【課題】共通に使用できる表面修飾方法を用いて、水と有機溶媒を交換することなく有機修飾されたゲルを製造する方法を提供する。
【解決手段】ａ）シリカ系ヒドロゲルをｐＨ３以上で形成し、次いでｂ）得られたヒドロゲルの表面をシリル化剤で処理して修飾して表面修飾ゲルとなし、次いでｃ）得られた表面修飾ゲルを、臨界温度・圧力に至らない条件下に乾燥する。 （もっと読む）

【課題】極めて微細な中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】〔１〕レーザ回折／散乱法によって測定される体積平均粒子径が０．０５〜０．４５μｍで、最大粒子径が体積平均粒子径の５倍以内であり、空孔率が２０〜７０体積％、ＢＥＴ比表面積が３０ｍ²／ｇ未満、９８質量％以上がＳｉＯ₂である中空シリカ粒子、及び〔２〕疎水性有機化合物（ａ）と、第四級アンモニウム塩（ｂ）、及び加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源（ｃ）を含有する水溶液を調製する工程（I）、得られた水溶液を１０〜１００℃の温度で撹拌して、シリカから構成される外殻を有し、かつ核に疎水性有機化合物（ａ）を有するコアシェル型シリカ粒子の水分散液を調製する工程（II）、得られたコアシェル型シリカ粒子を分離し、９５０℃以上の温度で焼成して、中空シリカ粒子を得る工程（III）を有する中空シリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径が小さく（１μｍ以下程度）、結晶性を備える、研磨剤（特に仕上げ研磨用の研磨剤）として好ましく利用できる結晶性シリカゾルの提供。
【解決手段】結晶性を備え、平均粒子径が１μｍ以下であり、粒度分布の標準偏差が１０ｎｍ以上であるシリカ微粒子を含み、ｐＨが８．７〜１０．６である、結晶性シリカゾル。 （もっと読む）

【課題】研磨速度が高く、精密研磨に適した研磨用シリカゾル、研磨用組成物及び研磨用シリカゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゾルは動的光散乱法により測定される平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある非球状シリカ微粒子を分散媒に分散してなり、固形分濃度が１０〜６０重量％であって、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定時のケミカルシフト−７３〜−１２０ｐｐｍのピーク面積におけるＱ４の面積が８８％以上、Ｑ３の面積が１１％以下である。但し、前記ケミカルシフトは、テトラメチルシランを基準物質とし、Ｑ４は−１００〜−１２０ｐｐｍの範囲のピークであり、Ｑ３は−８２〜−１００ｐｐｍの範囲のピークである。 （もっと読む）

【課題】 ゾルゲル法による３段階の階層的多孔構造を有するモノリス多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】 前駆体ゾルを調製するゾル調製工程と、有機ポリマー繊維を３次元的な広がりを有する塊状に構成してなるテンプレートを収容したゲル化容器内において、前記前駆体ゾルに対して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、前記有機ポリマー繊維の周囲の空間に、ヒドロゲル相と溶媒相の共連続構造体からなるゲルを形成するゲル化工程と、前記ゲルから前記溶媒相と前記有機ポリマー繊維を個別或いは同時に除去する除去工程とを有し、前記有機ポリマー繊維が、長手方向への伸長が拘束された状態で前記長手方向に垂直な断面が収縮可能な構造を有し、前記有機ポリマー繊維を除去した後の空隙にテンプレート孔を、前記溶媒相を除去した後の空隙に貫通孔を、前記ヒドロゲル相の骨格体に細孔を、夫々形成する。 （もっと読む）

【課題】塩化水素を用いてシラン中のMueller-Rochowによる直接合成の高沸点残留物を熱分解する方法。
【解決手段】二酸化ケイ素を含有し、アルミニウムを含まない粒子の流動層中で熱分解する。 （もっと読む）

【課題】一次粒径が１００ｎｍ以下の中空シリカナノ粒子の製造方法の提供。
【解決手段】下記工程（１）及び（２）を含む、一次粒径が１００ｎｍ以下の中空シリカナノ粒子の製造方法。
（１）２鎖型カチオン性界面活性剤（Ａ）のクラフト点以上の温度で２鎖型カチオン性界面活性剤（Ａ）の水溶液に超音波照射を行うことにより、２鎖型カチオン性界面活性剤（Ａ）の会合体水分散液を調製する。
（２）２鎖型カチオン性界面活性剤（Ａ）のクラフト点以下の温度で、工程（１）で得られる２鎖型カチオン性界面活性剤（Ａ）の会合体水分散液とアルコキシシラン（Ｂ）とを混合する。 （もっと読む）

【課題】不純物を確実に除去して優れた洗浄効果を得るとともに、作業性を向上させることのできる多結晶シリコンの洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２の洗浄室２１〜２５内に、異なる勾配の載置面６１を有する支持台６が複数配設され、バスケット３は、その両側部に、吊り上げ機４２により係止される突出部３５がバスケット３の幅方向外方に突出し、かつ、長さ方向に間隔をあけて相互に平行に一対ずつ設けられてなり、支持台６は、その両側部に、載置面６１にバスケット３を載置する際に、一対の突出部３５の間に配置され、支持台６の載置面６１よりも上方に突出する一対のガイドフレーム７が上下方向に沿って立設されている。 （もっと読む）

【課題】分散性に優れた微粒子シリカを調製できるシリカの製造方法、及び該製造方法により得られたシリカを含むタイヤ用ゴム組成物を提供する。
【解決手段】ケイ酸ナトリウム水溶液を用いたシリカの製造方法であって、水溶性分子を用いたシリカの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンの製造に用いられる反応容器（ベルジャー）の内面の付着物及び汚染物質を確実に除去する方法を提供すること。
【解決手段】多結晶シリコンの製造に用いられる反応容器（ベルジャー）１は、ゴムパッキン３を介して受け皿２上に載置される。受け皿２に載置された状態のベルジャー１内部には、氷の細粒をベルジャー１の内面に一定の距離と角度を保ちつつ衝突させるためのノズル４と、このノズル４に氷の細粒および純水を送るためのホース５と、ノズル４の位置を移動させるための回転機能を有するシャフト６が設けられている。製氷機１０により氷の細粒が造粒される。氷の細粒は、最大径が０．３〜３．０ｍｍ程度のものが好ましい。氷の細粒は、例えば、０．５ＭＰａ〜１ＭＰａの圧力の圧縮空気８によりノズル４へと送られる。氷の細粒をノズル４からベルジャー１の内面に衝突させる角度は、３０〜６０°が好適である。 （もっと読む）

【課題】新規な遷移金属シリサイド−Ｓｉ複合材料及びその製造方法、並びに、このような遷移金属シリサイド−Ｓｉ複合粉末を製造することが可能な遷移金属シリサイド−Ｓｉ複合粉末製造用ＣａＳｉ_y系粉末及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】１種又は２種以上の遷移金属元素（Ｍ）を含み、Ｓｉ／Ｍ比（ｚ）が２．０≦ｚ≦２０．０であり、比表面積が２．５ｍ²／ｇ以上である遷移金属シリサイド−Ｓｉ複合粉末及びその製造方法。Ｓｉ／Ｃａ比（ｗ）が２．０≦ｗ≦２０．０であり、少なくともＣａシリサイド相を含む遷移金属シリサイド−Ｓｉ複合粉末製造用ＣａＳｉ_y系粉末及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 良質のシリコン酸化膜を狭いスペース内に低温で形成できるようにする。
【解決手段】 本実施形態は、シラザン結合を有するポリマーを有機溶媒に溶解した溶液を回転塗布してポリマー膜を形成するスピンコーティングユニットと、前記スピンコーティングユニットにより前記ポリマー膜が形成された基板を当該ポリマー膜に触れることなく酸化ユニット内に搬送する搬送機構と、前記搬送機構により基板が搬送されると、前記ポリマー膜に過酸化水素を含む加熱した水溶液への浸漬処理、過酸化水素を含む加熱した水溶液の噴霧処理、及び、過酸化水素蒸気を含む反応ガスへの曝露処理、の何れかを行うことにより前記ポリマー膜をシリコン酸化膜に転換する酸化ユニットと、を備え、前記スピンコーティングユニットによるポリマー膜の形成処理および前記酸化ユニットによる前記ポリマー膜のシリコン酸化膜への転換処理を１装置内にて完了することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面ダストの含量が少なくコスト的に好ましい多結晶シリコンを提供する。
【解決手段】多結晶シリコン破砕破片を含有する多結晶シリコンであって、前記破砕破片の少なくとも９０％が明細書中に記載のサイズを有する前記多結晶シリコンにおいて、シリコンダスト粒子の割合が、４００μｍ未満の粒子サイズについては１５ｐｐｍｗ未満であり、５０μｍ未満の粒子サイズについては１４ｐｐｍｗ未満であり、１０μｍ未満の粒子サイズについては１０ｐｐｍｗ未満であり、かつ１μｍ未満の粒子サイズについては３ｐｐｍｗ未満であることと、さらに、金属による表面汚染が、０．１ｐｐｂｗ以上で１００ｐｐｂｗ以下であることと、を特徴とする前記多結晶シリコンによって解決される。 （もっと読む）

【課題】減圧濾過中のフィルタの目詰まりを回避可能な減圧濾過式シリコンスラッジ洗浄方法を提供する。
【解決手段】減圧濾過の条件として、シリコン粉Ｓを含む固形分の平均粒径を１〜１０μｍとし、洗浄液中またはリンス液中の固形分の濃度を１〜１０重量％とし、網状フィルタの網目サイズを固形分の平均粒径の５〜１０倍としたので、減圧濾過の開始後間もなく、各網目１４ａの直上に負圧の作用で固形分が集合したドーム１５が形成される。ドーム１５は多孔質であるため、減圧濾過中の網状フィルタの目詰まりを回避できる。 （もっと読む）

【課題】反応炉の内壁面に付着したハロゲン化シランの重合物を確実に除去するとともに、反応炉内壁の所望の領域を重点的に洗浄することを可能とする技術を提供すること。
【解決手段】垂直軸２１の先端部に取り付けられた回転部材２２は軸Ｑを中心に自転可能である。ノズル支持体２３は軸Ｐを中心に自転可能であり、回転部材２２が自転すると軸Ｑを中心に垂直軸２１の周りを公転する。ノズル２４から洗浄水が高圧噴射されると、その噴射反動力によってノズル支持体２３が軸Ｐを中心に自転し、該自転が回転部材２２に伝達される。従って、ノズル支持体２３が自転すると同時に、回転部材２２が自転する。その結果、ノズル支持体２３は垂直軸２１の周りを自転しながら公転する。このような自公転機構により、ノズル２４から高圧噴射される洗浄水が三次元方向に噴射されて反応炉３０の内壁３２の表面が洗浄される。 （もっと読む）

【課題】擬似体液溶液に液浸した時に有孔シリコンが経時的に溶解するように有孔シリコン領域を含むことを特徴とする、再吸収性シリコンの提供。
【解決手段】シリコンウェハーを５０重量％の水性ＨＦの電解質を含む電気化学的セルにおいて陽極化して有孔シリコン領域２０を持つウェハー１０を作製する。
【効果】擬似体液溶液に液浸した時、ある種の有孔シリコンが該有孔シリコン２０と近接領域のバルクシリコン２２の両方にアパタイト沈着物の沈着を生じさせることを示した。このアパタイトの沈着は、適当な形態の有孔シリコンが生物活性であり、またそれ故生物適合性でもあることの示唆を与えるものであり、有孔シリコンの形態は擬似体液溶液に溶解し、再吸収性生体用材料特性を示唆している。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シリカ含有鉱物粉末とアルカリ水溶液を混合して、ｐＨを１１．５以上に調整し、液分中のＳｉ濃度が３．０質量％以上に溶解させた後、固液分離する工程と、（Ｂ）得られた液分と酸を混合して、ｐＨを３．０未満に調整した後、固液分離する工程と、（Ｃ）得られた液分をアルカリ源と混合してｐＨが４．０未満である水溶液を調製し、及び／または４０〜１００℃に加温した後、固液分離する工程と、（Ｄ）工程（Ａ）と工程（Ｂ）の間、及び／または、工程（Ｂ）と工程（Ｃ）の間で、前工程で得られた液分に対してイオン交換処理、及び／または活性炭処理を行う工程と、（Ｅ）工程（Ｃ）で得られた固形分と酸溶液を混合して、ｐＨを３．０未満に調製した後、固液分離して、ＳｉＯ_２を含む固形分と、不純物を含む液分を得る工程、を含む高純度シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面にクラックが存在していても、エッチング後のエッチング剤の付着量を腐食性ガスの発生量が顕著とならない程度とすることが可能であり、かつ清浄度の高いシリコン破砕物を得ることが可能なシリコン塊の処理方法を提供する。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｆ）の工程を備えるシリコン塊の処理方法。（ａ）常温のシリコン塊を加熱する工程、（ｂ）前記加熱したシリコン塊を冷却し、クラックを発生させる工程、（ｃ）前記クラックが発生したシリコン塊を破砕してシリコン破砕物とする工程、（ｄ）前記シリコン破砕物を純水に浸漬し、冷却または破砕により表面に発生したクラックに純水を浸透させる工程、（ｅ）前記純水に浸漬したシリコン破砕物の表面を、エッチング剤を用いてエッチングする工程、および（ｆ）前記エッチングしたシリコン破砕物の表面を純水で洗浄し、前記エッチング剤を除去する工程。 （もっと読む）

【課題】十分に低い誘電率、誘電正接を有する低誘電樹脂組成物、該低誘電樹脂組成物からなる低誘電膜、低誘電樹脂組成物及び低誘電膜の製造方法、並びに低誘電膜用コーティング剤を提供する。
【解決手段】（１）平均粒子径が０．０５〜３μｍ、空孔率が３０〜９０％、ＢＥＴ比表面積が３０ｍ²／ｇ未満である中空シリカ粒子（Ｃ）が、マトリクス樹脂中に分散されてなる低誘電樹脂組成物、（２）その低誘電樹脂組成物からなる低誘電膜、（３）粒子内部に空気を含有する中空シリカ粒子（Ａ）、又は焼成により消失して中空部位を形成する材料を内包するコアシェル型シリカ粒子（Ｂ）を調製し、９５０℃を超える温度で焼成して、中空シリカ粒子（Ｃ）を調製し、それをマトリクス樹脂形成材中に分散させた分散体を調製する工程を含む低誘電樹脂組成物の製造方法、及び（４）前記中空シリカ粒子（Ｃ）がマトリクス樹脂形成材中に分散されてなる低誘電膜用コーティング剤である。 （もっと読む）

【課題】表面に結合した生体分子の活性低下を抑制できる機能性分子含有シリカ粒子を製造する方法を提供する。
【解決手段】機能性分子が結合したオルガノアルコキシシランとテトラアルコキシシランとをアンモニア水含有溶媒中で混合し、該溶媒中に該機能性分子を含有するシリカのコア粒子を形成させて該コア粒子の分散液を得る第１工程、及び第１工程で得られた分散液に、チオール基、アミノ基、イソシアネート基、アルキル基、アリール基、エポキシ基、ビニル基、メタクリル基、シアノ基、ハロゲン基、ウレイド基、アクリロキシ基、及びポリスルフィド基からなる群から選択される官能基を有するオルガノアルコキシシランを添加してシリカのコア粒子にシェル層を形成させる第２工程を少なくとも含む、表面が前記官能基で修飾されたシリカナノ粒子の製造方法。 （もっと読む）