の乗り物のグレイジングとして用いることができる。 （もっと読む）

【課題】表面に点スクラッチおよび穴のような損傷が発生することに対して優れた耐性を有するガラスを提供する。
【解決手段】組成中に０．３％以上のアルカリ土類酸化物と０．１〜４％の燐酸を有するアルミノシリケートグラスであって、フロート法により成形され、該成形時にフロートバス上に１０００℃以上の温度で少なくとも１０分間維持することにより、その表面に特有の配置でアルカリ土類リン酸塩の析出物を持つガラスとする。 （もっと読む）

【課題】
従来、半導体熱処理治具に一般に使用されてきた天然シリカ熔融石英ガラスは金属不純物、特に銅の拡散阻止能を持たない。金属不純物阻止能を有し、高温粘性の高い石英ガラスを提供する。
【解決手段】
高純度の合成シリカ粉を中性不活性雰囲気中結晶化した後に電気炉中溶解やプラズマ溶解することにより、酸素欠乏欠陥ＯＤＣＩＩ含有量を１０×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、かつＳｉ孤立電子対含有量を２×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、さらに含有Ｎａ濃度を０．０３ｗｔ．ｐｐｍ以下に抑えことにより、金属不純物拡散阻止能を有し、半導体熱処理時に粘性率の高い石英ガラスが得られる。 （もっと読む）

【課題】固体レーザー利得媒質としてのリン酸塩系ガラスの使用の開示。
【解決手段】リン酸レーザーガラスであって、Ｐ_２Ｏ_５３５〜６５、ＳｉＯ_２０〜２０、Ｂ_２Ｏ_３０〜１５、Ａｌ_２Ｏ_３＞０〜１０、Ｎｂ_２Ｏ_５０〜１０、ＴｅＯ_２０〜５、ＧｅＯ_２０〜５、ＷＯ_３０〜５、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜５、Ｌａ_２Ｏ_３０〜５、Ｌｎ_２Ｏ_３＞０〜１０（Ｌｎ＝周期表の元素５８〜７１のレーザー発振イオン）、Ｒ_２Ｏ１０〜３０（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、ＭＯ１０〜３０（Ｍ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜５の組成（ｍｏｌ％）を有し、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＷＯ_３及び／又はＧｅＯ_２が各々、＞０ｍｏｌ％〜約１５ｍｏｌ％で存在し、それらの合計が少なくとも１ｍｏｌ％である、リン酸レーザーガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、ファイアスルー性が良好であり、またファイアスルーの際にシリコン太陽電池の光電変換効率を低下させ難く、しかも低温で焼結可能なビスマス系ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の光電変換効率を高めることである。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ６５．２〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ＋ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋Ｎｄ_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋Ｓｂ_２Ｏ_３（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＣｕＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、及びＳｂ_２Ｏ_３の合量） ０．１〜３４．５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】分相性を適正に制御し得る抵抗体形成用ガラスを創案することにより、（１）ホットプレス工程で、緻密に焼結すること、（２）ホットプレス工程で、容易に変形すること、（３）ホットプレス工程後に、抵抗体の抵抗値がばらつく不具合を防止できること等の要求特性を満たすこと。
【解決手段】本発明の抵抗体形成用ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４９．０〜５７．９％、Ｂ_２Ｏ_３ ２６．８〜４０．６％、ＢａＯ ２．８〜７．５％、Ｌｉ_２Ｏ ７．６〜１２．３％、ＢａＯ＋Ｌｉ_２Ｏ（ＢａＯ、Ｌｉ_２Ｏの合量） １０．４〜１５．２％（但し、１５．２％は含まず）を含有し、且つモル比ＳｉＯ_２／Ｂ_２Ｏ_３の値が１．８３以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスを提供する。
【解決手段】ＧａＳ_３^３−構造を主成分とするイオン伝導体と、ＬｉＩとを有することを特徴とする硫化物固体電解質ガラス。ＬｉＩ（ＬｉＩ成分）を有するため、Ｌｉリッチとなり、Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスとすることができる。また、ＧａＳ３３−構造は、水（水分を含む）と接触しても、その構造が変化しないため、水に対する安定性が高い。 （もっと読む）

【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をＡｔ（℃）とする時、原ガラスをＡｔ（℃）から（Ａｔ＋１２０）℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス原料を高温で溶融してガラス化する段階を省略することにより、大量生産と製造コスト低減を可能にする、負の熱膨張係数を有する結晶化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】製造方法は、（ａ）組成物を秤量及び混合する段階と、（ｂ）混合した組成物をか焼する段階と、（ｃ）か焼した組成物を焼結する段階と、（ｄ）焼結した組成物を常温で炉冷すると段階を含み、結晶化ガラスは、シリカ（ＳｉＯ_２）３８％〜６４％と、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）３０％〜４０％と、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）５％〜１２％とを基本組成として含み、前記基本組成にジルコニア（ＺｒＯ_２）０．５％〜１５％、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）０．５％〜６．５％、五酸化リン（Ｐ_２Ｏ_５）０．５％〜４％、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）２％〜５％、及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）０％〜５％から選択された１つ又はそれ以上の成分をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】清澄剤としてＡｓ₂Ｏ₃を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５０〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜２０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜５％を含有し、かつＳｎＯ₂及び／又はＳｂ₂Ｏ₃を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−ＯＨ値が０．４８５／ｍｍ〜０．６５／ｍｍとなるようにガラス中の水分量を調節する。 （もっと読む）

【課題】透明樹脂の光学特性（屈折率ｎｄ、アッベ数νｄ）に整合し、且つアルカリ溶出量の少ない充填材やガラス繊維を創案することにより、樹脂複合体基板の透明性や信頼性を高める。
【解決手段】本発明の樹脂複合体基板用ガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜６５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、及びＺｎＯの合量） ５〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、及びＫ_２Ｏの合量） ０〜５％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜１０％、ＳｎＯ_２ ０〜２％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境への負担が小さくて表面電荷密度が大きく、かつ化学耐久性に優れた半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量％で、ＺｎＯ ４０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜２５％、ＳｉＯ_２ １５〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１２％を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス、および当該半導体被覆用ガラスからなるガラス粉末を含むことを特徴とする半導体被覆用材料。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率（ｎ_ｄ）が１．５９以上で、アッベ数（ν_ｄ）が６３以上である光学恒数を有し、ガラスの熔解安定性に優れ、精密プレス成形に適した軟化温度とプリフォーム用ゴブ成形性に好適な液相粘性を有し、しかも化学的耐久性に優れた光学ガラスの提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量％で、Ｐ_２Ｏ_５：３０〜５０％、ＢａＯ：１８〜４３％、Ｂ_２Ｏ_３：２〜１２％、Ａｌ_２Ｏ_３：１．４〜５％、Ｌｉ_２Ｏ：０超〜６％、Ｌａ_２Ｏ_３：０超〜９％、ＭｇＯ：０．１〜８％、ＣａＯ：０〜１０％、ＳｒＯ：０〜１５％、ＺｎＯ：０〜５％、Ｇｄ_２Ｏ_３：０〜７％、ＳｉＯ_２：０〜３％、を含み、ｎ_ｄ：１．５９〜１．６３、ν_ｄ：６３〜６８の光学恒数を有する光学ガラスに関する。 （もっと読む）

【課題】内部の気泡が少ないため薄型化しても配線の断線を引き起こしにくく、かつ高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック誘電体に好適な結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶を析出するとともに、長石結晶を析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末、およびそれを焼成してなるガラスセラミック誘電体。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分を含有し、１．７３以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、４５以上のアッベ数（ν_ｄ）とを有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で（θｇ，Ｆ）≧（−０．００１７０×ν_ｄ＋０．６３７５０）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】
ガラスの［ＯＨ］含有量および仮想温度の変化を通じて、低熱膨張性のシリカ・チタニアガラスの膨張性を調整および改善する。
【解決手段】
ガラスにおける［ＯＨ］濃度は６００〜２５００ｐｐｍの範囲でありうる。仮想温度Ｔ_Fは９００℃未満である。 （もっと読む）