【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル％で、Ｐ_２Ｏ_５を５０〜６８％、ＣｅＯ_２を１５〜３９％、Ｂ_２Ｏ_３を２〜７％、Ｐｒ_６Ｏ_１１を０．２〜０．５％含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が１≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２＜４の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはＰ_２Ｏ_５を５０〜６５％、ＣｅＯ_２を５〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３を３〜８％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＢａＯを０〜９％およびＰｒ_６Ｏ_１１を含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が４≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２の関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。 （もっと読む）

【課題】塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のＣｓ又はＳｒ、例えば、塩化物系使用済電解質融液中に残留するＦＰであるＣｓ又はＳｒを選択的に収着することで、電解質の再生が簡便化出来る収着材料が求められている。
【解決手段】Ｆｅ_２Ｏ_３を必須成分とし、モル％で表して、Ｆｅ_２Ｏ_３が１〜５０、Ｐ_２Ｏ_５が５０〜８０、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｅＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３から選択される１種以上の合計が１〜４０のＦｅ_２Ｏ_３−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなり、塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のＣｓ又はＳｒを選択的に収着することを特徴とする収着材料。ガラス転移点が４５０℃以上である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、ファイアスルー性が良好であり、またファイアスルーの際にシリコン太陽電池の光電変換効率を低下させ難く、しかも低温で焼結可能なビスマス系ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の光電変換効率を高めることである。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ６５．２〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ＋ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋Ｎｄ_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋Ｓｂ_２Ｏ_３（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＣｕＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、及びＳｂ_２Ｏ_３の合量） ０．１〜３４．５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】空調施設のドレイン水における抗菌性ガラスからの銀イオン溶出量を安定的に制御して、ドレイン水における微生物の発生を効果的に抑制できる空調施設用混合抗菌性ガラスを提供する。
【解決手段】空調施設において、銀イオンを放出することによって抗菌効果を発揮する空調施設用混合抗菌性ガラスであって、溶解した場合にアルカリ性を示す抗菌性ガラスと、溶解した場合に酸性を示す抗菌性ガラスと、を含み、アルカリ性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量、および、酸性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量がそれぞれ所定の範囲内の値であり、アルカリ性を示す抗菌性ガラスの配合量が、酸性を示す抗菌性ガラス１００重量部に対して、１０〜１００重量部の範囲内の値であり、かつ、所定測定条件にて測定される総銀イオン溶出量が所定の範囲内の値である。 （もっと読む）

【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル％で、少なくとも、５〜５０％のＳｉＯ_２と、０〜２０％のＡｌ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢａＯと、１０〜６０％のＴｉＯ_２と、５〜３５％のＲＥ_２Ｏ_３とを構成成分として有する。ここで、Ｂａは部分的にＳｒ、Ｃａ、Ｍｇで置換でき、ＲＥはランタニドまたはイットリウムであり、Ｔｉは部分的にＺｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｎｂ、Ｖ、Ｔａで置換できる。 （もっと読む）

【課題】歯科用途および歯列矯正用途における非晶質ガラスおよびガラス−セラミック材料、硬化性樹脂と非晶質ガラスまたはガラス−セラミックとの混合物を含む歯科材料その使用方法、を提供する。
【解決手段】Ａｌ₂Ｏ₃と、Ｂ₂Ｏ₃、ＧｅＯ₂、Ｐ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂、ＴｅＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅などあるいはＲＥＯ、Ｙ₂Ｏ₃、あるいはＺｒＯ₂、ＨｆＯ₂を含む非晶質ガラスおよびガラス−セラミックを含む物品。ここでＲＥＯという用語は、希土類酸化物を示す。 （もっと読む）

【課題】レーザ照射により発生する組成分布が光学特性の変化を発生させうる、特定の成分を含有するガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス部材は、元素分布を有しない均一ガラス材料にパルスレーザを集光照射することにより、ガラス内部のレーザ照射領域及びその周辺領域に、他の領域とは異なる、ガラス組成の空間的な分布が存在する異質領域を有する。異質領域は、前記ガラス組成の空間的な分布により、他の領域とは異なる屈折率分布を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、低い温度で軟化し易く、プレス成形を行い易い光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜５０．０％、ＴｉＯ_２成分を５．０〜４０．０％、ＺｎＯ成分を１．０〜４０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜２０．０％含有する。精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】大きくて、複雑な形状の物品が成形可能であるガラス物品の製造方法、およびその方法により得られた物品を提供する。
【解決手段】粒子、ビーズ、ミクロスフェアまたは繊維の形態のガラスを準備する工程であって、そのガラスが、ＲＥＯ（希土類酸化物）−Ａｌ₂Ｏ₃と、ガラスの重量に基づいて、ＳｉＯ₂を０〜２０重量％未満、Ｂ₂Ｏ₃を０〜２０重量％未満、およびＰ₂Ｏ₅を０〜４０重量％未満、とを含み、前記ガラスは、ガラス転移温度Ｔgと、結晶化開始温度Ｔxとを有しており、そのガラス転移温度Ｔgと、結晶化開始温度Ｔxとの差が少なくとも２５Ｋである工程、Ｔg以上の温度で、前記粒子、ビーズ、ミクロスフェアまたは繊維が融合して、融合した形成体を成形するように前記ガラスを加熱する工程、および前記融合した形成体を冷却して物品を成形する工程を含む、物品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしく、半導体電子部品が、常用で１０００℃以上の耐熱性を有する半導体封止用ガラスセラミックス及び半導体電子部品を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体封止用ガラスは、半導体とリード線の一部を被覆封止する半導体封止用ガラスであって、該ガラスが、封止することで結晶相を析出し、且つ、結晶相の割合が５０体積％以上となる性質を有する結晶性ガラス粉末からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカを用いることなくガラス基板主表面を高精度で研磨できる方法の提供。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、ＣｅＯ_２を含有する溶融物を冷却して得られた非晶質物を熱処理して得られたＣｅＯ_２結晶析出非晶質物を酸処理することによって当該ＣｅＯ_２結晶析出非晶質物から分離抽出したＣｅＯ_２結晶粉末を含有するスラリーを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の上に、記録層となるべき磁性層を含む複数の層が積層されている磁気ディスク。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有することが期待されるチタン系酸化物ガラスを、従来にはなかったバルク状の状態で提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のチタン系酸化物ガラスは、バルク状であって、実質的に、式(M1)_1-x(M2)_x(Ti_1-y1(M3)_y1)_y2O_zで表される組成を有する。M1はBa、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、NaおよびCaから選ばれる１種の元素であり、M2はMg、Ba、Ca、Sr、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Na、Sc、Y、Hf、BiおよびAgから選ばれる少なくとも１種の元素であり、M3はV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Al、Si、P、Ga、Ge、In、Sn、SbおよびTeから選ばれる少なくとも１種の元素である。x、y1、y2およびZは、0≦x≦0.5、0≦y1＜0.31、1.4＜y2＜3.2、3.9＜z＜8.0、M1がBaの場合はx+y1≠0、かつ、M1およびM2がBaの場合はy1≠0、の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】鉛成分を含有せず、希土類酸化物とフッ素を同時に含有するガラス系において、鉛ガラスに匹敵する遮蔽能力を有し、しかも表面硬度が高く可視域での透明性が極めて高いガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｌｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群より選択される１種以上を示す。）を１〜８５％、フッ素を０．１〜２０％含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０３ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物である。また、ＳｉＯ_２及び／又はＢ_２Ｏ_３及び／又はＧｅＯ_２及び／又はＰ_２Ｏ_５の合計量を１０〜７０％含有させることで、失透に対して安定で、表面硬度が高く透明性も放射線遮蔽能力も優れたガラス組成物を得ることができる。 （もっと読む）

直接的に、あるいは１層または複数層の中間層を介して、互いに接合される第１層および第２層を備えた絶縁体上半導体構造。上記第１層はゲルマニウムを含む実質的に単結晶の半導体材料を含むが、上記第２層は、上記第１層のゲルマニウムの線熱膨張係数の±２０×１０^−７／℃の範囲内の線熱膨張係数（２５〜３００℃）を有するガラスまたはガラスセラミックを含む。
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Ａｌ_２Ｏ_３少なくとも３５重量パーセント及び３マイクロメートル未満の平均セルサイズを有する複数のセルを含むセラミック材料及び物品。
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【課題】酸化ビスマスを含有し、光弾性定数が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を０．５〜８０％含有し、５４６ｎｍにおける光弾性定数が０〜２．０×１０^−５（ｎｍ・ｃｍ^−１・Ｐａ^−１）である光学ガラスである。更に、ＳｉＯ_２とＢ_２Ｏ_３の合計量を３〜７０％含有し、厚みが１０ｍｍの前光学ガラスにおいて、５４６ｎｍの波長における透過率が７０％以上であることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は一般式ａ_ｘｂ_ｙｇ_ｚを有する窒化ガラスに関し、式中、ａは少なくとも一種の陽性元素を含むガラス変性剤であり、ｂはＳｉ，Ｂ，Ｇｅ，Ｇａ及び／又はＡｌでありｇはＮ又はＯを伴うＮであり、Ｏ：Ｎの原子比は６５：３５〜０：１００である。また、本発明は窒化ガラスの製造方法及びそのガラスの用途に関する。結果は硬度、弾性率、破壊靱性、及びガラス転移温度の如き酸化ガラスの物理的及び機械的特性がネットワークの原子構造が酸素原子を窒素原子によって置き換えることによって強化されるときに改良／増加されることを明らかに示す。さらに、結果は極めて高い屈折率を達成できることを示す。 （もっと読む）

高純度および均質性を有する低アルカリ材料を製造可能にするために、本発明は、ホウ酸塩含有低アルカリ材料を製造する方法であって、ホウ素含有溶融材料は、交流電磁場を用いた装置で直接誘導加熱され、溶融材料は、構成成分として、少なくとも２５モル％の量的比率で、少なくとも１つの金属酸化物を含み、金属酸化物の金属イオンは、少なくとも２の原子価を有し、溶融材料中のホウ酸塩に対する二酸化ケイ素のモル物質量の比は、０．５以下である方法を提供する。 （もっと読む）

複数のガラス粒子を合体させることを含む物品の製造方法。物品の例としては、台所用品（例えば、皿）、歯科用ブラケット、強化ファイバー、切削工具インサート、研磨材およびガスエンジンの構造化コンポーネント（例えば、バルブとベアリング）が挙げられる。 （もっと読む）

（ｉ）Ｎｂ₂Ｏ₅またはＴａ₂Ｏ₅の少なくとも１種と、（ｉｉ）（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃、（ｂ）ＲＥＯ、または（ｃ）ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも１種の内の少なくとも２種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子（たとえば、研磨粒子）、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
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