本発明における四ハロゲン化ケイ素および冶金グレードのケイ素からトリハロシランへの水素化のための反応器は、冶金用ケイ素粒子の床と、１つまたは複数の気体流入ポートと、１つまたは複数の固体流入ポートと、１つまたは複数の固体排出管と、トリハロシランを反応器から取り出すための１つまたは複数のポートとを含む。
反応器に流入する四ハロゲン化ケイ素／水素供給流中に供給ケイ素粒子を同伴させ、その流れをケイ素粒子の床に衝突させることの結果としての内部研磨および摩耗によって、床粒子の上に新しい表面が創出される。
本発明は、トリハロシランの収率が高く、ＭＧＳの燃焼速度が速く、反応器から流出するトリハロシラン流出物中の微細な粉塵キャリーオーバーとしての使用済みＭＧＳの除去、および床を除去するためのシャットダウンの間の時間が長い、という利点を有する。
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【課題】ハロゲン化シリコンを金属で還元してシリコンを生成させる反応の反応効率を向上させることができるシリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化シリコンと、水素の含有率が１質量ｐｐｍ以下である金属とを接触させることにより、ハロゲン化シリコンを還元してシリコンを得るシリコンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】無薬注で安定して脱水処理が可能で、且つ高濃縮度でシリコンを回収することができるシリコン回収方法、及びシリコン回収装置を提供すること。
【解決手段】シリコン粒子の粒径分布に２つ以上のピークを有するシリコン粒子群を含む研削或いは研磨排水を、液体サイクロン１３等の湿式分級装置で大きい粒径のピークのシリコン粒子群を含む濃縮液（液体サイクロンボトム液Ｗ３）と、小さい粒径のピークのシリコン粒子群を含む希薄液（液体サイクロントップ液Ｗ２）の２つに分け、濃縮液を脱水乾燥機１７で脱水し、高濃度でシリコン粒子を回収する。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン製造プロセスやトリクロロシラン製造プロセス、又は転換プロセスから分離されたポリマーを分解してトリクロロシランに転換する。
【解決手段】分解炉２に、分解炉２の内部を加熱する加熱手段１１と、分解炉２の内部に形成される反応室４と、反応室４内に分解炉２の上方から上下方向に沿って挿入され下端開口部３ａが分解炉２の内底面８ｂに対向する中心管体３と、中心管体３の外側に筒状に形成される反応室４の上部にポリマーと塩化水素とを供給する原料供給管５，６と、中心管体３の上端部から反応ガスを導出させるガス導出管７とが設けられ、中心管体３の外周面又は分解炉２の内周面の少なくともいずれかに、ポリマーと塩化水素とを反応室４内で混合しながら中心管体３の下端開口部３ａまで案内するフィン１４が一体に形成されている。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形体の熱伝導度を従来よりさらに高めることができる樹脂フィラーとなるシリカ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゾルを分散させた分散相液を、該分散相液と相溶性のない連続相液に、細孔を通過させて注入することによりエマルジョンを作製し、該エマルジョンから分散相を分離してケーキとし、分離することにより得られたケーキを、Ｃａ、Ｙ、ＬａおよびＥｕからなる群より選ばれる１種以上の元素を含む結晶化剤の共存下に、８００℃以上１３００℃以下の温度範囲で保持して焼成することを特徴とするシリカ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反応生成物の完全な分離と回収および再利用が、良好な生産性で実現でき、これにより低コストによる量産が可能となる高純度シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】温度を９１０〜１３００℃に維持された容器１と３００〜４００℃に維持された容器２及び０℃以下に維持され且つ出口側に廃ガス処理装置を介して外気に繋がる開口部を有する容器３を直列に結合し、容器１の入口より、高純度の四塩化ケイ素ガス、亜鉛蒸気及び不活性ガスを、１０００〜１２００ｈPaの圧力下で四塩化ケイ素が化学当量比で亜鉛を上回る状態で供給する。これにより系内に亜鉛が存在しない状態を作り、容器１でシリコンを捕集し、容器２で溶融状態の副生塩化亜鉛を微粒シリコンと共に捕集し、容器３で余剰四塩化ケイ素を液体で回収する。容器２の副生塩化亜鉛は、微粒シリコンを回収した後、水溶液電解工程に送られ、亜鉛を回収し、再利用する。 （もっと読む）

【解決手段】不純物を含むシリコンを加熱溶融し、又は不純物を含むシリコンと不純物精製用添加剤を含む固体とをそれぞれが溶融するよう加熱し、溶融状態のシリコン又は上記シリコン及び上記不純物精製用添加剤を含む融液中に不純物精製用気体として窒素を含む気体を吹き込むことにより、シリコン中の不純物を低減することを特徴とする高純度シリコンの製造方法。
【効果】本発明によれば、金属Ｓｉ中の不純物、特にＢとＰ、さらにＡｌ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｖ等の金属不純物を１つの工程で同時に低減することができる。また、一般的な大気開放炉を使用するため、高真空雰囲気も必要とせず、さらに、電子ビームやプラズマトーチ等の高価な設備も不要であるため、設備投資額を大幅に低減できる。この結果、極めて安価にＢ，Ｐと共に、Ａｌ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｖ等の不純物が低減された金属Ｓｉを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 平均粒子径が１００ｎｍ程度のシリカ粉末は付着性が強く、製造装置内へ容易に付着堆積してしまうため、連続的な合成運転が困難となる。従って、付着性が強く連続的な製造運転が困難なシリカ粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】 ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等の含ケイ素化合物を火炎中で燃焼させて熱分解し、ついで生じたシリカ粒子を捕集して燃焼排ガスから分離する際に、燃焼排ガス温が３００〜６００℃の範囲で分離することで、シリカ粒子の製造装置内への付着が低減できる。 （もっと読む）

【課題】限外濾過膜を用いて、無機ナノ粒子溶液をクロスフロー濾過することにより、無機ナノ粒子を高精度で分級する方法およびその限外濾過膜モジュール、クロスフロー濾過装置を提供すること。
【解決手段】分画粒子径が、標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子の粒子径の平均値の０．５倍以上２倍以下である限外濾過膜を用いて、粒子径比が１．５以上１０以下であり、その粒子径が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下である標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子無機ナノ粒子を含有する溶液をクロスフロー濾過することにより、標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子を分離する方法および限外濾過膜モジュール、装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】シリコンの機械加工を行った際に発生する廃液から従来よりも簡便な手法にて不純物の除去が可能となるシリコン精製方法、および本精製方法に好ましく使用できるシリコン精製装置を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン精製方法は、シリコンの機械加工を行った際に発生する廃液から酸化シリコンを有するシリコン粉を含む粉末を分離する粉末分離工程と、減圧または不活性ガス雰囲気下の加熱容器中において前記粉末をシリコンの融点以上２０００℃以下の温度に加熱し、シリコンが溶融した溶湯とする溶融工程と、前記溶湯に含まれる前記加熱容器の内壁または底に付着する粘度の高い酸化シリコンを前記加熱容器に残し、粘度の低いシリコン融液を冷却容器に出湯する出湯工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】原料粉体の平均粒径が粒状化の過程において変動することが少なく、目的とする粒度分布を有する球状化粒子を１つのバーナにより得られる無機質球状化粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】拡散型のバーナの第一原料供給路１Ａに粗粉を、第二原料供給路６Ａに微粉をキャリアガスに搬送して送り込み、酸素を第一酸素供給路５Ａと第二酸素供給路７Ａとに二分して供給する。燃料ガスを燃料供給路４Ａに送り込む。粗粒の原料粉体を分散体積が小さく火炎温度が高い領域で加熱溶融し、細粒の原料粉体を分散体積が大きく火炎温度が低い領域で加熱溶融する。 （もっと読む）

【課題】高純度のポリシリコンを高速で得ることが可能な製造装置を提供する。
【解決手段】内部に導入されたハロゲン化ケイ素化合物の超臨界流体状態を形成するための反応容器本体１０と、反応容器本体１０の内部に設けられプラズマ放電を行うための電極１１，１２と、反応容器本体１０の内部に設けられプラズマ放電で分解したシリコンをシリコンの融点より高い温度に保持された表面上で析出させ、且つ、析出したシリコンを融解させる析出用部材３０と、析出用部材３０上で融解したシリコンを回収する回収部材と３２、を備えるポリシリコンの製造装置Ｉ。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】、（Ａ）珪質頁岩の粉状物を準備する工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で準備した珪質頁岩の粉状物と、アルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のアルカリ性スラリーとし、珪質頁岩の粉状物中のＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを液分中に溶解させた後、該アルカリ性スラリーを固液分離して、Ｓｉ、Ａｌ、Ｆｅを含む液分と、固形分を得る工程と、（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを１０．３以上１１．５未満とし、液分中のＡｌ、Ｆｅを析出させた後、固液分離を行い、Ｓｉを含む液分と、Ａｌ、Ｆｅを含む固形分を得る工程と、（Ｄ）工程（Ｃ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを９．０以上１０．３未満とし、液分中のＳｉを析出させた後、固液分離を行い、高純度シリカとして回収しうるＳｉＯ_２を含む固形分と、液分を得る工程を含む高純度シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属ケイ素から非金属不純物を除去する方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン元素を含むケイ素を金属ケイ素に混合し、この混合物を融解させて、金属ケイ素中に含まれる非金属不純物を、ハロゲン化物の形で融解液から気化させ、除去する。 （もっと読む）

【課題】シェルが無機酸化物などを含有する多孔質体であり、かつコアが中空であり、たとえば塗料用着色剤などとして有用な中空無機粒子を提供する。
【解決手段】無機酸化物と、粒径１ｎｍ〜１００ｎｍの金属および金属イオンから選ばれる少なくとも１つの特性付与成分とを含有するスラリーを好ましくは２００℃未満の加熱下で噴霧造粒し、シェルが無機酸化物と特性付与成分とを含有する多孔質体であり、かつコアが中空である中空無機粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】半導体用途で用いるポリクロロポリシラン中のアルミニウムやチタンに代表される金属不純分を除去する方法を提供する。
【解決手段】金属不純分を含むクロロポリシランを固体微粒子と接触させることによって、工業的に安全簡便に高純度なクロロポリシランを製造することができることを見出し、さらに固体微粒子はフィルターによってろ別することができ、使用後のフィルターをアルカリ性液体で処理することにより安全に再生処理することができる。 （もっと読む）

【課題】分散剤や樹脂等のバインダー成分がオープン孔内へ侵入するのを防止することができ、低屈折率性、低誘電性等の多孔質酸化物粒子の特性を維持することができる表面被覆多孔質酸化物粒子及び多孔質酸化物粒子の表面被覆方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆多孔質酸化物粒子は、酸化ケイ素等からなる多孔質酸化物粒子１の外周表面２に反応点５を形成し、この反応点５に有機高分子からなる被覆層６を結合して固定し、この被覆層６によりオープン孔３の開口端を封止するとともに、このオープン孔３内を親水性とし、この被覆層６の厚みを０．１ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下とした。 （もっと読む）

帯鋸および他のシリコンの機械的作業から回収されたシリコン粉末を、光起電力用途向けに利用可能な多結晶−多重結晶シリコンインゴットを成形するためのるつぼの充填材料を調製するための供給材料として再利用するためのプロセスを提供する。このプロセスは複数のステップであり、大部分の作業が不活性雰囲気下で実行される。 （もっと読む）

【課題】シリコンの加工工程及び回収・再生工程において、不純物金属や炭素とシリコンとの化学反応を抑制することで、これら金属及び炭素によるシリコンの汚染を低減させた電子産業用シリコンの加工方法及び再生方法を提供する。
【解決手段】シリコンインゴットやシリコンウェーハを加工する加工方法又はその加工により生じた加工屑を含有するシリコンスラッジから、シリコンを回収し、電子産業用シリコンとして再生するシリコンの再生方法において、シリコンの加工表面又はシリコン削り屑を含む溶液に酸化還元電位を制御するガスを添加する電子部品用シリコンの加工方法及び再生方法。 （もっと読む）

多結晶シリコンを作製する当該プロセスには、反応チャンバーにおいて、熱分解可能なシリコン化合物をシリコン粒子に接触させることが含まれる。熱分解可能なシリコン化合物の一部が分解されシリコンダストが生成される。当該シリコンダストを、上記反応チャンバーから排出し、当該反応チャンバーへ再循環させる。取り出されたシリコンダストは、シリコン粒子と凝集する。
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