【課題】製造、設備及び運転の費用の節減に有効であり、純度制御が易しい高純度シリコン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】珪藻土を酸性溶液に溶解させる段階、溶解された珪藻土に塩基溶液を添加してシリカを沈澱させて回収する段階、及び回収されたシリカに還元剤を混合し、還元反応を引き起こしてシリコンを得る段階を含む。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】、（Ａ）珪質頁岩の粉状物を準備する工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で準備した珪質頁岩の粉状物と、アルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のアルカリ性スラリーとし、珪質頁岩の粉状物中のＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを液分中に溶解させた後、該アルカリ性スラリーを固液分離して、Ｓｉ、Ａｌ、Ｆｅを含む液分と、固形分を得る工程と、（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを１０．３以上１１．５未満とし、液分中のＡｌ、Ｆｅを析出させた後、固液分離を行い、Ｓｉを含む液分と、Ａｌ、Ｆｅを含む固形分を得る工程と、（Ｄ）工程（Ｃ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを９．０以上１０．３未満とし、液分中のＳｉを析出させた後、固液分離を行い、高純度シリカとして回収しうるＳｉＯ_２を含む固形分と、液分を得る工程を含む高純度シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸液による酸洗工程の後の水洗工程において、酸液の除去の完了を簡単に、かつ、精度良く判断することが可能な多結晶シリコンの洗浄方法及び洗浄装置、並びにその洗浄によって高品質の多結晶シリコンを製造する方法を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンの洗浄方法であって、酸液による酸洗工程Ｓ４と、この酸洗工程Ｓ４の後に純水で洗浄する水洗工程Ｓ５とを有し、水洗工程Ｓ５では、純水を貯留した水洗槽に多結晶シリコンを浸漬し、少なくとも１回以上水洗槽内の純水を入れ替えて、多結晶シリコンの表面に残留した酸液の除去を行うとともに、水洗槽中の純水の電気伝導度Ｃを測定し、電気伝導度Ｃの測定値によって水洗工程Ｓ５の終了を判断する。 （もっと読む）

本発明は高純度ケイ素を提供する方法に関し、この方法は、非晶性ケイ素、炭素、および不純物を含む農業廃棄物を供給する工程と、前記農業廃棄物から前記不純物をある程度抽出する工程と、炭素のシリカに対する割合を変化させる工程と、シリカを高純度ケイ素（太陽光発電ケイ素）に還元する工程とを含む。
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【課題】シェルが無機酸化物などを含有する多孔質体であり、かつコアが中空であり、たとえば塗料用着色剤などとして有用な中空無機粒子を提供する。
【解決手段】無機酸化物と、粒径１ｎｍ〜１００ｎｍの金属および金属イオンから選ばれる少なくとも１つの特性付与成分とを含有するスラリーを好ましくは２００℃未満の加熱下で噴霧造粒し、シェルが無機酸化物と特性付与成分とを含有する多孔質体であり、かつコアが中空である中空無機粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】砥粒成分を含むシリコン粉から高純度のシリコン原料を回収するシリコンの精製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】不活性ガス雰囲気下、砥粒を用いた機械加工により発生するシリコン粉を坩堝中でシリコンの融点以上の温度に加熱してシリコン溶湯を得る溶融工程、前記シリコン溶湯を一方向凝固により前記坩堝の下部から上部に向けて凝固させてシリコン塊を得る凝固工程、および前記坩堝における前記シリコン塊の下部領域および上部領域を、切断、研磨およびブラストから選択される物理的方法、または酸溶解およびアルカリ溶解から選択される化学的方法で除去する除去工程を含むことを特徴とするシリコンの精製方法により、上記の課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】水素結合性ポリマーとシリカからなる有機無機ハイブリッド材料及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、沈降シリカと同様の外観と嵩高さを有する新規な有機無機ハイブリッド材料、及びその製造方法に関するものである。
【解決手段】本発明は、シリカと水素結合性ポリマーからなる有機無機ハイブリッド材料であって、水銀ポロシメーターによる細孔径３ｎｍ〜１０μｍの範囲の細孔容積が０．６ｍｌ／ｇ以上であることを特徴とする有機無機ハイブリッド材料、及び、アルカリ金属珪酸塩と酸性化剤を、水及び水素結合性ポリマーの存在下で、ｐＨを４〜９に維持しながら反応させ、反応物を沈降させることを特徴とする有機無機ハイブリッド材料の製造方法である。 （もっと読む）

帯鋸および他のシリコンの機械的作業から回収されたシリコン粉末を、光起電力用途向けに利用可能な多結晶−多重結晶シリコンインゴットを成形するためのるつぼの充填材料を調製するための供給材料として再利用するためのプロセスを提供する。このプロセスは複数のステップであり、大部分の作業が不活性雰囲気下で実行される。 （もっと読む）

超疎水性コーティング、超疎水性コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびに超疎水性コーティングを調製する方法が提供される。例示的な超疎水性デバイスは、基材構成部分と、この基材構成部分を覆って配置された１層または複数の超疎水性コーティングであり、これらの１層または複数の超疎水性コーティングの少なくとも１層が、少なくとも約１５０°の水接触角および約１°未満の接触角ヒステリシスを有する超疎水性コーティングとを含むことができる。これらの１層または複数の超疎水性コーティングは、超高水分含量酸触媒作用によるポリシリケートゲルを含むことができ、このポリシリケートゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。
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【課題】シリコンの加工工程及び回収・再生工程において、不純物金属や炭素とシリコンとの化学反応を抑制することで、これら金属及び炭素によるシリコンの汚染を低減させた電子産業用シリコンの加工方法及び再生方法を提供する。
【解決手段】シリコンインゴットやシリコンウェーハを加工する加工方法又はその加工により生じた加工屑を含有するシリコンスラッジから、シリコンを回収し、電子産業用シリコンとして再生するシリコンの再生方法において、シリコンの加工表面又はシリコン削り屑を含む溶液に酸化還元電位を制御するガスを添加する電子部品用シリコンの加工方法及び再生方法。 （もっと読む）

本発明は、水性懸濁液（Ｓ）を濾過して洗浄するための工程を含む沈降シリカの調製方法に関するものであり、この方法は次の工程を含む：
（ａ）沈降シリカの懸濁液（Ｓ）の第１の部分（Ｓ１）を濾過し、それによってケーク（Ｇ１）を形成させ、次いでこのケーク（Ｇ１）を洗浄し、それによって得られた洗浄されたケーク（Ｇ１）を特に水で希釈することによって懸濁させることによって、懸濁液（Ｓ'１）を形成させる工程；
（ｂ）前記懸濁液（Ｓ）の第２の部分（Ｓ２）を濾過し、それによってケーク（Ｇ２）を得る工程；並びに
（ｃ）工程（ａ）から得られた前記懸濁液（Ｓ'１）を、工程（ｂ）の終わりに得られて濾過プレコート層として用いられるケーク（Ｇ２）を通して濾過する工程：
を含む。
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【課題】芯材の表面に被覆層が均一に形成された粒子を高い量産性で容易に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】被覆層を有する粒子の製造方法は、芯材粒子が媒体に分散してなる母液２０を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた強分散装置１３に被覆層形成用の反応物を供給し、該強分散装置１３において該母液２０を強分散させた状態下に該芯材粒子と該反応物とを反応させて、該芯材粒子の表面に被覆層を形成する。複数の強分散装置１３が、循環経路に対して並列に又は直列に設けられていることが好ましい。また時間の経過と共に反応物の供給量及び／又は濃度を漸減させることも好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】画像解析法により測定される平均粒子径（Ｄ１）が１０〜１００ｎｍの範囲にあり、比表面積が３００〜７００ｍ²／ｇの範囲にあり、見掛け嵩密度（ＡＢＤ）が０
．０５〜０．１５ｇ／ｍｌの範囲にあるシリカ微粒子が分散媒に分散してなるシリカゾルおよびその製造方法。
【効果】本発明に係るシリカゾルの分散質であるシリカ微粒子は、粒子径に比して、比表面積が大きく、多数の針状突起を有した特異な構造を有するものであり、触媒担体、研磨材、補強剤または充填材など各種用途に適用することが期待される。また、本発明に係るシリカゾルの製造方法は、このようなシリカ微粒子が分散してなるシリカゾルを効率的に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】耐水熱性に優れるシリカゲルを提供すること。
【解決手段】遷移金属又は卑金属を含有し、ナトリウム含有量がＮａ_２Ｏとして、０〜０．２質量％であるシリカゲル。 （もっと読む）

【課題】低湿度及び高湿度での吸湿量が共に顕著に高いシリカゲル、シリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子を提供することにあり、また合成が容易なシリカゲルの製造方法を提供すること。
【解決手段】細孔直径２．５ｎｍ以下の領域において細孔分布のピーク（最大値）が存在し、細孔直径１０〜２５ｎｍの合計細孔容積（Ｖ_１）と細孔直径２〜２５ｎｍの合計細孔容積（Ｖ_２）の比（Ｖ_１）／（Ｖ_２）が、０．１５〜０．４であるシリカゲル、その製造方法、これを担持してなるシリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素と飽和塩酸との反応によってスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して焼成することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム１〜１０％、および過酸化水素１〜１０％を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】廃スラリーから簡易に多くの高純度シリコンを回収することができるシリコン回収方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン回収方法は、砥粒とクーラントを含むスラリーを用いたシリコン塊又はシリコンウエハの切断又は研磨によって前記スラリーにシリコン屑が混入された廃スラリー又はその濃縮分を固液分離してシリコン屑を含有するシリコン回収用固形分を取得する第１固液分離工程と、洗浄液を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄液と前記シリコン回収用固形分を固液分離する第２固液分離工程とを備え、前記クーラントは、液状有機物を含み、前記洗浄液は、前記液状有機物に対し相溶性を有し且つ前記液状有機物よりも沸点が低い低沸点有機溶媒と水とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒中に分散させることが可能なシリカナノシートを得ることができるシリカナノシートの製造方法を提供すること。
【解決手段】二ケイ化一カルシウムと濃塩酸とを混合して層状のシロキセンを形成する工程と、前記層状シロキセンと有機溶媒とを混合して攪拌し、前記有機溶媒中でシリカナノシートを形成する工程と、を含むことを特徴とするシリカナノシートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ＣＺ引上げ法による半導体用シリコン単結晶の製造や、太陽電池用多結晶シリコンの製造等に溶解原料として使用される多結晶シリコンを高度に洗浄する。洗浄コストを下げる。シリコンロス、薬液使用量、廃液による環境負荷を軽減する。ＮＯｘガス発生の問題を解決する。
【解決手段】 シーメンス法により還元反応炉内で多結晶シリコンを製造した後、還元反応炉を開放する前に、還元反応炉内に水蒸気を含む清浄なガスを導入し、多結晶シリコン１の表面に汚染が少ない酸化膜２を形成する。その多結晶シリコン１にフッ酸による洗浄処理を行い、多結晶シリコン１の表面に形成された汚染が少ない酸化膜２を除去する。 （もっと読む）

【課題】トナー粒子からの脱落がなく、トナーとしての流動性が良好であって、且つトナー表面に露出する磁性体表面の面積が小さくトナーの帯電を阻害し難くなることによって、トナーの帯電性能が向上するため、高温高湿環境下においても画像濃度が高く、その画像濃度維持性も高いトナーが得られる磁性トナー用磁性酸化鉄粒子粉末を提供する。
【解決手段】 粒子形状が球状を基本として粒子表面に角張った突起を有する磁性酸化鉄粒子粉末は、第一鉄塩水溶液と水酸化アルカリ水溶液とを反応させてマグネタイト種晶粒子を生成させ、該種晶粒子を成長反応させる二段階反応からなるマグネタイト粒子粉末の製造法において、第一段反応中のｐＨを７．０〜８．５の範囲とし、且つ、第二段反応中に第一段反応のＦｅに対し１．０〜３０．０原子％の第一鉄塩溶液を添加して得られる。 （もっと読む）