【課題】浸漬タクトを低下させることなく、平滑性に優れた板状半導体を作製することができる消波構造付容器を提供する。
【解決手段】本発明の消波構造付容器は、金属材料または半導体材料のいずれか一方を含有する融液に、成長基板を浸漬させるための坩堝と、該坩堝の上面に接して取り付けられた保持体と、該保持体の融液の液面側に取り付けられた支持体と、該支持体に接触して設けられた消波構造とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ケイ素酸化物の薄膜やケイ素酸化物コート材にマクロ孔を複数形成させる技術、およびそのようなケイ素酸化物の薄膜やケイ素酸化物コート材に関する技術を提供する。
【解決手段】水溶性ポリマーを添加したケイ酸塩溶液を支持体に塗布する工程、５０ｎｍ〜３０μｍの複数のマクロ孔を形成するために得られた塗布膜から水溶性ポリマーを除去する工程を含む、マクロ孔が形成されたケイ素酸化物薄膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】金属とリチウムとの合金化・脱合金化反応を利用したリチウムイオン二次電池用負極材に好適な、高容量で、充放電サイクル性に優れる複合粒子、その製造方法、それを用いたリチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池を提供すること。
【解決手段】複合粒子を、リチウムを電気化学的に吸蔵・放出できる金属Ａと、前記金属Ａよりも導電性が高く、且つ前記金属Ａよりもリチウムの吸蔵・放出能力が低い金属Ｂと、を含有して構成し、粉体電気抵抗が圧力５０ＭＰａにおいて１×Ｅ１Ω・ｃｍ以上１×Ｅ８Ω・ｃｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】スプレーコート法により、良好な多孔質構造を有し、膜欠陥や膜表面荒れといった外観上の問題がなく、低屈折率性等の機能性、耐久性に優れたシリカ系多孔質膜を安定に製造する。
【解決手段】アルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシラン化合物と、界面活性剤と、炭素数１〜３の低級アルコールと、沸点１２５〜１８０℃で２０℃又は２５℃の蒸気圧が２．０ｋＰａ以下の有機溶媒と、水とを含むシリカ系組成物を霧状に噴出させることにより、透光基材上にシリカ系前駆体を製膜する製膜工程、及び、該シリカ系前駆体を加熱してシリカ系多孔質膜とする加熱工程を含むシリカ系多孔質膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡単かつ効率的に、薄片径の揃った、また、表面が平坦な薄片状物質を得ることができる製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】有機金属化合物を含み微粒子を分散させた塗布液を表面粗さＲａが６０〜２００ｎｍである基材上に塗布し、該基材を乾燥することで、基材上に前記微粒子を含む有機金属化合物由来の薄膜体を形成し、前記乾燥工程中、及び／または、乾燥工程後に、前記薄膜体中の微粒子またはその近傍を起点として前記薄膜体にクラックを生じせしめた後に、前記基材から薄膜体を剥離すること。 （もっと読む）

【課題】低エネルギー消費で硫黄ドープシリコン膜を製造する。
【解決手段】光重合性のケイ素化合物と環状硫黄を混合した混合物を用意する工程と、混合物に光照射処理を行ってケイ素化合物をラジカル化するとともに第１の加熱処理を行って環状硫黄をラジカル化し、ラジカル化したケイ素化合物を、ラジカル化した硫黄と結合させる工程と、を行って硫黄変成ケイ素化合物を製造する。混合物の環状硫黄とケイ素化合物の混合比は、混合物に含まれる硫黄原子の数がケイ素原子の数に対して１／１０００００以上１／３以下となる混合比にする。硫黄変性ケイ素化合物を含んだ溶液を不活性雰囲気で基板上に塗布した後に第２の加熱処理を行って、硫黄変性ケイ素化合物を分解するとともに硫黄変性ケイ素化合物に含まれるケイ素原子を他のケイ素原子または硫黄原子と結合させて硫黄ドープシリコン膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】半導体層の側面からの出射光を効率的に利用することができる、例えばＬＥＤの輝度向上を実現しうる光半導体素子を提供する。
【解決手段】光半導体素子は、支持基板１８の上方に半導体層１１が形成され、半導体層１１の側面に絶縁層１４が形成され、半導体層１１の側方に絶縁層１４を介して保護層１７が形成されてなる。保護層１７は、（Ａ）一般式：（Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P［式中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜３の整数である。］で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、及びその縮合物から選択される一つ以上の化合物を含有する組成物の硬化物である。 （もっと読む）

【課題】低濃度の均一相を有するブタノール溶液から、ブタノールが高濃度で相分離しない均一相のブタノールを効率よく分離濃縮する方法を提供する。
【解決手段】低濃度の均一相を有するブタノール水溶液から、浸透気化分離法により、その濃度が８０ｗｔ％以上の均一相のブタノール水溶液を得ることができ、浸透気化法に用いる膜として、２５℃以上で３時間２０分以上撹拌して調製した合成ゲルを用いて、種結晶を塗布した多孔質基板上に水熱合成を施すことでシリカライト膜を形成し、さらにその上にシリコンゴムコーティングを施すことにより製造されたものが用いられる。 （もっと読む）

【課題】大きな汚れを始めとする様々な汚れに対する防汚性能に優れたコーティング膜を、クラックなどの欠陥を生じさせることなく容易に形成できるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の平均粒径を有する無機微粒子の一次粒子２と、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の平均粒径を有する無機微粒子の一次粒子が凝集した二次粒子３とを水性媒体中に分散してなることを特徴とするコーティング組成物であり、前記二次粒子は、高分子凝集剤により凝集させている。 （もっと読む）

【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液の作製方法等を提供する。
【解決手段】素子分離材料用塗布液の作製方法では、Ｓｉ（ＯＲ^１）_４（Ｒ^１は炭素数２〜６個の有機基）で表される第１のアルコキシシラン化合物と、Ｒ^２_ｎＳｉ（ＯＲ^３）_４−ｎ（Ｒ^２はメチル基、エチル基、プロピル基、ビニル基、または、フェニル基、Ｒ^３は炭素数２〜６個の有機基、ｎは１〜３の整数）で表される第２のアルコキシシラン化合物と、第１の溶媒との混合液を作製する。第１のアルコキシシラン化合物と第２のアルコキシシラン化合物とは、全アルコキシシラン化合物に対する第２のアルコキシシラン化合物のモル比が０．０９〜０．９となるように混合する。この混合液を加水分解、縮合して絶縁膜形成前駆体を作製し、これに第２の溶媒を加え、塗布液を作製する。 （もっと読む）

【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液等を提供する。
【解決手段】素子分離材料用塗布液は、アルコキシシラン化合物と金属アルコキシドとの混合物が加水分解、縮合された絶縁膜形成前駆体と、絶縁膜形成前駆体の濃度を所望の濃度に調製する溶媒と、を備えている。絶縁膜形成前駆体は、Ｓｉ−Ｏ−Ｍ−Ｏ−（Ｍは１種もしくは２種以上の金属）を主骨格としたポリマーであり、その分子の末端に炭素数２〜６個のアルコキシル基を有している。 （もっと読む）

【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液の作製方法等を提供する。
【解決手段】半導体装置のシャロートレンチアイソレーション構造の素子分離層の形成に用いられる素子分離材料用塗布液の作製方法は、混合液作製工程と絶縁膜形成前駆体作製工程と塗布液作製工程とを備えている。混合液作製工程では、炭素数２〜６個のアルコキシル基を有するアルコキシシラン化合物と第１の溶媒との混合液を作製する。絶縁膜形成前駆体作製工程では、この混合液に加水分解触媒及び水を添加し、加水分解、縮合して絶縁膜形成前駆体を作製する。水の添加量は、アルコキシシラン化合物中の全アルコキシル基１モルに対して０．３〜０．８倍モルの範囲とする。塗布液作製工程では、作製された絶縁膜形成前駆体に第２の溶媒を加え、素子分離材料用塗布液を作製する。 （もっと読む）

【課題】微粒子の周期構造を有し、当該構造に入射した光の回折・干渉による構造性発色を示す発色フレーク体であって、無機微粒子間の接合力が強く、基板上に形成された膜ではなくフレーク体でありながら安定した発色を示す発色フレーク体とその製造方法を提供する。
【解決手段】単分散の粒径分布を示す球状の無機微粒子が最密充填された構造を有し、前記構造において、隣り合う前記無機微粒子は、当該無機微粒子同士の接触点にて互いに接合されるとともに、当該無機微粒子間に空隙を有し、前記構造に入射した光の回折および干渉による構造性発色を示す発色フレーク体とする。 （もっと読む）

【課題】耐食性、耐衝撃性等に優れ、かつシリカ純度が高いシリカ膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリカ膜は、ケイ酸アルカリ金属塩を炭酸化および蒸気養生して形成されている。本発明のシリカ膜の形成方法は、ケイ酸アルカリ金属塩を炭酸化および蒸気養生する炭酸化蒸気養生工程を含む。 （もっと読む）

【課題】酸化物微小構造体表面の水酸基及び吸着水を十分に除去することができる酸化物微小構造体の水酸基及び吸着水の除去方法を提供する。
【解決手段】酸化物微小構造体の表面に存在する水酸基及び吸着水を除去する方法であって、当該酸化物微小構造体の表面に表面処理剤を修飾する第１工程と、当該表面処理剤により修飾された酸化物微小構造体にマイクロ波を照射する第２工程と、を含む酸化物微小構造体の水酸基及び吸着水の除去方法である。
本発明により得られる酸化物微小構造体は、その規則正しい構造の形状性など光学分野、触媒分野、電気化学分野、電子工学分野などで好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】多孔質膜で被覆された基板であって、該多孔質膜の表面に無孔質薄膜が形成されており、且つ、該多孔質膜に、基板から無孔質薄膜に向かう貫通孔が形成された積層基板を提供する。
【解決手段】本発明の積層基板は、多孔質膜で被覆された基板であり、前記多孔質膜の表面に無孔質薄膜が形成されており、基板から無孔質薄膜に向かう複数の互いに並行する貫通孔が前記多孔質膜に形成されている。 （もっと読む）

【課題】Ｐ型ドープシリコン前駆体を効率よく生成する。
【解決手段】シクロペンタシラン溶液１１に、ドーパントをラジカル化するための第１の波長の光と、シクロペンタシランをラジカル化するための第２の波長の光を含む紫外線１５を高圧水銀ランプ１４から照射し、同時にドーパントガス１６としてのジボランガスをシクロペンタシラン溶液１１に供給することにより、シクロペンタシランの重合体にドーパントが結合したＰ型ドープシリコン前駆体を生成する。 （もっと読む）

【課題】防波機構を融液液面と離面しないように設けることにより、液面に生じる揺れの程度を減ずる多結晶体または単結晶体の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】原料融液４０１、４０３を貯留する第１の耐熱性容器３と第２の耐熱性容器２とを備え、第２の耐熱性容器２中の原料融液４０１を第１の耐熱性容器３中に供給する製造装置であって、第１の耐熱性容器３中の原料融液４０３の液面と離面しないように第１の耐熱性容器３中に防波機構３０１を設ける。 （もっと読む）

【課題】多孔質の複合酸化物粒子の表面を多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆した種々の微粒子構造を提供すると共に、該微粒子を含有する被膜を基材の表面に形成して、低屈折率で、樹脂等との密着性、強度、反射防止能等に優れた被膜付きの基材を提供する。
【解決手段】微粒子は、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子が、厚さが０．５〜２０ｎｍである多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆されてなる。前記微粒子は、珪素に直接結合した有機基を含むことが好ましく、該有機基が直接結合した珪素のモル数（Ｓ_R）と全珪素のモル数（Ｓ_T）の比Ｓ_R／Ｓ_Tが０．００１〜０．９であることが好ましい。被膜付基材は、前記した微粒子と被膜形成用マトリックスを含む被膜が基材表面に形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】低屈折率でそれを長期に維持可能であり、高硬度でかつ被コーティング材料への膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】膜の表面および内部に存在する細孔が直径２ｎｍ以下のミクロ孔のみであって、鉛筆硬度が５Ｈ以上であり、分光エリプソメータを用いて波長６５５ｎｍの光を膜表面に対して入射角７５度にて入射させた際の屈折率が１．３３以下である多孔質シリカ膜であり、少なくとも、テトラアルキルオルソシリケート、メタノール若しくはエタノール、ヒドロキシケトン誘導体および水を混和して反応させる工程を含む方法により製造する。 （もっと読む）