【課題】液相プロセスを用いて、安全かつ所望な膜厚の良質な膜を形成することができる高次シラン組成物を提供すること。
【解決手段】上記高次シラン組成物は、高次シラン化合物および溶媒を含有する組成物であって、前記溶媒が、二重結合を１つまたは２つ有し、アルキル基を有さず、炭素および水素のみから構成され、屈折率が１．４０〜１．５１であり、比誘電率が３．０以下であり、そして分子量が１８０以下である環状炭化水素を含有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高透過率かつ高導電性を有し、表面が平坦であり耐熱性に優れた金属微粒子で構成される網目状構造物を含有する透明導電性膜および前記透明導電性膜積層基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子において、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎの金属あるいは前記金属を２種類以上含む合金を加熱焼成して得られる酸化ケイ素ゲル体膜を主成分とし、金属微粒子で構成される網目状構造物が内包されたことを特徴とする透明導電性膜及び透明導電性膜積層基板である。 （もっと読む）

【課題】基材の面粗度に関係なく、優れた耐食性を十分に発揮できる複合膜、およびその形成方法を提供する。
【解決手段】基板２０上に設けられた、シリカと樹脂を含有するコーティング膜１１と、該コーティング膜１１上に設けられたシリカ膜１２とを備えたことを特徴とする複合膜１０、および基材２０上に、ポリシラザンと、樹脂と、ポリシラザンとは反応せず、かつポリシラザンが溶解する溶媒とを含有する混合液を塗布し、乾燥させてコーティング膜１１を形成するコーティング膜形成工程と、前記コーティング膜１１上に、ポリシラザン溶液を塗布し、乾燥させてポリシラザン膜を形成するポリシラザン膜形成工程と、前記ポリシラザン膜中のポリシラザンをシリカに転化して、シリカ膜１２を形成するシリカ膜形成工程とを有することを特徴とする複合膜の形成方法。 （もっと読む）

自己組織化シリカ縮合物、さらにはコーティング組成物におけるその使用が記載されている。自己組織化シリカ縮合物は、中鎖状〜長鎖状トリアルコキシシラン化合物の加水分解により形成可能である。自己組織化シリカ縮合物を含有するコーティング組成物は、改良された耐引掻き性および耐擦傷性を有するコーティングを提供しうるとともに、優れた上塗り付着性を有しうる。 （もっと読む）

【課題】脆さや密着性が改善された多孔性シリカ膜および積層基板、それらの製造方法および信頼性と光取り出し効率に優れたエレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】屈折率が１．１０〜１．３５であり；表面凹凸の最大値が１００ｎｍ以下であり；熱重量測定−質量スペクトル分析において、炭素数１〜４のアルコール類のうち少なくとも一種の物質のピークを、その物質の７６０ｍｍＨｇにおける沸点よりも高温域で与える；多孔性シリカ膜により、上記課題を解決した。また、積層基板は、基板上に上記多孔性シリカ膜を形成して得ることができ、エレクトロルミネッセンス素子は、上記積層基板を有し、その積層基板上に透明電極、エレクトロルミネッセンス層および陰極をこの順で積層して得ることができる。 （もっと読む）

【課題】リチウム二次電池において、不可逆容量を低減し、かつ、充放電サイクル特性を向上させる。
【解決手段】リチウム二次電池用負極の製造方法は、集電体５１上にケイ素を含む活物質膜５３を形成する工程（Ａ）と、チャンバー内において、減圧状態で活物質膜５３にリチウム５５を付与する工程（Ｂ）と、工程（Ｂ）の後、減圧状態のチャンバーに炭酸ガスを供給して、チャンバー内の圧力を上げる工程（Ｃ）と、工程（Ｃ）の後、炭酸ガスを含む雰囲気中で、活物質膜５３が形成された集電体５１を所定の温度で保持する工程（Ｄ）とを包含する。 （もっと読む）

【課題】基材の形状やサイズに依らず製膜が可能なスプレーコート法を用い、かつ屈折率が低く、耐久性にも優れたシリカ系多孔質膜の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカ系多孔質膜の製造方法において、アルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるアルコキシシラン類群より選ばれる一種と、界面活性剤と、２種以上の有機溶媒と、水とを含むシリカ系組成物を霧状に噴出することにより、透光基材上にシリカ系前駆体を製膜する製膜工程、該シリカ系前駆体を粗乾燥する粗乾燥工程、及び該シリカ系前駆体を１５０℃以上の温度で加熱することでシリカ系多孔質膜とする加熱工程を含むものとする。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、湿度変化に対して安定なシリカ膜が形成可能な組成物および該組成物から作製される反射防止膜基板を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物を含有する組成物であって、該組成物を基板に塗布し、４００℃以上、４５０℃以下で、１分以上、１時間以下焼成して得られた膜の屈折率が１．２５以下とし、かつ該組成物を４００℃以上、４５０℃以下で、１分以上、５時間以下焼成して得られた粉末の、２５℃での相対水蒸気圧０．３＜Ｐ／Ｐ_０＜０．９における水蒸気吸着量差Δが０．０３ｇ／ｇ以下とする。 （もっと読む）

【課題】成膜チャンバー及びその部材や排気系や配管等を腐食することなく、低誘電率、低屈折率、及び高機械的強度を有し、疎水性の改良された多孔質膜を作製する方法、多孔質膜、並びに多孔質膜の前駆体組成物の溶液を提供すること。
【解決手段】式：Ｓｉ(ＯＲ^１)_４及びＲ_ａ(Ｓｉ)(ＯＲ^２)_４−ａ(式中、Ｒ^１は１価の有機基を表し、Ｒは水素原子、フッ素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数であり、Ｒ、Ｒ^１及びＲ^２は同一であっても異なっていてもよい)で示される化合物から選ばれた化合物と、熱分解性有機化合物とを含む多孔質膜の前駆体組成物の溶液であって、ｐＨが５〜９である溶液を基板上に塗布し、所定の温度範囲で焼成させ、得られた多孔質膜に対する紫外線照射後、ヘキサメチルジシラザン、ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、トリメチルシリルイミダゾール及びトリメチルアミンジメチルアミンから選ばれた疎水性化合物を所定の温度で気相反応させ、疎水化された多孔質膜を作製する。 （もっと読む）

超疎水性コーティング、超疎水性コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびに超疎水性コーティングを調製する方法が提供される。例示的な超疎水性デバイスは、基材構成部分と、この基材構成部分を覆って配置された１層または複数の超疎水性コーティングであり、これらの１層または複数の超疎水性コーティングの少なくとも１層が、少なくとも約１５０°の水接触角および約１°未満の接触角ヒステリシスを有する超疎水性コーティングとを含むことができる。これらの１層または複数の超疎水性コーティングは、超高水分含量酸触媒作用によるポリシリケートゲルを含むことができ、このポリシリケートゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。
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【課題】透過特性に優れ、かつ膜応力が小さくクラックの発生がないケイ素化合物膜を提供する。
【解決手段】第一段階で、ガラス基板１上に、アルキル基がＳｉに結合されたシロキサン骨格の低分子材料に溶媒，シリカ粒子を混合したペースト材料２ａをダイコートを用いて塗布する。塗布後、低沸点の溶媒を揮発させるために、６０〜１００℃の範囲で大気中にて乾燥し、その後、２００℃〜３００℃の範囲で大気雰囲気中において熱処理によって硬化反応させ、酸化ケイ素を主体とする膜２ｂを形成する。第二段階では、含まれるシリカ粒子が溶媒を除いた固形分の体積比で１５％含有するペースト材料３ａを、第一段階で形成した膜２ｂ表面上に塗布する。塗布量は硬化後の膜３ｂの膜厚が約０．５μｍとなるように塗布し、乾燥，熱硬化処理を行い、前記膜２ｂを酸化ケイ素を主体とした膜４とする。 （もっと読む）

【課題】高温で熱処理を施すことなく、結晶性の高い良好なシリコン膜を形成することが可能なシリコン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ポリシラン修飾シリコン細線を含む液体を調製（Ｓ１０１）したのち、基体の上にポリシラン修飾シリコン細線を含む液体を用いて塗布膜を形成（Ｓ１０２）し、この塗布膜を加熱する（Ｓ１０３）ことにより、シリコン膜を形成する。これにより、高温で加熱せずに、塗布膜中においてシリコンの結晶化が促進される。 （もっと読む）

【課題】簡単な操作で、しかも基材に熱影響を与えずに短時間に、緻密なシリカ膜を形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材１の表面１ａにポリシラザン含有膜３を形成する工程と、大気圧プラズマ領域を通過させたキャリアガスＰを前記ポリシラザン含有膜３に吹き付けてシリカ膜４へ転化させる工程と、を有することを特徴とするシリカ膜４の形成方法を用いることにより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】シラフィンを用いたバイオシリカの新規製造法等を提供すること。
【解決手段】本発明のバイオシリカ製造法は、シラフィンを用いてバイオシリカ粒を形成する場合に、使用するシラフィンのリピートユニット濃度、および／又は、形成時の温度を調節することにより、形成するバイオシリカ粒の粒径を制御する。また、本発明のバイオシリカ固定基板の製造法は、所定の結晶面を有する基板上にシラフィンを吸着させて、基板上でシラフィンによりバイオシリカを形成させる。 （もっと読む）

【課題】化学合成方法を用いて、固体化したマトリックス中に均一に分散された、微細な金属ナノ粒子を有する金属ナノ粒子無機複合体の製造方法およびこの製造方法による金属ナノ粒子無機複合体を提供する。
【解決手段】基板上に、金属アルコキシドを酸触媒の作用により部分加水分解するゾルゲル法で、微細孔を有する酸化膜１４を形成する酸化膜形成工程と、この酸化膜１４を酸性の塩化スズ水溶液と接触させるＳｎ析出工程と、微細孔からＳｎ^２＋イオンを除去するＳｎ^２＋イオン除去工程と、酸化膜１４を金属キレート水溶液と接触させ、微細孔中に金属ナノ粒子１２を析出させる金属ナノ粒子析出工程と、微細孔から金属イオンを除去する金属イオン除去工程を備えることを特徴とする金属ナノ粒子無機複合体１０の製造方法およびこの製造方法による金属ナノ粒子無機複合体１０。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、水に対して安定なシリカ多孔質体を提供する。
【解決手段】シリカ多孔質体を、屈折率を１．３以下にし、水に浸漬する前と、水に２４時間浸漬した後との波長５５０ｎｍでの屈折率差が０．１５以下とする。 （もっと読む）

本発明は、
（ａ）加水分解的な縮合によって形成され、大きさが５〜２０ｎｍの範囲の、第１の酸化物粒子、
（ｂ）直径が、８０〜３００ｎｍの範囲の第２の粒子、
（ｃ）加水分解的な縮合によって形成される酸化物粒子のための原料が溶解可能であり及びその加水分解及び縮合が許容され又は促進される第１の水性溶媒、
（ｄ）所定の定義を有するアルコール、エーテル、有機酸、エステル、ケトン、アミン、及び酸アミド、及びこれらの混合物から選ばれる、少なくとも１種の第２の溶媒、を含むことを特徴とする被覆材料に関する。
本発明は、更に、被覆物が施された基礎部、特に、光起電力−及び温水コレクターの分野に適切な、ガラスに関し、ここで上記被覆物は、少なくとも２種の粒子部分から構成され、第１の部分の粒子は、その直径範囲が５〜２０ｎｍであり、第２の部分の粒子の直径は、８０〜３００ｎｍの範囲であり、第２の部分の粒子は、該粒子のケーゲル（山状体、又はピン状体）からケーゲルまでを測定して、相互の平均間隔が、２０〜２００ｎｍの範囲であり、第１の部分の粒子は、所定の孔分布を有する孔を有し、その最大値が、１〜６ｎｍの範囲である。基礎部の被覆物は、上記被覆物材料を使用して製造される。 （もっと読む）

【課題】低誘電性、接着性に優れると共に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、（ａ）成分：式（１）；Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎで表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、（ｂ）成分：（ａ）成分を溶解可能な溶媒、及び（ｃ）成分：オニウム塩を含み、（ａ）成分では、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｈ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、及びＣから成る群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．５０モル以下であり、１５０℃で３分間加熱したときに得られる被膜の応力が１０ＭＰａ以上であり、且つ、最終硬化により得られる被膜の比誘電率が３．０未満となる硬化特性を有する。 （もっと読む）

【課題】微小な球形形状のメソポーラスシリカ微粒子を得ることができ、また高温焼成を伴なわずにＳＤＡを液相中で抽出除去することができると共に、表面への化学修飾を容易に行なうことができるメソポーラスシリカ微粒子を得ることができるメソポーラスシリカ微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシラン、アミノ基を有するアルコキシシラン、４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤、２つ以上の水酸基を有する多価アルコール、及び水を含有する混合液中で、テトラアルコキシシランとアミノ基を有するアルコキシシランをアルカリ存在下で共加水分解反応させることにより、メソ孔を表面に有する球状のシリカナノ粒子を生成させる。 （もっと読む）

【課題】メソ細孔が基板上に略垂直に配向したメソポーラスシリカ膜、メソポーラスシリカ膜構造体、及び該構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】（１）平均細孔周期が１．５〜６ｎｍのメソ細孔構造を有するシリカ膜であって、該メソ細孔が膜表面に対して７５〜９０°の方向に配向しているメソポーラスシリカ膜、（２）該メソポーラスシリカ膜が基板上に形成された構造体、及び（３）特定の陽イオン界面活性剤を特定量含有する水溶液を調製し、該水溶液中に基板を浸し、加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源を特定量加え、１０〜１００℃の温度で撹拌して、基板表面にメソポーラスシリカ膜を形成した後、陽イオン界面活性剤を除去するメソポーラスシリカ膜構造体の製造方法である。 （もっと読む）