【課題】機能素子への展開に有用なメソ構造体、更には、シリカメソ構造体、及びこれらの製造方法、メソ構造体のメソ細孔の配向を適宜に制御する方法の提供。
【解決手段】高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第１の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法。 （もっと読む）

【課題】金属微粒子を凝集させることなくシリコン酸化膜内に高密度に分散させた金属微粒子分散膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】オルガノシランを、側鎖にヒドロキシル基もしくはアルコキシド基を残存させた加水分解および重縮合反応を行うことによりシリコン酸化膜を形成し、前記シリコン酸化膜を、酸性の塩化スズ水溶液と接触させ、次いで、前記シリコン酸化膜を金属キレートの水溶液と接触させることによって、シリコン酸化膜中に金属微粒子を分散させることを特徴とする金属微粒子分散膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高密度のメモリデバイスとして有用な強誘電体メソ結晶を基板表面に配向して規則正しく並んだ構造の強誘電体薄膜およびその製造方法の提供。
【解決手段】各種基板上へスピンコーティングにより原料溶液を塗布（１段目、２０００回転、１０秒、２段目、４０００回転、３０秒）し、その後、大気中で熱処理して規則的に配列されたナノサイズの細孔からなる珪酸塩メソ多孔体薄膜を作製する。次に強誘電体前駆体溶液を合成し、この溶液中に珪酸塩メソ多孔体薄膜の形成された基板をつけ込み、1日静置し、取り出した後、空気中で焼成することにより珪酸塩ナノ多孔質薄膜の細孔内に強誘電体メソ結晶が充填されてなる強誘電体担持薄膜を作製する。 （もっと読む）

Ａ_３Ｓｉ−Ｒ^１−ＳｉＢ_３
［式中、Ａ、Ｂ、およびＲ^１は本明細書に規定された通りである］の不斉ビスシラン化合物、ならびにこのビスシラン化合物を製造するための方法および金属酸化物粒子の層またはフィルムを形成するためのそれらの使用に関し、その層またはフィルムは、適した基材に付着する。この材料および方法を使用して、例えば、光活性デバイスを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が優れ、硬質シリカ系層を形成できる液状硬化性組成物；均一性と平坦性と耐クラック性と密着性に優れた硬質シリカ系層を形成できるコーテイング方法；耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、機械的強度、耐薬品性等が優れた無機質基板；精度と信頼性と長期間安定性が優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】水酸基を有する多価金属酸化物微粒子が分散している有機溶媒中で、ハイドロジェンハロシランもしくはアルコキシシランを縮合反応または加水分解縮合反応させて得られた液状硬化性組成物。該組成物を無機質基板にコーテイングし、硬化させて硬質シリカ系層を形成する、無機質基板のコーテイング方法。該硬質シリカ系層を有する無機質基板。該無機質基板上に半導体層を有する半導体装置。 （もっと読む）

【解決手段】窒素ドープされた多結晶シリコンおよび該多結晶シリコンからなる多結晶シリコン基体。好ましくは、赤外吸収スペクトルにおいて、９６３±５ｃｍ^-1および／または９３８±５ｃｍ^-1の波数位置にピークを有する。ならびに、窒素含有シリコン融液を調製する工程を含む多結晶シリコン基体の製造方法、および上記基体を用いた光電変換素子。
【効果】窒素ドープされた多結晶シリコン基体を用いた光電変換素子は、従来と比較して変換効率が高く、コストパフォーマンスが高い。 （もっと読む）

【課題】高価かつエネルギー多消費型の大掛かりな装置を必要とせず、大面積の基板にも対応可能であり、容易、安価に半導体薄膜を形成する方法を提供すること。
【解決手段】上記課題は、一対の電極の間に、不純物の濃度および／または種類の異なる半導体薄膜を少なくとも二層以上積層した構造を有する太陽電池の製造において、該半導体薄膜のうちの少なくとも一層が、（Ａ）式Ｓｉ_ｎＲ_ｍで表されるポリシラン化合物 並びに（Ｂ）シクロペンタシラン、シクロヘキサシランおよびシリルシクロペンタシランよりなる群から選ばれる少なくとも１種のシラン化合物を含有することを特徴とするシラン組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜を熱処理および／または光処理する工程を含む形成方法により形成されていることを特徴とする、太陽電池の製造方法により達成される。 （もっと読む）

【課題】電気石と酸化ケイ素とからなる複合体を得、これを用いて比較的厚い且つ均質な酸化ケイ素皮膜を物体上に作ることができる複合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の電気石と酸化ケイ素とからなる複合体の製造方法は、テトラエトキシシランを塩基性触媒の存在下に加水分解すると共に、ゾル−ゲル反応により高分子初期縮合物を得、該初期縮合物に電気石の微粉末を混合し、造粒し、乾燥した後、２５０℃から６５０℃までの温度で焼結することを特徴とする。複合体中の電気石と酸化ケイ素の重量比が４：９６ないし７６：２４である。高分子初期縮合物の平均分子量が２００〜３００である。複合体の表面積がBET法表面積測定で２９ｍ^２／g〜４６０ｍ^２／gである。複合体は、水媒体中で機械的刺激により微水溶性の酸化ケイ素が、物体上に強固な被膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】有機成分を含まない高純度の二酸化ケイ素膜を形成するために有用な二酸化ケイ素前駆体および二酸化ケイ素前駆体組成物を提供すること。
【解決手段】上記二酸化ケイ素前駆体は、下記示性式（１）
（Ｈ_２ＳｉＯ）_ｎ（ＨＳｉＯ_１．５）_ｍ（ＳｉＯ_２）_ｋ （１）
（式（１）中、ｎ、ｍおよびｋはそれぞれ数であり、ｎ＋ｍ＋ｋ＝１としたとき、ｎは０．５以上であり、ｍは０を超えて０．３以下であり、ｋは０〜０．２である。）
で表され、１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂である。
上記二酸化ケイ素前駆体組成物は、上記シリコーン樹脂および有機溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】基材上に、ポリシラザンから生成されるシリカ膜を短時間で形成できる方法を提供する。
【解決手段】基材上に、ポリシラザンを含有するポリシラザン膜を形成した後、レーザ光またはマイクロ波を照射して前記ポリシラザンをシリカに転化させる工程を有するシリカ膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低誘電性、接着性に優れると共に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、（ａ）成分：式（１）；Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ、（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉを含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ｎが２のとき、各Ｒ^１は同一でも異なっていてもよく、ｎが０〜２のとき、各Ｘは同一でも異なっていてもよい）で表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：（ａ）成分を溶解可能な溶媒と、（ｅ）成分：ヒドロキシル基を含む側鎖を有する重合体と、を備え、重合体が、式（２）；０＜Ｍ_ＯＨ＜０．４×１０^−２、Ｍ_ＯＨ：重合体における前記ヒドロキシル基の濃度（ｍｏｌ／ｇ）、で表される関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルケニル基含有有機シラン化合物から成るＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される有機シラン化合物を含有するＳｉ含有膜形成材料を用い、化学気相成長法、特にプラズマ励起化学気相成長法によりＳｉ含有膜を形成させ、絶縁膜として使用する。
【化１】


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は、炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子を表し、ｎは０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 簡便、かつ容易に、効率的に所定の３Ｄ（三次元）立方晶系メソ構造のシリカ、そしてその薄膜を形成することのできる新しい技術手段を提供する。
【解決手段】
シリカ前駆物質とカチオン界面活性剤並びに疎水性有機化合物とを混合して調製したゾルを乾燥し、次いで焼成することで３次元立方晶系メソポーラスシリカモノリスを形成し、さらには、シリカ前駆物質とカチオン界面活性剤並びに疎水性有機化合物とを混合して調製したゾルを固体基板上に薄層に塗布または展開して乾燥し、次いで焼成することで３次元立方晶系メソポーラスシリカ薄膜を生成させる。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を必要とせずにシリコン膜を形成するための成膜材料として、ポリシラン修飾シリコン微粒子を製造する方法およびこのポリシラン修飾シリコン微粒子を用いたシリコン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】末端がシリルアニオン化されたポリジフェニルシランからなるポリシラン１１を含む液に、シリコン微粒子１２を添加することで、シリコン微粒子１２の表面にポリシラン１１を結合させたポリシラン修飾シリコン微粒子１３を製造する。そして、このポリシラン修飾シリコン微粒子１３に水素化処理を行うことで、水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４を製造することを特徴とするポリシラン修飾シリコン微粒子の製造方法である。また、この水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４が分散された液を基板上に塗布し、塗布膜を形成した後、塗布膜が形成された状態の基板に熱処理または光照射を行うことで、シリコン膜を形成することを特徴とするシリコン膜の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 孔径の分散が小さい多孔質体およびその製造方法の提供を目的とする。また、同一組成の溶液を用いても、膜と粉体の両方の形状で多孔質体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】 メソ孔を有する多孔質体であって、Barrett-Joyner-Halenda法を用いて求められる孔径に対する孔の個数分布で、孔径範囲２ｎｍ〜１０ｎｍにある孔数が全孔数の９０％以上を占め、前記孔の個数分布の標準偏差が、孔の個数分布のピークとなる孔径に対して、１０％以下であることを特徴とする多孔質体である。
また、シリコンアルコキシドと触媒とを含む前駆体溶液と、非イオン性界面活性剤溶液とを含んでなる形成溶液を、基材に塗布した後焼成する多孔質体の製造方法において、前記非イオン性界面活性剤として特定のトリブロックコポリマーを用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光学素子に適した金属とセラミックの複合体の提供。
【解決手段】 SiO₂, B₂O₃, Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, Na₂O, CaO,及びSrOの中から選ばれる１つの成分を含む酸化物第１相１、酸化物第１相の粒界に形成された、Au, Ag, Cu, Pt, Pb,及びPdの中から選ばれる１つの金属を含む金属粒子（２）、及び、酸化物第１相（１）の粒界に形成された、ZnO, In₂O₃, または酸化物第１相（１）とは異なるSiO₂, B₂O₃, Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, Na₂O, CaO, 及びSrOの中から選ばれる１つと、金属粒子（２）と同種の金属とを含む酸化物第２相（３）を備えた金属とセラミックの複合体等。 （もっと読む）

【課題】基板表面にセラミック超微粒子の規則配列単粒子膜を形成する。
【解決手段】セラミック超微粒子膜を形成する基板の表面電位を、セラミック超微粒子分散溶液のゼータ電位とは逆極性でセラミック超微粒子分散溶液中のセラミック粒子と共有結合可能な電位に制御するために、基板を少なくとも２種類の有機化合物溶液中に浸漬するか、または、基板を有機化合物溶液中に浸漬した後、基板に紫外光を照射する。 （もっと読む）

【課題】 光学用途等に有用と考えられる、色度がずれにくく、光散乱性が良好で、耐熱性、機械的性質、耐薬品性などに優れ、かつ温度が変化してもフィルムが反らないといった有用な特性を有する有機重合体と金属酸化物との複合体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】有機重合体中に金属酸化物の粒子が分散する、有機重合体と金属酸化物との複合体であって、該複合体の厚み方向において、上記金属酸化物の粒径が傾斜的に変化し、かつ該金属酸化物の体積分率が実質的に変化しないことを特徴とする複合体。 （もっと読む）

【課題】カチオン性樹脂と混合して変性された高比表面積のシリカの高濃度分散液でありながら、保存安定性、透明性に優れたカチオン性樹脂変性シリカ分散液を提供する。
【解決手段】ＢＥＴ比表面積２５０ｍ^２／ｇ以上の高比表面積を有する湿式シリカを乾式シリカと共にカチオン性樹脂を添加して分散した、総シリカ濃度が１５重量％以上で、且つ、該シリカ粒子の平均粒子径が３００ｎｍ未満のシリカ分散液であって、上記乾式シリカが湿式シリカ１００重量部に対して、８〜２２重量部の配合比となるように配合されたことを特徴とする。 （もっと読む）

イオン交換及びイオン伝導用の機能性多孔質無機材料を基材とした新規な膜が合成され、特徴付けられた。これらの新規な膜の製造手順は、親水性部分が無機フレームワークの内部細孔表面に沿って取り入れられている多孔質無機薄膜の合成を伴う。イオン伝導性種が、無機フレームワークの表面基との反応によって細孔内にグラフトされて細孔ネットワークイオン輸送を可能にする。
（もっと読む）