【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シリカ含有鉱物粉末とアルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のスラリーを調製した後、固液分離して、Ｓｉを含む液分と、固形分を得る工程と、（Ｂ）得られた液分と酸を混合して、ｐＨを３．０未満に調整した後、固液分離を行い、固形分と、Ｓｉを含む液分を得る工程と、（Ｃ）得られた液分とアルカリ源を混合して、ｐＨが３．０以上、１０．３以下である水溶液を調製した後、固液分離を行い、ＳｉＯ_２を含む固形分と、液分を得る工程と、（Ｄ）工程（Ａ）と工程（Ｂ）の間、及び／又は、工程（Ｂ）と工程（Ｃ）の間の工程であって、前工程で得られた液分に対してイオン交換処理及び活性炭処理を行ない、不純物を回収する工程と、を含む高純度シリカの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、沈降シリカ、特に粉体形状の沈降シリカの製造方法に関する。本発明はまた、得られる沈降シリカ、その使用、特にシリコーンエラストマーマトリックス又はシリコーンペーストをベースとするマトリックスを補強するためのその使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】混合ガスの分離、ガスの保存、メンブレイン、化学反応触媒の担体及び悪臭除去などに使われるハイブリッド多孔性物質及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メソポーラスシリカ、ゼオライト、金属酸化物、多孔質粘土（ｐｏｒｏｕｓ ｃｌａｙ）及び活性炭などと、新たな多孔性物質である金属元素及び有機リガンドを含むＭＯＦ（ｍｅｔａｌ−ｏｒｇａｎｉｃ ｆｒａｍｅｗｏｒｋ）を互いに化学的に結合して、物質種の互いに異なる少なくとも２種の多孔性物質部１１，１２を含むハイブリッド多孔性物質１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、太陽電池用、半導体用高純度化シリコンの製造における原料シリコンの前処理に係わるものであり、原料シリコンに含まれる不純物を前もって効率的に除去することにより、後段の精製工程における高純度シリコンの生産性の向上と製品品質の安定化を図るものである。
【解決手段】 原料の金属シリコンを１ｍｍ以下に粉砕した後、酸性水溶液又は塩基性水溶液に分散させてスラリー状とし、浸出温度を１００℃以上、１ｔｏｍ以上の加圧下において浸出処理を行うことにより不純物を除去する。さらに効率的に不純物を除去するには、加圧下での浸出処理を行う前に、粉砕した原料シリコンを１０００〜１４００℃で焼成処理を行うことが望ましい。 （もっと読む）

金属イオンを含む化学エッチング液を使用して多孔質シリコンを製造する方法が、記載される。 （もっと読む）

本発明は、水素化ポリゲルマシランを純粋な化合物または化合物の混合物として製造するための方法であって、ハロゲン化ポリゲルマシランが水素化される方法に関する。本発明はまた、水素化ポリゲルマシラン、該水素化ポリゲルマシランから製造されるゲルマニウム層、およびかかる層を製造するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径１００μｍ以上の大きな粒径を有する無機質球状体の製造方法の提供。
【解決手段】特定の無機化合物を含む水性液体を有機液体中に分散させてＷ／Ｏ型エマルジョンを形成する工程、前記Ｗ／Ｏ型エマルジョンに金属アルコキシドを添加し、無機化合物を含む水性液体の液滴の外殻部に金属アルコキシドの加水分解による金属酸化物を生成させる工程、及び、前記金属酸化物の生成後のＷ／Ｏ型エマルジョン中の無機化合物を含む水性液体を固形化して無機質球状体を生成させる工程、を経る平均粒子径が１００〜１０００μｍの無機質球状体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】迅速かつ確実に多結晶シリコン塊を洗浄して効果的にシリコンの微粉末や小片、不純物を除去し、酸洗工程の酸液の劣化を抑えながら、高品質の単結晶シリコンの製造を可能とする。
【解決手段】多結晶シリコンロッドを切断または破砕により細分化して得られた多結晶シリコン塊の洗浄装置であって、複数の貫通孔が設けられ多結晶シリコン塊を収容する搬送可能な洗浄かごと、洗浄かごを収容し、底面に設けられた給水口から連続的に洗浄水を供給される洗浄槽本体と、洗浄槽本体内に備えられて洗浄かごを収容し、洗浄かごの貫通孔よりも目が小さい複数の開口部を底面に有する内かごと、洗浄かごを保持しこの洗浄かごを内かご内で揺動させる揺動装置とを備え、洗浄槽本体に、この洗浄槽本体の上部から溢水する洗浄水を回収するオーバーフロー部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】酸化ケイ素を主成分とし、表面に存在する水酸基及び吸着水が十分に除去された低誘電率性、低誘電正接性の多孔質酸化物粒子を得るとともに、表面に存在する水酸基及び吸着水を十分に除去することができる多孔質酸化物粒子の水酸基及び吸着水の除去方法を提供する。
【解決手段】酸化ケイ素を主成分とする多孔質酸化物粒子の外周表面及び内表面に表面処理剤が修飾されており、シラノール基の３０００〜３８００ｃｍ^-1の赤外線吸光ピークの最大値が、酸化ケイ素のＳｉ−Ｏ吸光を示す１８５０〜１９００ｃｍ^-1の赤外線吸光ピークの最大値の２倍以下である多孔質酸化物粒子である。また、表面の水酸基及び吸着水が除去された多孔質酸化物粒子は、当該多孔質酸化物粒子の表面に表面処理剤を修飾する第１工程と、当該表面処理剤により修飾された多孔質酸化物粒子にマイクロ波を照射する第２工程と、を含む方法により得ることができる。 （もっと読む）

【課題】鉄鋼スラグを原料として高純度シリカを短時間で簡便に製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の高純度シリカの製造方法は、塩化水素の濃度が０.０１〜４ｍｏｌ／Ｌの塩酸に鉄鋼スラグを溶解させるステップと、溶解液から不溶解物を除去するステップと、不溶解物を除去した塩酸の塩化水素の濃度を上げて、溶解液中のケイ酸イオンをゲル化させるステップと、ゲル状のシリカを水洗するステップとを有する。本発明によれば、鉄鋼製造工程において副産物として発生する鉄鋼スラグを原料として、太陽電池やガラス、乾燥剤などの製造に有用な高純度のシリカを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】優れたサイクル特性および初期効率を有するリチウムイオン二次電池の負極活物質として好適に使用することができるＳｉＯｘの製造方法を提供する。
【解決手段】下記（１）および（２）の工程を含むＳｉＯｘの製造方法であり、ＳｉＯｘにおけるｘの値を０．８＜ｘ＜０．９５の範囲内に制御する。
（１）酸化珪素（ＳｉＯ）を非酸化性雰囲気中で４００〜８００℃（望ましくは、６００〜７００℃）で２時間以上熱処理する。
（２）前記熱処理後の酸化珪素を０．５〜１０体積％のフッ酸で洗浄する。
前記（１）の工程の非酸化性雰囲気中での熱処理に替えて、遊星ボールミルによる粉砕処理を行うこととしてもよい。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種のフタロシアニン誘導体を含むシリカ粒子の製造方法、少なくとも１種のケイ素フタロシアニン誘導体から逆マイクロエマルション経由で製造される当該粒子、当該シリカ粒子、およびその用途に関する。 （もっと読む）

【課題】特定構造の含水ケイ酸を含有する均一性に優れたゴムマスターバッチより得られたゴム組成物をタイヤ部材に用いた低発熱性、耐摩耗性、加工性に優れたタイヤタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム溶液と、含水ケイ酸を含有する充填剤を予め液体に分散させたスラリー溶液とを混合する工程を含むゴムマスターバッチの製造方法により得られたゴム組成物であって、含水ケイ酸のセチルトリメチルアンモニウムブロミド吸着比表面積（ＣＴＡＢ）（ｍ^２／ｇ）と音響式粒度分布測定によって求められる一次凝集体の直径の最頻値Ａ_ａｃ（ｎｍ）とが下記式（Ｉ）
Ａ_ａｃ≧−０．７６×（ＣＴＡＢ）＋２７４・・・（Ｉ）
を満たすゴム組成物をタイヤ部材に用いたことを特徴とするタイヤ。 （もっと読む）

【課題】 簡便かつ工業的に有効な手法で酸化チタンそのものの光応答能力を向上させることにより、太陽光並びに蛍光灯照射下で高い触媒活性を発揮する光触媒の製造方法、及び光触媒を提供すること。
【解決手段】 （１）直鎖状ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを、水性媒体中で会合させる工程、（２）水性媒体の存在下で、工程（１）の会合体にアルコキシシランを加え、前記ポリマーの会合体とシリカとの複合体を得る工程、（３）工程（２）の複合体と酸化チタン（Ａ）の粉末とを水性媒体中で混合し、酸化チタン（Ａ）を吸着させる工程、（４）工程（３）で得られた酸化チタン（Ａ）の粉末を吸着した複合体を６００〜９００℃で焼成し、複合体中のポリマーの除去と、シリカナノ構造体（Ｂ）への酸化チタン（Ａ）の固定を行なう工程を有する、酸化チタン（Ａ）がシリカナノ構造体（Ｂ）に固定されてなる光触媒の製造方法、及び光触媒。 （もっと読む）

【課題】凝集が抑制されて分散性に優れ、厚さの均一性が高い多孔質シリカカプセルの製造方法の提供。
【解決手段】鋳型を使用して多孔質シリカカプセルを製造する方法であって、鋳型となる粒子及び界面活性剤、並びに水及びアルコールの混合溶媒を含有する液体を撹拌する工程と、撹拌した前記液体中でアルコキシシランを重縮合反応させて、前記粒子表面上にシリカ層が形成されたシリカ被覆粒子を調製する工程と、前記シリカ被覆粒子から、焼成により前記粒子及び界面活性剤を除去して、多孔質シリカカプセルを形成する工程と、を有し、前記液体を撹拌する工程における、前記界面活性剤の濃度を０．００３〜０．０２１ｍｏｌ／Ｌとし、且つ前記水及びアルコールの混合溶媒におけるアルコールの体積比を０．２７〜０．３５とすることを特徴とする多孔質シリカカプセルの製造方法。 （もっと読む）

シリコーンゴム配合物（ＲＴＶ−１、ＲＴＶ−２、ＨＴＶ、およびＬＳＲ）中での使用に適し、とりわけＨＴＶシリコーンゴム配合物中での使用に適した、親水性沈降シリカが提供される。これは、ＢＥＴ表面積１８５〜２６０ｍ²／ｇ、ＣＴＡＢ表面積１００〜１６０ｍ²／ｇ、ＢＥＴ／ＣＴＡＢ比１．２〜２．６、および導電率＜２５０μＳ／ｃｍを有する。また、当該沈降シリカを製造するための方法、およびシリコーンゴム配合物の増粘および補強のための当該沈降シリカの使用も提供される。 （もっと読む）

【課題】原料スラッジに含まれる不純物の低減化を図れるシリコン系太陽電池用原料スラッジの不純物除去方法を提供する。
【解決手段】シリコン加工プロセスから排出されたシリコンスラッジに対して、まず超純水による沈降分離を行い、その後、ここで得られた含水率３５％のシリコンスラッジに対して、純水または超純水からなるリンス液による複数回のリンスを施したので、シリコンスラッジに含まれた塵などの不純物の低減化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＫＷ−タイヤ中で使用される珪酸をＬＫＷ−タイヤ、オートバイタイヤ及びＰＫＷ用の高速タイヤ中で使用することは、異なる仕様プロフィルに基づき不適当であるため、特別にこれらの車両に適合された特性プロフィルを有する沈降珪酸を提供する。
【解決手段】１７８〜３０２ｍ^２／ｇのＢＥＴ−表面積、≧１７０ｍ^２／ｇのＣＴＡＢ―表面積、２００〜３００ｇ／（１００ｇ）有利に２０７〜２７６ｇ／（１００ｇ）のＤＢＰ−数及び１０〜２５ｍｌ／（５ｇ）、１０〜２０ｍｌ／（５ｇ）、１０〜１６ｍｌ／（５ｇ）のシェアズ(Sears)−数Ｖ_２を有する沈降珪酸によって解決される。 （もっと読む）

【課題】不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる珪素微粒子の製造方法を得ること。
【解決手段】珪素塊１を粉砕して珪素微粒子を得る珪素微粒子の製造方法であって、酸素を放出して珪素に対する酸化作用を有する酸化性液体４中において前記珪素塊１を粉砕することにより、粉砕された珪素微粒子の表面に酸化珪素膜を形成しながら前記珪素塊１を粉砕して前記珪素微粒子を作製する。これにより、粉砕時の珪素内への不純物の拡散を防止することができ、不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 導電性を有すると共に、光学的な透明性を備えたシリカ系中空粒子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明に係る導電性シリカ系中空粒子の製造方法は、（ａ）シリカ系中空粒子を合成する工程と、（ｂ）前記シリカ系中空粒子に塩化スズ（ＩＶ）溶液を添加して、前記シリカ系中空粒子にスズイオンを吸着させる工程と、（ｃ）スズイオンが吸着されたシリカ系中空粒子を分離して焼成する工程と、を含む。 （もっと読む）