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Fターム[4G075AA24]の内容

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【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路13及び高周波電力回路11を有する高周波電源と筐体21と放電電極2とを備えたプラズマ処理装置において、筐体21内に設置された放電電極2と高周波電力回路11とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路13からの周波数信号を入力する。 (もっと読む)


【課題】速やかに成膜でき、不純物が少なく、緻密な有機薄膜を安定に複数回連続して形成可能な有機薄膜製造方法の提供。
【解決手段】基板上に形成されてなる化学吸着膜であって、前記基板が結晶性を有さず、かつ、化学吸着膜が結晶性を有しており、膜を構成している分子が規則的に高密度充填しており、かつ膜の面間隔が約4.1Åであることを特徴とする化学吸着膜。 (もっと読む)


【課題】低コスト化を図れる導膜製造装置、製造した電気機械変換素子、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】第1のアライメント調整工程では着弾位置251をカメラ205で捕捉し着弾位置251がカメラ205の撮影撮影基準位置252に一致するように基板又は液滴吐出ヘッド201を相対的に移動する。第2のアライメント調整工程ではレーザレッドによってレーザ光を照射して照射跡を形成し照射跡をカメラ205で捕捉し照射跡がカメラ205の撮影撮影基準位置252に一致するように基板又はレーザヘッドを相対的に移動する。第3のアライメント調整工程では基板上に予め形成されているアライメントマークを撮像手段205で撮影したアライメントマークの形状に基づいて基板の向きを検知して基板の向きの調整を行いアライメントマークを撮像手段205の撮影基準位置に一致するように基板を移動することで基板の組付け位置の調整を行う。 (もっと読む)


【課題】電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れた放電電極および放電装置を提供することを目的とする。
【解決手段】従来の電極の部分を導電性の粉体5に替えることで、温度影響による電極剥がれを防止することができる。また、従来の誘電体バリアの部分を、セラミックあるいは石英で形成され、粉体5を収容可能に構成した筒6に替えることで、筒6と粉体5との間に隙間が生じにくいので、放電電圧が上昇しにくく、発熱しにくくなる。また、筒6がセラミックあるいは石英で形成されているので、耐熱性に優れ、ピンホールもなく、非常に長寿命が期待できる。その結果、電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れたプラズマ用電極1を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子のバッファ層として、低コストに、かつ、より高い品質のバッファ層を得る。
【解決手段】化学浴析出装置1において、成膜用基板10の成膜面10aに対して膜を化学浴析出させるための反応液2を蓄える反応槽3と、成膜用基板10の裏面が密着固定されるステンレスからなる固定面21aを有し、少なくとも成膜面10aを反応液2に接触させるように成膜用基板10を保持する基板保持部20と、成膜用基板10をその裏面側から加熱する、固定面21aの裏側に装着されたヒーター30と、反応槽3中の反応液2の温度を制御する反応液温度制御部40とを備える。 (もっと読む)


【課題】異なる種類の溶液、微粒子または気体を精度良く噴霧することができ、厚さが均一な交互吸着膜を成膜できる噴霧装置を提供する。
【解決手段】噴霧部1では、同様の構成をした3つのノズル(アニオン溶液を噴霧するアニオン用ノズル13、カチオン溶液を噴霧するカチオン用ノズル11、リンス溶液を噴霧するリンス用ノズル12)が同一の水平方向に向いてノズル配置部14に配置されている。これらのノズル間の間隔に関する間隔情報に従って各ノズル夫々に応じて補正された経路でノズル配置部14を移動させながら、各ノズルが対応する溶液を噴霧する。 (もっと読む)


【課題】低温プラズマで生成するプラズマジェットを、簡易な構成により、効率良く発生させる沿面放電型プラズマジェット生成装置の提供。
【解決手段】円筒状アルミナセラミック4の内表面に線状の放電電極3を設け、かつ、その内部または外表面に面状の誘導電極5を設けた円筒型沿面放電素子2において、一方の端面(ガス流入口1)からガスを供給し他方の端面(噴出口6)から噴出させ、放電電極3と誘導電極5の間に高周波高電圧を印加して沿面放電を発生させプラズマ(沿面放電励起プラズマ)を生成することで噴出口6からプラズマジェットを噴出させる。 (もっと読む)


【課題】被処理体以外の部位への成膜を抑制した大気圧プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体内にアンテナとアースが形成された面放電型の誘電体バリア放電方式のプラズマ源において、被処理体を前記プラズマ源に略接触させ、被処理体に対してプラズマ源を設置した面とは反対の面にプラズマを生成するようにした。 (もっと読む)


【課題】低温反応を利用した薄膜堆積法は、付加価値の高いフルオロカーボン薄膜や炭素膜に変換し、リサイクルすることを可能にすることに加え、排ガスのリユースするための有効利用方法及び装置を提供する。
【解決手段】極低温に冷却された基材上に、フッ素含有排ガスを噴霧し、フッ素含有排ガスのみを凝縮薄膜として堆積させる工程と、該凝縮薄膜に雰囲気ガスとともに電子またはイオンまたは準安定励起種またはラジカルを照射することにより該フッ素含有排ガスを分解するとともに重合膜として固定化する工程と、固定化したフッ素含有重合膜を回収する工程を、含むフッ素含有排ガスの固定化方法。

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【課題】誘電体バリア放電方式の放電部の耐久性を向上させる。
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体バリア放電方式のプラズマ源の近傍に、コロナ放電方式のプラズマ源を設置し、コロナ放電によって生成されるプラズマを補助プラズマとして用いて、誘電体バリア放電によって生成される主プラズマの放電維持電圧を低下させる。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理空間からの排気を均一に行う。
【解決手段】プラズマ処理空間を囲う真空チャンバ2と、その壁を貫通する開口2aに対して外側から吸引口51aが連通接続された真空ポンプ50と、プラズマ処理空間に臨んで基板を乗載可能な基板支持体12とを備えたプラズマ処理装置において、真空ポンプ50を介して真空チャンバに基板支持体12を固設する。また、その支持脚12aが、開口2aの中央を通り、真空ポンプ50の支軸52を兼ねるようにする。さらに、その支軸52を中空の杆体にする。これにより、プラズマ処理空間から開口に至る排気路が基板支持体の周りで同じになるうえ、その開口のところでも同一性が維持されて、排気が均一になる。コンパクトな装置にもなる。 (もっと読む)


【課題】脂質二重膜を再現性よく形成することができ、形成された脂質二重膜が安定に維持される、脂質二重膜の形成方法及びそのための器具を提供すること。
【解決手段】脂質二重膜の形成方法は、孔径が500 nm〜500μmの1個又は複数の貫通孔を有する隔壁を介して隔てられた2つのウェルのそれぞれに脂質二重膜形成性脂質溶液を添加する工程と、各ウェルに水又は水溶液を添加して前記脂質溶液中に水又は水溶液の液滴を形成させる工程と、この状態で放置して前記貫通孔の部分に脂質二重膜を形成させる工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が2次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】曲面、傾斜および段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが0.1μm〜10000μmである表面が一部若しくは全部である基板上に形成する、粒子が2次元に最密充填した単粒子膜であって、
下記式(1)で定義される粒子の配列のずれD(%)が10%以下であることを特徴とする単粒子膜。
D(%)=|B−A|×100/A・・・(1)
(式(1)中、Aは前記粒子の平均粒径、Bは前記単粒子膜における前記粒子間の平均ピッチを示す。) (もっと読む)


【課題】特定の生成物や副次生成物の生成量を低減可能とされた被処理物の処理方法及び処理装置、さらには、特定の生成物が生成するように制御可能とされた被処理物の処理方法及び処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明の被処理物の処理方法は、温度変化することにより成分状態が変化する気体を含む被処理物が活性化状態にある時に、前記被処理物が特定の成分に変化させられる温度領域以下に前記被処理物を急冷することによって、前記特定の成分が存在する温度領域の保持時間を短くして前記被処理物の成分状態を変化させる処理を施すことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被加工物の被加工面を加工することにより平坦性が高く、かつ加工変質層のない被加工面を形成することのできる加工方法を提供する。
【解決手段】処理溶液30中に被加工面20aを有する被加工物20を設置する被加工物設置工程と、光触媒膜12を被加工面20aに対向させて処理溶液30中に設置する光触媒膜設置工程と、光触媒膜12に光を照射して、光触媒膜12の光触媒作用により処理溶液30から活性種40を生成させる活性種生成工程と、処理溶液30に添加されたラジカル捕捉剤42により、処理溶液30中における活性種40の拡散距離を制御する活性種拡散距離制御工程と、被加工面20aの表面原子22と活性種40を化学反応させ、処理溶液30中に溶出する化合物50を生成させることにより被加工物20を加工する加工工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】被照射物が受ける紫外線の照度を、低コストで効果的に向上することが可能な紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】被照射物の搬送方向と直交する照射物幅方向に沿って並ぶ複数の紫外線光源32を有する少なくとも1つの光源ユニットと、光源ユニットと被照射物との間に配置され、前記各光源ユニットを搬送方向の上流側及び下流側から挟むように配置された一対の反射部材61及び62と、を備え、各反射部材は、被照射物と対向する第1反射部611及び621を有する紫外線照射装置。 (もっと読む)


【課題】エキシマランプが複数並列に配置された光照射装置において、エキシマランプの照度を測定する照度センサーを適正に配置して、エキシマランプからの照射光を遮断することなく、有効照射領域内にあるランプ中央部の正常なエキシマ放電を正確に検出することのできる構造を提供することである。
【解決手段】前記エキシマランプの放射光を受光する照度センサーが、当該エキシマランプの長手方向における一方の端部に対応して配置され、受光面がエキシマランプの中央部に向いて傾斜していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 抗菌処理が必要な時にダイヤモンドライクカーボン膜を衛生装身材にコーティングすることができる。
【解決手段】 インナ電極13の表面に立体マスク35を装着支持し、導入管23及び導入ガイド21を介して処理ガスを供給すると共に、電源装置26により治具11を介してインナ電極13に負電圧を印加し、アウタ電極22との対向部位に炭素を含むプラズマ雰囲気を形成し、立体マスク35にダイヤモンドライクカーボンを成膜し、抗菌処理が必要な時に容易に抗菌処理を施す。 (もっと読む)


【課題】パターンニングされたコロイド結晶膜を効率よく製造するコロイド結晶膜製造方法を提供する。
【解決手段】モノマー及びポリマーからなる分散媒成分と、平均粒径が0.01〜10μmの範囲で且つ[単分散度(単位:%)]=([粒径の標準偏差]/[平均粒径])×100で表される単分散度20%以下のコロイド粒子を含有し且つコロイド粒子が反射ピークを有する分散液を準備する工程、コロイド分散液が0°から40°の範囲の接触角の基材を準備する工程、基材表面の一部の領域のコロイド分散液に対し接触角を0°から40°の範囲に表面処理を施し、表面処理後の前記一部の領域の接触角との差が4°以上となる領域にする工程、表面処理後コロイド分散液を塗布する工程、塗膜中の成分を重合させてコロイド結晶を固定化し、異なる接触角を有する領域の凹凸が形成されたコロイド結晶膜を得る工程、を含むコロイド結晶膜の製造方法。 (もっと読む)


パルスレーザ溶発に基づいて太陽光吸収化合物材料のナノ粒子をつくる方法が開示されている。この方法は、太陽光吸収化合物材料のターゲット材料を、10フェムト秒〜500ピコ秒のパルス幅のパルスレーザビームで照射して、ターゲットを溶発し、ターゲットのナノ粒子をつくる。ナノ粒子を集めて、ナノ粒子溶液を基板に塗布して、薄膜太陽電池をつくる。この方法は、出発ターゲットの組成と構造的な結晶相とを保持する。この方法は、薄膜太陽電池を非常に廉価に製造する方法になる。
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