【課題】高圧条件といった過酷な反応条件を必要とすることなく、温和な条件下で高速液体クロマトグラフィー用シリカゲルとして求められる粒径が１．５μｍ以上の球状シリカゲルの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】水より極性の低い有機溶媒と水との混合溶媒中で、アルコキシシラン化合物及び／又はその誘導体を、特定の（数平均）分子量を有する有機成分を特定量有する反応系において、加水分解し、得られた反応混合物にマイクロ波を照射することにより、粒径が１．５μｍ以上の球状シリカゲルが得られることを見出した。 （もっと読む）

以下の物理化学的パラメータを有するミクロポーラス沈降シリカが本明細書に記載される：ＣＴＡＢ表面積５０から３００平方メートル／グラム、ＢＥＴ／ＣＴＡＢ比≧１．３、細孔径分布の相対幅γ≦３．５。上記沈降シリカは、Ｓｅａｒｓ数１０から２８及びＳｅａｒｓ数／ＣＴＡＢ比≦０．１６も有することができる。上記ミクロポーラス沈降シリカを含む、加硫可能及び加硫されたエラストマー組成物、例えばタイヤも本明細書に記載される。 （もっと読む）

【課題】高純度で安価なコロイダルシリカ及びそのようなコロイダルシリカを製造する方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属を含有する粗製コロイダルシリカを表面処理剤で湿式処理する表面処理工程と鉱酸含有液、水の順で洗浄して精製コロイダルシリカとする精製工程とを有するものである。特に表面処理剤はシランカップリング剤及びシラザン類からなる群から選択される１以上の化合物を含むことが望ましい。 （もっと読む）

【課題】無機ナノ粒子の分散性を改善し、また高分子膜の気体透過特性を改善する。
【解決手段】ナノオーダーの粒子径を有するシリカナノ粒子のような無機ナノ粒子の表面に、ハイパーブランチ高分子またはデンドリマー高分子を付加することにより得られた表面ハイパーブランチまたはデンドリマー修飾無機ナノ粒子をマトリクス樹脂中に分散し、製膜することにより気体分離膜を作製する。表面ハイパーブランチ修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を１個のカルボキシル基および２個以上のアミノ基またはハロゲン原子を有する化合物と反応させることにより作製することができ、表面デンドリマー修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を３個以上のカルボキシル基を有する化合物で処理、反応させた後、２個のアミノ基を有する化合物で処理、反応させ、これを繰り返すことにより作製することができる。 （もっと読む）

【課題】比誘電率及び／又は誘電正接が低く、異方性が高い板状シリカ粒子の製造方法、及び該板状シリカ粒子を提供する。
【解決手段】（１）ナノ細孔が実質的に存在しない中空状シリカ粒子を粉砕する工程を含む、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子の製造方法、及び（２）その製造方法により得られた、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】研摩傷の発生が少ないセリウム系研摩材を、簡易に製造する方法及びセリウム系研摩材の処理方法を提供する。
【解決手段】本発明は、焙焼後のセリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理工程を有するセリウム系研摩材の製造方法において、該セリウム系研摩材原料が含有するＳｉのモル数をＳｉ^＊、フッ化水素酸のモル数をＨＦ^＊としたとき、ＨＦ^＊／４Ｓｉ^＊が１．０以上で、該セリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理前又は混合処理後に、（ｉ）該セリウム系研摩材原料の湿式分級処理、（ｉｉ）該セリウム系研摩材原料をスラリーとし、所定のストークス径以上の粗粒子を除去する沈降分離処理。（ｉｉｉ）該セリウム系研摩材原料のフィルタリング処理、の少なくとも１種の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度合成シリカ粒子を生成する方法において、加水分解によって生成するゲルから効率よく塩酸を除去して高純度シリカ粒子を製造する方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって生成したシリカと塩酸を含むゲル状物質から高純度のシリカ粒子を製造する方法において、水相溶性を有する易揮発性の有機溶媒によってゲル中の塩酸を置換させた後に該ゲルを乾燥することを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法、好ましくは、有機溶媒としてメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトンのいずれかあるいは１種以上の混合物を使用し、７０〜１５０℃で乾燥を行う製造方法。 （もっと読む）

【課題】 シリカゲルの用途の拡大を図るために、ケイ酸アルカリ溶液からシリカゲルを筒状又は板状に析出させることのできるシリカゲルの製法を提供することにある。
【解決手段】 ケイ酸アルカリ溶液のpH値を硫酸で11.0以上12.0以下に調整し、調整後のケイ酸アルカリ溶液を電気分解して陽極線の表面にシリカゲルを円筒状に析出させる。 （もっと読む）

【課題】シリコンの精製を短時間で効率的に行なうことができるシリコン精製方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属の塩化物およびアルカリ土類金属の塩化物の少なくとも一方を含む材料が溶融されてなる溶融物に固体シリコンを接触させる工程と、溶融物に接触させた後の固体シリコンの表面を処理する工程とを含むシリコン精製方法である。 （もっと読む）

【課題】 クロロシラン類を使用するクローズド系の運転開始に際して行う洗浄作業を効率化して、運転開始に伴うコストの引き下げを可能とするクローズド系の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 クロロシラン類を使用し且つ外気から遮断されたクローズト系の運転開始前に当該クローズド系内へクロロシラン類を充填するに当たり、クローズド系内を乾燥した不活性ガスで加圧置換する。加圧置換操作完了から１時間以上経過した時点の系内ガスの露点が−２０℃以下であることを確認した後に、クローズド系内へのクロロシラン類の充填を開始する。 （もっと読む）

【課題】 金属酸化物がナノメートルオーダーのファイバー、粒子又はリボン形状を有し、これらを基本ユニットとして集合してなるナノ構造体で固体基材が被覆されている構造物とその簡便且つ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを含有する溶液中に固体基材を浸漬させた後取り出し、該固体基材の表面にポリマー層を形成させる工程（Ｉ）と、前記工程（Ｉ）で得られたポリマー層を有する固体基材と、金属酸化物のソース液とを接触して、固体基材表面のポリマー層中に金属酸化物を析出させナノ構造複合体被覆型構造物を得る工程と、前記工程（ＩＩ）で得られたナノ構造複合体被覆型構造物を焼成する工程（ＩＩＩ）と、を有することを特徴とする金属酸化物を主構成成分とするナノ構造体で被覆された金属酸化物被覆構造物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低コストでシリコンを高純度に精製することが可能なシリコンの精製方法およびその方法により得られた精製シリコンを提供する。
【解決手段】原料シリコンから精製シリコンを得るシリコン精製方法であって、原料シリコンを溶融させて得られた溶融シリコンを凝固させてシリコン塊を形成する工程と、シリコン塊を第１の酸溶液で洗浄する工程と、第１の酸溶液で洗浄されたシリコン塊を第１の塩基性溶液でさらに洗浄する工程とを含むシリコン精製方法とその方法により得られた精製シリコンである。 （もっと読む）

【課題】従来のポリマー材料を用いたプロトン伝導体では、耐熱性、化学的安定性および寸法安定性に課題があり、さらに、１００℃を越える温度では、プロトン伝導体として安定に作動させることが困難なため、燃料電池の電解質に用いた場合に高温で安定に作動することができなかった。
【解決手段】少なくとも下記（１）式のアニオン基を有し、１５０℃、相対温度１００％におけるプロトン伝導度が０．１Ｓ／ｃｍ以上であることを特徴とするプロトン伝導性シリカ。
【化１】


（ただし、ＸはＣ_ｍＨ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＦ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＣｌ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＢｒ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、アンスリル基から選ばれる置換基である。） （もっと読む）

【課題】低屈折率でそれを長期に維持可能であり、高硬度でかつ被コーティング材料への膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】膜の表面および内部に存在する細孔が直径２ｎｍ以下のミクロ孔のみであって、鉛筆硬度が５Ｈ以上であり、分光エリプソメータを用いて波長６５５ｎｍの光を膜表面に対して入射角７５度にて入射させた際の屈折率が１．３３以下である多孔質シリカ膜であり、少なくとも、テトラアルキルオルソシリケート、メタノール若しくはエタノール、ヒドロキシケトン誘導体および水を混和して反応させる工程を含む方法により製造する。 （もっと読む）

【課題】多孔質の複合酸化物粒子の表面を多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆した種々の微粒子構造を提供すると共に、該微粒子を含有する被膜を基材の表面に形成して、低屈折率で、樹脂等との密着性、強度、反射防止能等に優れた被膜付きの基材を提供する。
【解決手段】微粒子は、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子が、厚さが０．５〜２０ｎｍである多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆されてなる。前記微粒子は、珪素に直接結合した有機基を含むことが好ましく、該有機基が直接結合した珪素のモル数（Ｓ_R）と全珪素のモル数（Ｓ_T）の比Ｓ_R／Ｓ_Tが０．００１〜０．９であることが好ましい。被膜付基材は、前記した微粒子と被膜形成用マトリックスを含む被膜が基材表面に形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】優れた研磨性能を発揮し、かつ、長時間の研磨に供しても、研磨レートの低下が最小限に抑制された研磨用組成物を提供する。
【解決手段】水系分散媒に、真球度が０．９以上、１．０以下の範囲にある球状シリカ粒子と真球度が０．３以上、０．９未満の範囲にある非球状シリカ粒子とが分散してなり、非球状粒子に対する球状粒子の重量比が２／９８〜３５／６５の範囲にある研磨用組成物である。球状粒子の平均粒子径が２０〜１５０ｎｍの範囲にあり、非球状粒子の平均粒子径が５〜１００ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】別途のミーリング工程なしでセラミック粉末粒子を満遍なく分散させセラミック粉末らを満遍なく分散させるために必要な多くの工程を画期的に改善することができ、セラミックスラリー製造において粉砕工程が要らなくなるので、セラミック粉末の結晶性に損傷なしに、セラミック粉末粒子を均一に分散させることができ、高品質のセラミックスラリーを製造することができる。
【解決手段】洗浄されたセラミック粉末表面に親核性作用基を形成させる段階、及び上記親核性作用基が形成されたセラミック粉末表面にアジリジン同等体を連鎖重合反応させ末端にアミン基を有するポリマー層でコーティングする段階、とを含むことを特徴とするセラミック粉末コーティング方法、上記セラミック粉末を分散溶媒に酸と一緒に添加して正電荷を形成させ分散性を向上させる方法、上記方法により製造されたセラミック粉末及びセラミックスラリーを提供する。 （もっと読む）

【課題】物理的衝撃に強い光導電層を製造する。
【解決手段】放射線画像情報を静電潜像として記録する放射線撮像パネルを構成するＢｉ₁₂ＭＯ₂₀粒子（ただし、ＭはＳｉ，Ｇｅ，Ｔｉ中の少なくとも1種である）からなる光導電層の製造方法であって、Ｂｉ₁₂ＭＯ₂₀粒子の圧粉体２′を成形し、この圧粉体２′に高分子物質５を含浸させ、含浸させた高分子物質を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】化粧料に配合されたとき、持続して優れたソフトフォーカス性を付与することができる新規な非晶質シリカ及びその製造法を提供する。
【解決手段】Ｘ線小角散乱法で測定した一次粒子径が１８乃至５０ｎｍであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が０．７０乃至０．８５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低コストでホウ素及びリンの濃度が小さいシリコン塊を回収するためのシリコンスラッジ回収方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコンスラッジ回収方法は、シリコン塊を機械加工するときに生じるシリコンスラッジからシリコン塊を再生するためのシリコンスラッジ回収方法であって、被加工シリコン塊の電気抵抗率または不純物の濃度を予め測定する測定工程と、所望の測定値を有するシリコン塊を選別する工程と、選別されたシリコン塊より生じるシリコンスラッジを回収する回収工程とを備える。 （もっと読む）