【課題】太陽電池に用いる電極として利用可能な新たな半導体電極、半導体電極を用いた太陽電池、及び半導体電極の製造方法を提供する。
【解決手段】太陽電池１は、半導体電極１０と、対向電極２０と、電解質３０と、封止材４０とを有する。半導体電極１０は、光透過性を有し、光が入射する入射面１１ａを有する。対向電極２０は、半導体電極１０に対向して配設される。電解質３０は、半導体電極１０と対向電極２０との間の空間に配設される。封止材４０は、空間に配設される電解質３０を封止する。半導体電極１０は、透明電極１２を有する。透明電極１２は、光透過性を有し入射面１１ａを有する基板１１において、入射面１１ａの反対の表面に配設される。透明電極１２は、基板１１が接合される表面の反対面に金属酸化物層１３が配設される。金属酸化物層１３は、金属酸化物の微粒子１４と、ケイ素微粒子１５とを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、異方性粒子の異方性部位の面積を容易かつ精密に変えることが可能な異方性粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】
第一の粒子１１と、第一の粒子１１の平均粒径よりも平均粒径が小さく、かつ、第一の粒子１１とは異なる材料からなるマトリクス材１２、あるいはマトリクス材１２の前駆体とを含む液体１３を基板１４上に付与することにより、第一の粒子１１の間にマトリクス材１２が第一の粒子１１の平均粒径未満の高さで充填されている第一の粒子１１の単層膜を基板１４上に形成する工程と、第一の粒子１１のマトリクス材１２から露出している部分を改質することにより異方性粒子１５を得る工程と、異方性粒子１５を１４基板及びマトリクス材１２から分離する工程と、を有することを特徴とする異方性粒子１５の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 導電性を有すると共に、光学的な透明性を備えたシリカ系中空粒子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明に係る導電性シリカ系中空粒子の製造方法は、（ａ）シリカ系中空粒子を合成する工程と、（ｂ）前記シリカ系中空粒子に塩化スズ（ＩＶ）溶液を添加して、前記シリカ系中空粒子にスズイオンを吸着させる工程と、（ｃ）スズイオンが吸着されたシリカ系中空粒子を分離して焼成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】粉体の輸送、分級などの粉体操作の操作性に優れた金属シリコン粉体である塩基性金属シリコン粉体を提供すること。
【解決手段】金属シリコン粉体と、表面積１ｍ^２当たり０．１μｍｏｌ以上１０μｍｏｌ以下の塩基当量となるように前記金属シリコン粉体の表面に接触させた塩基性物質とを有する塩基性金属シリコン粉体。金属シリコン粉体表面において僅かに酸化物（シリカ）層が存在することでそのシリカと塩基性物質とが相互作用して効果が得られるものと思われる。このことは純粋な金属シリコンを破砕して金属シリコン粉体を製造した直後に塩基性物質を接触させても粉体の操作性向上効果が低いことからも裏付けられる。つまり、金属シリコン粉体表面に存在する痕跡程度の酸化物層であっても塩基性物質と反応するには充分であると考えられる。 （もっと読む）

【課題】環式オレフィン重合体などの重合体に配合した場合の分散性に優れる変性シリカを与えることができる、変性シリカの製造方法を提供する。
【解決手段】エポキシ基含有シランカップリング剤で表面処理されたシリカと、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、およびヒドロキシフェニル基から選択される官能基を有する環式オレフィン重合体と、を溶媒中で混合する変性シリカの製造方法。エポキシ基含有シランカップリング剤で表面処理されたシリカの体積平均粒径は１μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、細孔を有するシリカゲルを原体とて用い、粒径を維持したまま、細孔径、細孔容積を減少させる、すなわち細孔物性が調整されたシリカゲルを製造する方法及び細孔を有するシリカゲルの細孔物性を調整する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】細孔を有するシリカゲルとアルコキシシラン及び／又はその誘導体を水存在下で加水分解し、マイクロ波を照射することで、シリカゲルの粒径を維持したまま、細孔物性を制御できる。すなわち、細孔径、細孔容積を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】高い防汚性を付与することができる表面修飾シリカ粒子及び当該シリカ粒子を含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】シリカ粒子表面にシリルオキシ基を介して、ポリアルキルシロキサン鎖又はポリアリールシロキサン鎖と、活性エネルギー線重合性基とを修飾したことを特徴とする表面修飾シリカ粒子。
【効果】当該シリカ粒子は、各種コーティング材の添加剤として用いることができ、当該コーティング材を塗布した物品に優れた防汚性を付与することができる。特に、防汚性が要求される保護フィルム等に有用である。 （もっと読む）

【課題】シリカフュームに代表されるシリカ質微粉末の分散性を効率よく改善し、コンクリートやモルタルなどの圧縮強度や流動性の改善に寄与しうるシリカ質微粉末を得ることを一の目的とする。
【解決手段】 本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触させることを特徴とするシリカ質微粉末の改質方法を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られたことを特徴とする改質シリカ質微粉末を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られた改質シリカ質微粉末を含むことを特徴とするセメント組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】無機ナノ粒子の分散性を改善し、また高分子膜の気体透過特性を改善する。
【解決手段】ナノオーダーの粒子径を有するシリカナノ粒子のような無機ナノ粒子の表面に、ハイパーブランチ高分子またはデンドリマー高分子を付加することにより得られた表面ハイパーブランチまたはデンドリマー修飾無機ナノ粒子をマトリクス樹脂中に分散し、製膜することにより気体分離膜を作製する。表面ハイパーブランチ修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を１個のカルボキシル基および２個以上のアミノ基またはハロゲン原子を有する化合物と反応させることにより作製することができ、表面デンドリマー修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を３個以上のカルボキシル基を有する化合物で処理、反応させた後、２個のアミノ基を有する化合物で処理、反応させ、これを繰り返すことにより作製することができる。 （もっと読む）

【課題】 シリカゲルの用途の拡大を図るために、ケイ酸アルカリ溶液からシリカゲルを筒状又は板状に析出させることのできるシリカゲルの製法を提供することにある。
【解決手段】 ケイ酸アルカリ溶液のpH値を硫酸で11.0以上12.0以下に調整し、調整後のケイ酸アルカリ溶液を電気分解して陽極線の表面にシリカゲルを円筒状に析出させる。 （もっと読む）

【目的】
ナノ構造を有する無機多孔質体の合成法は、古くから開発されているにも係わらずこれを応用加工した商品開発ができなかった。そこで、ナノ構造を有する無機多孔質体の表面を改質することによって、有機材料との相溶性を向上させ、しかも有機材料に対する添加量を増やして加工性を向上させた多孔質体を提供する。
【構成】
本発明のナノ構造を有する無機多孔質体の表面を改質する方法は、ゾルーゲル法による加水分解、縮重合によって得られた湿潤ゲルの状態でシランカップリング剤を添加し、その後、超臨界流体で乾燥させて得られるものである。 （もっと読む）

本発明は、シラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体の製造方法であって、水性媒質中において、ａ）エポキシ官能性を含む、少なくとも１種のシラン化合物と、ｂ）エポキシ官能性を有しない、コロイドシリカ粒子を改質することが可能な少なくとも１種のシラン化合物と、ｃ）コロイドシリカ粒子とを、任意の順序で混合して、ａ）およびｂ）に由来するシラン化合物を含有するシラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体を形成するステップを含む方法に関する。本発明はまた、前記方法によって得ることが可能な分散体にも、またコーティング用途におけるその分散体の使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】従来のポリマー材料を用いたプロトン伝導体では、耐熱性、化学的安定性および寸法安定性に課題があり、さらに、１００℃を越える温度では、プロトン伝導体として安定に作動させることが困難なため、燃料電池の電解質に用いた場合に高温で安定に作動することができなかった。
【解決手段】少なくとも下記（１）式のアニオン基を有し、１５０℃、相対温度１００％におけるプロトン伝導度が０．１Ｓ／ｃｍ以上であることを特徴とするプロトン伝導性シリカ。
【化１】


（ただし、ＸはＣ_ｍＨ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＦ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＣｌ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＢｒ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、アンスリル基から選ばれる置換基である。） （もっと読む）

【解決手段】本発明は、表面改質されたことを特徴とする、エアロゲル型ストラクチャードシリカ、エアロゲル型ストラクチャードシリカを調製し、場合によってまず水又は酸性化した水、及び次に溶媒に場合によって溶解されていてよいシラン化剤を吹きつけ、後混合し、及び混合物をコンディショニングすることを特徴とする、表面改質された、エアロゲル型ストラクチャードシリカの製造方法、その使用を提供する。
【効果】本発明により、表面改質されたことを特徴とする、エアロゲル型ストラクチャードシリカ、その製造方法、その使用を提供できる。 （もっと読む）

【課題】別途のミーリング工程なしでセラミック粉末粒子を満遍なく分散させセラミック粉末らを満遍なく分散させるために必要な多くの工程を画期的に改善することができ、セラミックスラリー製造において粉砕工程が要らなくなるので、セラミック粉末の結晶性に損傷なしに、セラミック粉末粒子を均一に分散させることができ、高品質のセラミックスラリーを製造することができる。
【解決手段】洗浄されたセラミック粉末表面に親核性作用基を形成させる段階、及び上記親核性作用基が形成されたセラミック粉末表面にアジリジン同等体を連鎖重合反応させ末端にアミン基を有するポリマー層でコーティングする段階、とを含むことを特徴とするセラミック粉末コーティング方法、上記セラミック粉末を分散溶媒に酸と一緒に添加して正電荷を形成させ分散性を向上させる方法、上記方法により製造されたセラミック粉末及びセラミックスラリーを提供する。 （もっと読む）

本発明は、トナー粒子の表面処理および静電像の乾式現像に用いる現像剤に関する。
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【課題】表面封止シリカ系粒子、その製造方法および該粒子を混合してなる半導体封止用樹脂組成物の提供。
【解決手段】平均粒子径２〜３００ｎｍのシリカ系微粒子を含む分散液を噴霧乾燥して得られる平均粒子径０．５〜５０μｍのシリカ系多孔質粒子の表面に存在する細孔を、平均粒子径２〜５０ｎｍのシリカ微粒子（粒子表面が溶解されたものを含み、以下同じ）および／またはその溶解物、または該シリカ微粒子および／またはその溶解物と珪酸の脱水・縮重合物、または該シリカ微粒子および／またはその溶解物と有機ケイ素化合物の加水分解・縮重合物で封止してなる、耐湿性を備えた表面封止シリカ系粒子およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】５７３°Ｋ〜８７３°Ｋの範囲で、ＭｏとＳｉの同時酸化が起こり、さらにＭｏ酸化物の蒸発減少が伴うという、ペスト（粉化現象）を効果的に防止できるＭｏＳｉ_２粉末、同粉末の製造方法、同粉末を用いた発熱体及び発熱体の製造方法の提供。
【解決手段】ＭｏＳｉ_２粉末を酸化性の酸又は酸化剤を含む酸で洗浄し、ＭｏＳｉ_２粉末の比表面積が０．２ｍ^２／ｇ以上であり、かつ表面に酸化皮膜を備え、また酸素含有量が２０００ｐｐｍ以上であるＭｏＳｉ_２粉末とし、さらに、該粉末を用いてペスト（粉化現象）を効果的に防止できるＭｏＳｉ_２粉末を主成分とする発熱体を得る。 （もっと読む）

【課題】 担体用粒子として有用な、内部に粒子間空隙構造を有し、細孔径の均一性が高い多孔質シリカ粒子を提供する。
【手段】 内部に粒子間空隙構造を有する多孔質シリカ粒子であって、該多孔質シリカ粒子の平均粒子径（ＰＤ）が０．５〜５０μｍ、比表面積が３０〜２５０ｍ²／ｇであり、更に該多孔質シリカ粒子が下記１）〜３）の要件を満たすものであることを特徴とする多孔質シリカ粒子。
１）細孔容積が０．１０〜０．２５ｃｃ／ｇの範囲
２）細孔径分布（Ｘ軸：細孔径、Ｙ軸：細孔容積を細孔径で微分した値）におけるピーク値の細孔径（Ｄ１）が２〜５０ｎｍの範囲
３）（Ｄ１）×０．７５〜（Ｄ１）×１．２５ｎｍの範囲内の細孔径を有する細孔の合計細孔容積が、全細孔容積の８０％以上 （もっと読む）

シリコン−オン−インシュレータ構造体の劈開された表面を処理する方法を開示している。当該シリコン−オン−インシュレータ構造体は、ハンドルウェハ、シリコン層、上記ハンドルウェハと上記シリコン層との間の誘電体層を含む。上記シリコン層は、上記構造体の外表面を規定する劈開された表面を有する。開示された当該方法は、上記シリコン−オン−インシュレータ構造体から劈開面に沿ってドナーウェハの一部が分離される際に与えられる表面ダメージ及び欠陥を除去するため、上記シリコン−オン−インシュレータ構造体を処理するのに要する時間とコストを削減するエッチングプロセスを含む。当該方法は、上記構造体をアニールする工程、上記劈開された表面をエッチングする工程、上記劈開された表面上において非接触スムージングプロセスを実行する工程と、を含む。
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