【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ８〜３０％、Ｎａ_２Ｏ８〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％含有し、β−ＯＨ値が０．０１〜０．５／ｍｍであることを特徴とする。ガラス中のβ−ＯＨ値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】光学クラッド部に含まれる塩素濃度を多くして光ファイバの伝送損失を低く抑えることができる光ファイバ及び光ファイバ用ガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ１はコア２とクラッド５を含み、コア２はゲルマニウムを含まない石英ガラスからなり、クラッド５は、コア２の外周に位置する光学クラッド部３と、光学クラッド部３の外周に位置するジャケット部４を有し、光学クラッド部３は、フッ素を０．４５質量％以上１．５０質量％以下含有するとともに、塩素を平均濃度２７０ｐｐｍ以上２０００ｐｐｍ以下含有する。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂ、Ｇｅ、Ｇａ等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Ｓｎ、Ｃｕの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の熱膨張係数を実現でき、可視光の透過率が高い封止用ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、３％〜７０％のＢ_２Ｏ_３、４％〜４５％のＺｎＯ、０％〜３０％のＲ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓから選ばれる一種以上）の各成分を含有し、酸化物基準のモル％で表されたＲ_２Ｏ／Ｂ_２Ｏ_３の比の値が０．０１以上１以下であり、ＺｎＯとＲ_２Ｏ成分の合計量が１０％以上７０％以下であることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】
活性マトリクス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）などのフラットパネル・ディスプレイ装置における基板としての用途に望ましい物理的および化学的性質を示す、アルカリを含まないホウアルミノケイ酸ガラス。
【解決手段】
本明細書には、歪み点を有し、それによって良好な寸法安定性を有する無アルカリガラスおよびその製造方法が記載される。歪み点が高いガラスは、熱処理およびそれに続くガラス製造の間の圧縮／収縮に起因するパネルの歪みを妨げることができる。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスを製造するＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法において、得られる結晶化ガラス中のＣｌ含有量が５０ｐｐｍ以上となるようにガラス原料にＣｌ化合物を添加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、プレス成形を行いやすく、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、及びＬｉ_２Ｏ成分を３．５％より多く２０．０％以下含有する。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特に加熱体をカバーすることを目的とする、ケイ素、アルミニウム、リチウムの酸化物ベースのガラスセラミックプレートに関する。
【解決手段】本発明に従うと、前記プレートは少なくとも５０％のくもりを呈する。本発明は同様に、このようなプレートの製造方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】石英ガラス基板の両板の対向面にガラスペーストを印刷してリブを形成しても、焼成で熔解により崩壊せずに、高さが５０〜５００μｍの流路形成用ガラス組成物から成る微細流路が形成でき、石英ガラス基板を強固に接合でき、クラックが発生しない線熱膨張係数の小さな、ホウ珪酸塩ガラスを含有する流路形成用ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明の流路形成用ガラス組成物は、ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリット及びβスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムを含み、該ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリットが、Ｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物を必須成分として含み、これらの含有量が前記流路形成用ガラス組成物の全重量に対して６８〜８４重量％の範囲にあり、上記βスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムの含有量が上記全重量に対して４〜２２重量％の範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、可視光に対する透過率が高く、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和（ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が２０．０％未満である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性材料、特にプロトン伝導性材料を創案することである。
【解決手段】本発明のイオン伝導性材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、Ｒ₂Ｏ成分（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、Ａｇ₂Ｏ）の内、少なくとも２種以上を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電気素子パッケージの設計の自由度を確保しつつ、ガラスフリットの溶着時に加えられるレーザ光の照射熱によって、電極や電気素子が損傷するという事態を可及的に低減する。
【解決手段】有機ＥＬ層２を内部空間に気密封止した有機ＥＬ素子パッケージ１であって、有機ＥＬ層２が配置された素子基板３と、素子基板３の有機ＥＬ層２側の表面に間隔を置いて対向する封止基板４と、有機ＥＬ層２の周囲を囲むように素子基板３と封止基板４との間の隙間を気密封止するガラスフリット５と、素子基板３とガラスフリット５の間に配置され且つガラスフリット５を溶着する際に照射されるレーザ光を反射する反射膜として機能する誘電体多層膜８とを有する。この誘電体多層膜８は、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とを交互に積層したものから形成される。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０^−７／℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性薄膜材料、特にプロトン伝導性薄膜材料を創案すること。
【解決手段】本発明のイオン伝導性薄膜材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、薄板形状を有し、その厚みが１〜５００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．５６以上、アッベ数（ν_ｄ）が５７以上、屈伏点（Ａｔ）が５６０℃以下で、成形時の耐失透性が良好で、精密モールドプレス成形等のモールド成形及び微細構造の転写に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】ＳｉＯ_２：４．５〜１７．０重量％、ただし４．５重量％を除く、Ｂ_２Ｏ_３：４５．０〜６０．０重量％、ただし４５．０重量％を除く、Ｌｉ_２Ｏ＋：Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ：１．０〜２０．０重量％、ＢａＯ：５．０〜２５．０重量％、ＺｎＯ：４．５〜２５．０重量％、Ｙ_２Ｏ_３＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３：１．０〜１７．０重量％、含有する光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成が、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３とＢ_２Ｏ_３との合計、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとの合計、ＭｇＯとＣａＯとＢａＯとＳｒＯとＺｎＯとの合計がそれぞれ所定量であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、ＣｅＯ_２の含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して９９〜９９．９９９９質量％であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して１０ｐｐｍ以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】 プラスチックパッケージに適合する熱膨張係数を有し、また画像検査で異物や塵等の有無を正確に検知することができ、またα線放出量が常に少ない半導体パッケージ用カバーガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ 〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １．１〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１１％、アルカリ土類金属酸化物 ０〜２０％含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が９０〜１８０×１０^−７／℃、ヤング率が６８ＧＰa以上、ガラスからのα線放出量が、０．０５ｃ／ｃｍ^２・ｈｒ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】未融解珪砂の発生が少なく均質性に優れ、しかもガラス中に泡が少ない無アルカリガラスを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源を含有するガラス原料を溶融し、ガラスを得る無アルカリガラスの製造方法において、無アルカリガラスは、所定の組成を含有し、ガラス原料は、ＳｒＣＯ_３およびＳｒＣｌ_２を混合して、粒径Ｄ_５０が４０〜１８０μｍ、かつ粒径Ｄ_９０が４００〜５７０μｍとなるように粉砕した粉砕原料と、他の原料と、を混合したガラス原料を用いる無アルカリガラスの製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】保護パネルに十分な強度が得られ、然も、保護パネルの厚さの影響を受ける特性を良好に維持することが出来る光学パネル装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学パネル装置は、光学パネルと、該光学パネルの前面を覆う透光性の保護パネル２と、光硬化性樹脂を硬化させてなり前記光学パネルと保護パネルとの間に介在するボンディング層３を具え、前記保護パネル２は強化ガラス板21によって構成され、該強化ガラス板21の厚さは、２.５ｍｍ以上、６ｍｍ以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 ガラスのエッチング速度と耐失透性を両立させ、生産性を向上させることが可能なカバーガラスを提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法により製造される化学強化用ガラス基板を化学強化し、表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス基板からなり、該化学強化用ガラス基板は、質量％表示で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｎａ_２Ｏ ６〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ２％超〜２０％およびＺｒＯ_２ ０〜４．８％を含み、かつ（１）ＳｉＯ_２含有率−1/2Ａｌ_２Ｏ_３含有率が４６．５〜５９％、（２）ＣａＯ／ＲＯ（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０．３超である、（３）ＳｒＯ含有率＋ＢａＯ含有率が１０％未満である、（４）（ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２）／ＳｉＯ_２含有量比が０〜０．０７未満である、および（５）Ｂ_２Ｏ_３／Ｒ^１_２Ｏ（ただし、Ｒ^１はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０〜０．１未満である、ことを特徴とするカバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂ、Ｇｅ、Ｇａ等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Ｓｎ、Ｃｕの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の膨張係数を実現でき、Ｔｇが４５０℃以下の封着等に適したガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準のモル％表示で、３０％〜５５％のＰ_２Ｏ_５、１０％〜４０％のＺｎＯ、０．０１％〜３０％のＡｌ_２Ｏ_３、０％〜３０％のＲ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓから選ばれる一種以上）の各成分を含有し、酸化物基準のモル％で表されたＡｌ_２Ｏ_３／ Ｐ_２Ｏ_５の比の値が０．０１以上１以下であることを特徴とするガラス。 （もっと読む）